マイクロ流体工学とナノ流体工学
精密流体操作
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説明
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マイクロフルイディクスおよびナノフルイディクスは、それぞれマイクロメートルおよびナノメートル寸法のチャネル内で少量の流体を操作する急速に発展している分野です。これらの技術は、化学・生物学研究、医療診断、産業分野で広く利用され、化学および生物学的反応のための小型化プラットフォームであるラボオンアチップ(lab-on-a-chip)デバイスの開発を可能にします。
これらのデバイスは、サンプル量の削減、反応時間の短縮、感度の向上といった利点を提供し、新薬探索、ポイントオブケア診断、環境モニタリングにおいて価値があります。マイクロフルイディックデバイスはさまざまな構造を持つことができ、SU-8 や mr-DWL レジストなどの材料が用いられ、DWL および MLA シリーズといったダイレクトライトリソグラフィーツールでパターニングされます。
一方、ナノフルイディクスはナノ技術およびバイオ技術応用において極めて重要であり、極微量の液体を正確に扱う必要があります。これには DNA シーケンシング、分離、組み立て、ナノ粒子・タンパク質・酵素・ウイルスの操作が含まれます。ナノフルイディック構造には優れた形状制御が求められ、生体適合性ポリマーやエポキシなど様々な材料が使用可能です。NanoFrazor はグレースケールパターニング機能を用い、ナノフルイディックシステムを効率的に作製します。そのクローズドループリソグラフィー手法と統合トポグラフィーセンサーは高精度および超高解像度を保証し、ナノフルイディクス応用において大きな利点をもたらします。技術の進歩に伴い、マイクロフルイディクスとナノフルイディクスは基礎研究から医療診断に至る幅広い分野でますます重要な役割を果たすことになるでしょう。
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必要条件
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滑らかな表面
高アスペクト比構造
超高解像度のホールとチャンネル
チャンネル(粒子ガイド)用高精度グレースケール・リソグラフィ
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ソリューション
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高分解能(DWL & MLAシリーズ)および超高分解能(NanoFrazor)
小径の穴や細い溝をパターニングするグレースケール・リソグラフィ (DWL シリーズ、µMLA & NanoFrazor)
単純または複雑な2.5次元トポグラフィーのパターニングに使用(テーパーチャンネルなど)高いアスペクト比
垂直側壁付きトールチャンネル(MLAシリーズ)アンダーカットなし
構造は複製に使用できるナノスケールの熱変換(NanoFrazor)
例:アミン基の局所的結合
マイクロフルイディクスおよびナノフルイディクスは、それぞれマイクロメートルおよびナノメートル寸法のチャネル内で少量の流体を操作する急速に発展している分野です。これらの技術は、化学・生物学研究、医療診断、産業分野で広く利用され、化学および生物学的反応のための小型化プラットフォームであるラボオンアチップ(lab-on-a-chip)デバイスの開発を可能にします。
これらのデバイスは、サンプル量の削減、反応時間の短縮、感度の向上といった利点を提供し、新薬探索、ポイントオブケア診断、環境モニタリングにおいて価値があります。マイクロフルイディックデバイスはさまざまな構造を持つことができ、SU-8 や mr-DWL レジストなどの材料が用いられ、DWL および MLA シリーズといったダイレクトライトリソグラフィーツールでパターニングされます。
一方、ナノフルイディクスはナノ技術およびバイオ技術応用において極めて重要であり、極微量の液体を正確に扱う必要があります。これには DNA シーケンシング、分離、組み立て、ナノ粒子・タンパク質・酵素・ウイルスの操作が含まれます。ナノフルイディック構造には優れた形状制御が求められ、生体適合性ポリマーやエポキシなど様々な材料が使用可能です。NanoFrazor はグレースケールパターニング機能を用い、ナノフルイディックシステムを効率的に作製します。そのクローズドループリソグラフィー手法と統合トポグラフィーセンサーは高精度および超高解像度を保証し、ナノフルイディクス応用において大きな利点をもたらします。技術の進歩に伴い、マイクロフルイディクスとナノフルイディクスは基礎研究から医療診断に至る幅広い分野でますます重要な役割を果たすことになるでしょう。
滑らかな表面
高アスペクト比構造
超高解像度のホールとチャンネル
チャンネル(粒子ガイド)用高精度グレースケール・リソグラフィ
高分解能(DWL & MLAシリーズ)および超高分解能(NanoFrazor)
グレースケール・リソグラフィ (DWL シリーズ、µMLA & NanoFrazor)
高いアスペクト比
アンダーカットなし
ナノスケールの熱変換(NanoFrazor)
アプリケーションイメージ












適切なシステム
MLA 150 マスクレスアライナー
- マスクレスアライナー
マスクアライナーに代わるラピッドプロトタイピング用最速マスクレスツール。標準的なバイナリリソグラフィに最適。
DWL 66+ レーザー描画装置
- 直接描画レーザーリソグラフィ装置
研究およびプロトタイピング用の最も汎用性の高いシステムで、解像度が可変であり、幅広いオプションを選択できます。
DWL 2000 GS / DWL 4000 GS レーザー描画装置
- 直接描画レーザーリソグラフィ装置
市場で最も先進的な産業用グレースケール・リソグラフィ・ツール。
NanoFrazor ナノリソグラフィーツール
- 熱走査プローブ露光装置
熱走査プローブリソグラフィー、直接レーザー昇華、先進的な自動化技術を組み合わせた、多用途でモジュール式の最先端 R&D ツール。
