ラスタースキャンとベクトル露光モジュールを搭載した、設定可能でコンパクトな卓上型マスクレスアライナー
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Product Description
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μMLAは、世界で最も売れている堅牢なμPGプラットフォームをベースに開発された、最先端の卓上型マスクレス・リソグラフィ・システムです。研究開発やラピッドプロトタイピングのためのエントリーレベルのツールとして最適で、マイクロ流体工学(細胞選別装置、ラボオンチップなど)、小規模マスク描画、マイクロ光学およびマイクロレンズアレイ、センサー製造、MEMS、2D材料やファンアウト電極のパターニングなど、多様なアプリケーションで高精度の微細構造を実現します。
多彩な露出モードと設定
μMLAは、2つの異なる露光モードにより柔軟性を提供します:
- ラスタースキャンモード(標準):構造物のサイズやパターン密度に関係なく、一貫した書き込み時間を維持し、優れた画質で高速露光を保証します。
- ベクトルスキャンモード(オプション):導波管のような構造物に理想的で、速度と精度の両方を提供します。
3つの光学コンフィギュレーションにより、解像度とスループットのバランスをカスタマイズでき、特定のアプリケーションに最適化するための簡単な切り替えが可能。その他の機能
- 描画モード:ナノワイヤーや2D材料の既存のパターンや電気接点をリアルタイムでその場で調整できます。
- グレースケール・モード:複雑なマイクロオプティクス用の2.5D構造化をサポート。
標準的な作業台に収まるコンパクト設計のµMLAは、多用途で高品質なリソグラフィ・アプリケーションのための包括的な一連の機能を提供します。
μMLAの詳細と、研究開発のニーズにどのように役立つかについては、弊社までお問い合わせください。
μMLAは、世界で最も売れている堅牢なμPGプラットフォームをベースに開発された、最先端の卓上型マスクレス・リソグラフィ・システムです。研究開発やラピッドプロトタイピングのためのエントリーレベルのツールとして最適で、マイクロ流体工学(細胞選別装置、ラボオンチップなど)、小規模マスク描画、マイクロ光学およびマイクロレンズアレイ、センサー製造、MEMS、2D材料やファンアウト電極のパターニングなど、多様なアプリケーションで高精度の微細構造を実現します。
多彩な露出モードと設定
μMLAは、2つの異なる露光モードにより柔軟性を提供します:
- ラスタースキャンモード(標準):構造物のサイズやパターン密度に関係なく、一貫した書き込み時間を維持し、優れた画質で高速露光を保証します。
- ベクトルスキャンモード(オプション):導波管のような構造物に理想的で、速度と精度の両方を提供します。
3つの光学コンフィギュレーションにより、解像度とスループットのバランスをカスタマイズでき、特定のアプリケーションに最適化するための簡単な切り替えが可能。その他の機能
- 描画モード:ナノワイヤーや2D材料の既存のパターンや電気接点をリアルタイムでその場で調整できます。
- グレースケール・モード:複雑なマイクロオプティクス用の2.5D構造化をサポート。
標準的な作業台に収まるコンパクト設計のµMLAは、多用途で高品質なリソグラフィ・アプリケーションのための包括的な一連の機能を提供します。
μMLAの詳細と、研究開発のニーズにどのように役立つかについては、弊社までお問い合わせください。
> 設置台数 210台
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Product Highlights
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直描リソグラフィー
マスクに関連するコスト、労力、セキュリティリスクがない露出の質
エッジラフネス ラスターモード 100 nm、ベクトルモード 30 nm、CD均一性 200 nm露光速度
4インチウエハ90分グレースケール・リソグラフィ
最大256階調のグレースケール露光機能は、標準構成の一部です。小さなフットプリント
640 mm x 840 mm x 530 mm / 25″ x 33″ x 21″ – 最小の卓上マスクレスリソグラフィ装置フレキシブルな構成
露光波長の選択、ラスターおよびベクタースキャンモジュールの選択フレキシブルな使用
ソフトウェアにより、解像度とスループット速度を簡単に切り替え可能ユーザー・フレンドリー
直感的なソフトウェアとツール操作、小さなサンプルの取り扱いが容易プラグアンドプレイ・セットアップ
プラグアンドプレイによるシンプルなインストールにより、導入時間を短縮し、コストを削減 -
Available Modules
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ラスタースキャン露光モード
優れた画質と忠実性で高速。書き込み時間は構造サイズやパターン密度に依存しない。365 nmまたは390 nmのLED光源ベクトルスキャン露光モード
曲線で構成される連続構造のパターニング – 滑らかな輪郭が必要な場合。405 nmおよび/または375 nmのレーザー光源3つの光学セットアップ
最小分解能0.6µm、1µm、3µm、各モード内で分解能可変オプションの概要カメラ
基板上のアライメントマークやその他の特徴の迅速かつ容易な位置決めグローブボックスの統合
制御された窒素環境下での高感度材料のパターニング用グローブボックスドロー・モード
リアルタイムの顕微鏡画像の上にBMPファイルをインポートして重ね合わせる – バーチャルマスクアライナーのように。光学オートフォーカス
小さなサンプル(10mm未満)の完璧な露光露出エリア
100 x 100mm2から 150 x 150mm2にアップグレード可能露光、波長、光源の選択
ラスタースキャンモード:365nmまたは390nmのLED光源。ベクトルスキャンモード:レーザー光源 405 nm または 375 nm
μMLAは、世界で最も売れている堅牢なμPGプラットフォームをベースに開発された、最先端の卓上型マスクレス・リソグラフィ・システムです。研究開発やラピッドプロトタイピングのためのエントリーレベルのツールとして最適で、マイクロ流体工学(細胞選別装置、ラボオンチップなど)、小規模マスク描画、マイクロ光学およびマイクロレンズアレイ、センサー製造、MEMS、2D材料やファンアウト電極のパターニングなど、多様なアプリケーションで高精度の微細構造を実現します。
多彩な露出モードと設定
μMLAは、2つの異なる露光モードにより柔軟性を提供します:
- ラスタースキャンモード(標準):構造物のサイズやパターン密度に関係なく、一貫した書き込み時間を維持し、優れた画質で高速露光を保証します。
- ベクトルスキャンモード(オプション):導波管のような構造物に理想的で、速度と精度の両方を提供します。
3つの光学コンフィギュレーションにより、解像度とスループットのバランスをカスタマイズでき、特定のアプリケーションに最適化するための簡単な切り替えが可能。その他の機能
- 描画モード:ナノワイヤーや2D材料の既存のパターンや電気接点をリアルタイムでその場で調整できます。
- グレースケール・モード:複雑なマイクロオプティクス用の2.5D構造化をサポート。
標準的な作業台に収まるコンパクト設計のµMLAは、多用途で高品質なリソグラフィ・アプリケーションのための包括的な一連の機能を提供します。
μMLAの詳細と、研究開発のニーズにどのように役立つかについては、弊社までお問い合わせください。
μMLAは、世界で最も売れている堅牢なμPGプラットフォームをベースに開発された、最先端の卓上型マスクレス・リソグラフィ・システムです。研究開発やラピッドプロトタイピングのためのエントリーレベルのツールとして最適で、マイクロ流体工学(細胞選別装置、ラボオンチップなど)、小規模マスク描画、マイクロ光学およびマイクロレンズアレイ、センサー製造、MEMS、2D材料やファンアウト電極のパターニングなど、多様なアプリケーションで高精度の微細構造を実現します。
多彩な露出モードと設定
μMLAは、2つの異なる露光モードにより柔軟性を提供します:
- ラスタースキャンモード(標準):構造物のサイズやパターン密度に関係なく、一貫した書き込み時間を維持し、優れた画質で高速露光を保証します。
- ベクトルスキャンモード(オプション):導波管のような構造物に理想的で、速度と精度の両方を提供します。
3つの光学コンフィギュレーションにより、解像度とスループットのバランスをカスタマイズでき、特定のアプリケーションに最適化するための簡単な切り替えが可能。その他の機能
- 描画モード:ナノワイヤーや2D材料の既存のパターンや電気接点をリアルタイムでその場で調整できます。
- グレースケール・モード:複雑なマイクロオプティクス用の2.5D構造化をサポート。
標準的な作業台に収まるコンパクト設計のµMLAは、多用途で高品質なリソグラフィ・アプリケーションのための包括的な一連の機能を提供します。
μMLAの詳細と、研究開発のニーズにどのように役立つかについては、弊社までお問い合わせください。
> 設置台数 210台
直描リソグラフィー
露出の質
露光速度
グレースケール・リソグラフィ
小さなフットプリント
フレキシブルな構成
フレキシブルな使用
ユーザー・フレンドリー
プラグアンドプレイ・セットアップ
ラスタースキャン露光モード
ベクトルスキャン露光モード
3つの光学セットアップ
オプションの概要カメラ
グローブボックスの統合
ドロー・モード
光学オートフォーカス
露出エリア
露光、波長、光源の選択
Customer applications
(Courtesy of Max-Planck-Institute for terrestrial microbiology)
Why customers choose our systems
「ハイデルベルグ・インストゥルメンツのマスクレスシステムは、グローブボックス内のクリーンルームの中心的なコンポーネントです。ハイデルベルグ・インストゥルメンツのマスクレス・システムは、私たちの期待以上に機能し、私たちの製造努力の中心でした。性能の向上や問題解決のサポートは素晴らしいものでした。"
ケネス・スティーブン・バーチ博士、教授
ボストン・カレッジ
米国、ボストン
「ハイデルベルグ・インストゥルメンツのμMLAは、ミクロン単位での迅速かつ正確なパターニングに成功しています。ハイデルベルグ・インストゥルメンツのµMLAは、ミクロン単位のパターニングを素早く正確に行うことに成功しています。そのDMDテクノロジーは、描画品質や再アライメントが正確なだけでなく、従来のテクノロジーよりもはるかに高速です。光学フォーカスは、小さなサンプルに対して決定的なアドバンテージとなる。非常にシンプルで直感的なソフトウェア・インターフェースも、この装置のユーザーやトレーナーから高く評価されています。"新しいユーザーは、回路プロトタイピングの重要なステップを1時間以内に自律的に行えるようになります。
Sébastien Delprat, PhD, リサーチエンジニア
CEA Saclay
Gif-sur-Yvette、フランス
「デンマーク工科大学の一部であるDTUナノラボでは、ハイデルベルグ・インストゥルメンツのマスクレス・アライナーを複数導入しています。これらのツールは、私たちの研究ベースのオペレーションに完璧に適合しており、また、多くの産業界のお客様にも汎用性の高いツールを提供しています。マスクレス・アライナーを導入してからの具体的な変化としては、マスク・アライナー用の新しいマスクの発注数が大幅に減少したことが挙げられます。全体として、マスクレス・アライナーには、担当者側からもユーザー側からも非常に満足しています。"
Jens H. Hemmingsen, Process Specialist
DTU Nanolab
Lingby, Denmark
Technical Data
書き込みモード I | ライト・モードII | 書き込みモードIII | |
---|---|---|---|
書き込み性能(ラスタースキャン露光モジュール) | |||
最小構造サイズ [μm] | 0.6 | 1 | 3 |
最小ラインとスペース [μm] | 0.8 | 1.5 | 3 |
アドレス・グリッド [nm] | 20 | 50 | 100 |
CD均一性[3σ、nm] | 200 | 300 | 400 |
5 x 5 mm²以上の2層目のアライメント [nm] | 500 | 500 | 1000 |
50×50mm²以上の2層目のアライメント [nm] | 1000 | 1000 | 2000 |
書き込み速度 | 390 nm LED / 365 nm LED付き | 390 nm LED / 365 nm LED付き | 390nmのLEDを使用 |
書き込み速度 | 10 mm²/min at 0.6 µm | 40 mm²/min at 1 µm | 100 mm²/min at 3 µm |
ラスター・スキャン露光モジュール用可変解像度" による、異なる最小構造サイズでのオプションの書き込み速度 | 18 mm²/min at 1 µm | 60 mm²/min at 2 µm | 160 mm²/min at 4 µm |
25 mm²/min at 2 µm | 90 mm²/min at 4 µm | 240 mm²/min at 6 µm | |
書き込み性能(ベクトルモード露光モジュール) | |||
最小フィーチャーサイズ[µm] | 0.6 | 1 | 3 |
アドレス・グリッド [nm] | 20 | 20 | 20 |
5 x 5 mm²以上の2層目のアライメント [nm] | 500 | 500 | 1000 |
50×50mm²以上の2層目のアライメント [nm] | 1000 | 1000 | 2000 |
ベクトルモードでの最大リニア書き込み速度 | 200 mm/s | 200 mm/s | 200 mm/s |
ベクトルモードで使用可能なスポットサイズ[µm] | 0.6 / 1 / 2 / 5 / 10 | 1 / 2 / 5 / 10 / 25 | 3 / 5 / 10 / 25 /50 |
システム仕様 | |||
最大基板サイズ | 6″ x 6″ | ||
最小基板サイズ | 5 x 5mm2 | ||
基板の厚さ | 0.1~12 mm | ||
最大書き込み領域 | 150 x 150mm2 |
ラスタースキャン露光モジュール | ベクトル露光モジュール | |
---|---|---|
光源 | LED; 390 nm または 365 nm | レーザー;405 nmおよび/または375 nm |
システム寸法(リソグラフィユニット) | ||
μMLA | 幅×奥行き | 身長×体重 |
メインシステムハウジング | 640mm(25インチ)×840mm(33インチ) | 530mm(21インチ)×130kg(285ポンド) |
設置条件 | ||
電気 | 230 VAC / 6A または 110 VAC / 12A (±5%、50/60 Hz) | |
圧縮空気 | 6~10バール | |
クリーンルーム | ISO 6推奨 | |
温度安定性 | ±1 °C | |
* システムにインストールできる書き込みモードは1つだけです。 |
仕様は個々のプロセス条件に依存し、装置構成によって異なる場合があります。書き込み速度は画素サイズと書き込みモードに依存します。設計および仕様は予告なく変更されることがあります。