多くのアプリケーションでは、標準的なウェハやマスクのフォーマット以外の特殊なサンプルにリソグラフィを行う必要があります。私たちは、さまざまな基板に対する独自の要件について、多くの経験を蓄積してきました。研究においては、小片のウェハーが一般的に使用されます。そのため、当社の研究開発用製品ラインアップは、数ミリメートルの小さなサンプルにも容易に対応できるように特化されています。

その他のアプリケーションでは、長いロッドやプリズム、あるいは曲面など、従来とは異なる基板上でのリソグラフィが必要です。特殊な基板を必要とするアプリケーションについては、ご相談ください。
ハイデルベルグ・インストゥルメンツの標準システムのほとんどは、すでに多種多様な基板に対応しており、ほとんどすべてのサイズとタイプの基板に対応するカスタムシステムを開発することができます。ハイデルベルグ・インストゥルメンツは、ハイデルベルグ本社でステージを内製しています。