高セキュリティ印刷

高セキュリティ印刷と装飾効果のためのホログラフィック画像

  • 説明

  • マスクレス・リソグラフィーは、特に高セキュリティ印刷、ブランド保護、装飾効果のためのホログラフィック画像の生成など、さまざまな分野で計り知れない可能性を秘めた画期的な技術である。

    高セキュリティ印刷の領域では、マスクレス・リソグラフィーは、複製や偽造が困難な、驚くべき精度の複雑なホログラフィック・パターンの製造を可能にする。サブミクロンレベルやナノレベルの詳細を生成する能力により、Heidelberg Instruments テクノロジーは、ダイナミックホログラム、マイクロテキスト、レリーフ効果、隠し要素などの複雑なデザインを、パスポート、銀行券、身分証明書などの文書に組み込むことを可能にします。これらのホログラフィック画像は、偽造者が機密文書を複製または偽造することを著しく困難にし、追加の保護レイヤーを提供します。

    これらの技術を利用することで、企業はロゴ、商標、その他のブランド要素を組み込んだ特注のホログラム画像を作成することができます。これらのホログラムは、製品パッケージや販促物の視覚的魅力を高めるだけでなく、偽造防止対策としても機能します。
    鮮やかな色彩、流れるようなアニメーション、立体的なイリュージョンを持つ装飾的なホログラム画像は、製品パッケージから高級品に至るまで、様々な消費財にエレガントさ、洗練さ、特別感を加えます。
    マスクレス・リソグラフィーにより、デザイナーは創造性を発揮し、魅惑的なホログラフィック・ビジュアルに命を吹き込み、高セキュリティ文書の不正製造を防止し、ブランドの完全性を守り、製品の全体的な美的魅力を高めることができます。

  • 必要条件

  • 高解像度パターニング能力

    2.5次元構造

    データ保護

    安全性の高い業界における独自性

    様々なホログラフィック効果の組み合わせ

  • ソリューション

  • 超高解像度

    20 nmまで(NanoFrazor)

    高スループットでの高解像度

    300 nm (DWL66+) および 500 nm (DWL 2000 GS / DWL 4000 GS)

    グレースケール・リソグラフィ

    サブミクロンスケール(DWL)とナノスケール(NanoFrazor)で2.5種類のトポグラフィーを作成可能。

    社内データフロー

    設計から生産までの全工程において、データは社内に保管される

    多彩な組み合わせ

    高解像度のバイナリ構造と2.5構造を1つのツールで組み合わせ、1つの構造化領域で複数のエフェクトを作成可能

    デザインの自由度

    独自性を高める

マスクレス・リソグラフィーは、特に高セキュリティ印刷、ブランド保護、装飾効果のためのホログラフィック画像の生成など、さまざまな分野で計り知れない可能性を秘めた画期的な技術である。

高セキュリティ印刷の領域では、マスクレス・リソグラフィーは、複製や偽造が困難な、驚くべき精度の複雑なホログラフィック・パターンの製造を可能にする。サブミクロンレベルやナノレベルの詳細を生成する能力により、Heidelberg Instruments テクノロジーは、ダイナミックホログラム、マイクロテキスト、レリーフ効果、隠し要素などの複雑なデザインを、パスポート、銀行券、身分証明書などの文書に組み込むことを可能にします。これらのホログラフィック画像は、偽造者が機密文書を複製または偽造することを著しく困難にし、追加の保護レイヤーを提供します。

これらの技術を利用することで、企業はロゴ、商標、その他のブランド要素を組み込んだ特注のホログラム画像を作成することができます。これらのホログラムは、製品パッケージや販促物の視覚的魅力を高めるだけでなく、偽造防止対策としても機能します。
鮮やかな色彩、流れるようなアニメーション、立体的なイリュージョンを持つ装飾的なホログラム画像は、製品パッケージから高級品に至るまで、様々な消費財にエレガントさ、洗練さ、特別感を加えます。
マスクレス・リソグラフィーにより、デザイナーは創造性を発揮し、魅惑的なホログラフィック・ビジュアルに命を吹き込み、高セキュリティ文書の不正製造を防止し、ブランドの完全性を守り、製品の全体的な美的魅力を高めることができます。

高解像度パターニング能力

2.5次元構造

データ保護

安全性の高い業界における独自性

様々なホログラフィック効果の組み合わせ

超高解像度

20 nmまで(NanoFrazor)

高スループットでの高解像度

300 nm (DWL66+) および 500 nm (DWL 2000 GS / DWL 4000 GS)

グレースケール・リソグラフィ

サブミクロンスケール(DWL)とナノスケール(NanoFrazor)で2.5種類のトポグラフィーを作成可能。

社内データフロー

設計から生産までの全工程において、データは社内に保管される

多彩な組み合わせ

高解像度のバイナリ構造と2.5構造を1つのツールで組み合わせ、1つの構造化領域で複数のエフェクトを作成可能

デザインの自由度

独自性を高める

アプリケーションイメージ

適切なシステム

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