コアテクノロジー

ハイデルベルグ・インストゥルメンツの技術ポートフォリオは、2次元および2.5次元微細構造の直接描画、マスク製造、および高度なレーザーリソグラフィ用途向けの高精度マスクレスレーザーリソグラフィ（MLA）システムで構成されています。これを補完するのが、サーマル・スキャニング・プローブ・リソグラフィー（t-SPL）に基づく当社のNanoFrazorで、比類のない精度で最先端のナノパターニングが可能です。ハイデルベルグ・インストゥルメンツのマイクロ・ナノファブリケーションの中核となる専門技術は、これらの技術によって支えられています。