現場検査と計測

従来のリソグラフィ・プロセスでは、書き込まれた特徴を検査・測定する前に、レジストを湿式で現像する必要があった。

NanoFrazorリソグラフィーや低スループットレーザー描画などの直接描画リソグラフィープロセスは、PPAのようなサーマルレジストを直接昇華させます。 このようにレジストを直接除去することで、描画された形状の検査や計測を即座に行うことができ、プロセス開発や迅速なターンアラウンド製造に有益である。 さらに、NanoFrazorは特許取得済みの「クローズドループ・リソグラフィー」アプローチにより、極めて高いパターニング品質を達成し、維持することができる。

NanoFrazorは、パターニングに使用したのと同じチップを使用して、書き込まれた構造をその場で検査する。 これは、ノーベル賞受賞者のゲルト・ビニッヒが、IBMミリピード・カンチレバーの電気抵抗が距離に強く依存するという発見をしたことに由来する。 この発見により、使いやすく信頼性の高いNanoFrazor距離センシング法が実現し、レジスト膜のような柔らかい表面の高分解能で浅いトポグラフィの高速イメージングと正確な計測が可能になった。