高解像度および超高解像度
光学式で300nm、熱走査プローブリソグラフィーで15nm
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Description
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解像度は、可能な限り小さなフィーチャーサイズを意味するだけではありません。アプリケーションによっては、高分解能の決め手となるのは、フィーチャー密度、形状の制約、ラインエッジの粗さ、CDの均一性などです。
超高解像度リソグラフィでは、100nm以下の解像度の場合、レジストの選択とエッチングの実際のプロセス、および計測機能が重要な要素となる。
私たちがリソグラフィ・システムに提供している仕様は保守的であり、現場での受け入れ時に容易に達成可能なものです。
私たちは、解像度の物理的限界まで技術を押し上げる努力をしています。当社の光学システムは300 nmまで到達することができ、当社のNanoFrazor 熱走査プローブリソグラフィシステムは、超シャープな加熱チップを使用して15 nmの孤立フィーチャーサイズを達成することができます。
解像度は、可能な限り小さなフィーチャーサイズを意味するだけではありません。アプリケーションによっては、高分解能の決め手となるのは、フィーチャー密度、形状の制約、ラインエッジの粗さ、CDの均一性などです。
超高解像度リソグラフィでは、100nm以下の解像度の場合、レジストの選択とエッチングの実際のプロセス、および計測機能が重要な要素となる。
私たちがリソグラフィ・システムに提供している仕様は保守的であり、現場での受け入れ時に容易に達成可能なものです。
私たちは、解像度の物理的限界まで技術を押し上げる努力をしています。当社の光学システムは300 nmまで到達することができ、当社のNanoFrazor 熱走査プローブリソグラフィシステムは、超シャープな加熱チップを使用して15 nmの孤立フィーチャーサイズを達成することができます。
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