製品紹介
製品ポートフォリオ

ハイデルベルグ・インストゥルメンツのシステムおよびテクノロジープールは、2Dおよび2.5D微細構造の直接描画、マスク製造、および高度なレーザーリソグラフィ用途向けの高精度マスクレスレーザーリソグラフィ(MLA)システムで構成されています。これを補完するのが、サーマル・スキャニング・プローブ・リソグラフィー(t-SPL)に基づく当社のNanoFrazorで、比類のない精度で最先端のナノパターニングが可能です。ハイデルベルグ・インストゥルメンツのマイクロ・ナノファブリケーションの中核となる専門技術は、これらの技術によって支えられています。
研究開発
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µMLAマスクレスアライナー
ラスタースキャンとベクター露光モジュールを搭載したコンフィギュラブルでコンパクトな卓上マスクレスアライナー。 -
MLA 150 マスクレスアライナー
マスクアライナーに代わるラピッドプロトタイピング用最速マスクレスツール。標準的なバイナリリソグラフィに最適。 -
DWL 66+レーザーリソグラフィシステム
可変解像度と豊富なオプションを備えた、研究およびプロトタイピング用の最も汎用性の高いシステム。 -
VPG 300 DI マスクレスステッパー
高精度・高解像度の微細構造用マスクレスダイレクトイメージャー。 -
NanoFrazor
熱走査プローブリソグラフィ、ダイレクトレーザー昇華、最先端研究開発のための高度な自動化を組み合わせた多用途&モジュラーツール。
インダストリアル
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MLA 300
工業生産用に最適化され、最高のスループットと工業生産ラインへのシームレスな統合を実現。 -
DWL 2000 GS / DWL 4000 GS レーザーリソグラフィ装置
市場で最も先進的な産業用グレースケール・リソグラフィ装置。 -
VPG+200 / VPG+400 / VPG+800 ボリューム・パターン・ジェネレーター
i線レジストの標準フォトマスクおよび微細構造用の強力な製造ツール。 -
VPG+1400 FPD Volume Pattern Generator
ディスプレイ用途に最適な大型基板でのフォトマスク製造。 -
VPG 300 DI マスクレスステッパー
高精度・高解像度の微細構造用マスクレスダイレクトイメージャー。 -
ULTRA Semiconductor Writer
成熟した半導体フォトマスクの製造に特化したツール。