高アスペクト比

SU-8で最大40:1のアスペクト比

  • Description

  • MEMSや マイクロ流体などの応用分野では、しばしば高アスペクト比の微細構造が必要とされます。当社の直描リソグラフィシステムは、SU-8のような厚いレジスト層を、垂直な側壁を維持したまま直接露光することができます。これは、レンズの入射瞳を調整してDoFを大きくし、開口数を小さくすることで可能となり、最大40:1のアスペクト比を達成することができます。超高横分解能とアスペクト比のフィーチャーは、RIEを使用したエッチング増幅によって製造することができる。

MEMSや マイクロ流体などの応用分野では、しばしば高アスペクト比の微細構造が必要とされます。当社の直描リソグラフィシステムは、SU-8のような厚いレジスト層を、垂直な側壁を維持したまま直接露光することができます。これは、レンズの入射瞳を調整してDoFを大きくし、開口数を小さくすることで可能となり、最大40:1のアスペクト比を達成することができます。超高横分解能とアスペクト比のフィーチャーは、RIEを使用したエッチング増幅によって製造することができる。

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