アプリケーションによっては、局所的または大域的なパターン配置精度がリソグラフィの最も重要な要件となる。
当社の直接描画リソグラフィシステムは、差動レーザー干渉計、光学式フロント/バックサイドアライメント、またはその場イメージングを使用して、サンプル上の正確な位置決めのための各種パラメータを測定します。温度制御されたチャンバーとゼロデュールサンプルチャックは、能動的に測定・補正することが難しい熱ドリフトを最小限に抑えます。

直接描画リソグラフィは、マスクやスタンプに拘束されるマスクアライナー、ステッパー、インプリントリソグラフィツールと比較して、パターン配置精度の点で重要な利点があります。このようなツールでは、以前の製造工程、熱効果、反りによる局所的または全体的な不完全性を補正することはできません。直接描画リソグラフィの場合、レイアウトデータは、ローカルおよびグローバルな位置マトリクス補正（xスケールエラー、yスケールエラー、回転、平行移動、直交性エラー）によって個別に適合させることができ、サンプルやツールの不完全性に起因する所望のパターンからのずれを補正します。