高アスペクト比
SU-8で最大40:1のアスペクト比
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Suitable Systems
DWL 66+
- 直接描画レーザーリソグラフィ装置
可変解像度と豊富なオプションを備えた、研究およびプロトタイピング用の最も汎用性の高いシステム。
ナノフレザー
- 熱走査プローブ露光装置
多用途&モジュラー ツール 組み合わせサーマルスキャニングプローブ リソグラフィー, ダイレクトレーザー昇華 高度な オートメーション自動化 最先端のエッジ研究開発
マスクアライナーに代わるラピッドプロトタイピング用最速マスクレスツール。標準的なバイナリリソグラフィに最適。
可変解像度と豊富なオプションを備えた、研究およびプロトタイピング用の最も汎用性の高いシステム。
多用途&モジュラー ツール 組み合わせサーマルスキャニングプローブ リソグラフィー, ダイレクトレーザー昇華 高度な オートメーション自動化 最先端のエッジ研究開発