マイクロ流体工学とナノ流体工学
精密流体操作
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説明
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マイクロ流体工学とナノ流体工学は、それぞれマイクロメートルとナノメートル寸法の流路で少量の流体を操作する、急速に成長している分野である。これらの技術は、化学的・生物学的研究、医療診断、工業的環境において広範な用途を見いだし、化学的・生物学的反応のための小型化されたプラットフォームを提供するラボオンチップデバイスの開発を可能にしている。
これらのデバイスは、サンプル量の削減、反応時間の短縮、感度の向上などの利点を提供し、創薬、ポイントオブケア診断、環境モニタリングにおいて有用である。マイクロ流体デバイスは様々な構造を特徴とすることができ、製造材料にはSU-8やmr-DWLレジストが含まれ、DWLやMLAシリーズなどのDirect-Write Lithographyツールを使用してパターニングされる。
一方、ナノ流体工学は、微小な液体体積を正確に取り扱う必要があるナノテクノロジーやバイオテクノロジーの応用において極めて重要である。DNAの配列決定、選別、組み立て、ナノ粒子、タンパク質、酵素、ウイルスの操作などが含まれる。ナノ流体構造には優れた形状制御が要求され、生体適合性ポリマーやエポキシを含む様々な材料を使用することができる。また NanoFrazorはグレースケールのパターニング機能を採用しており、ナノ流体システムの効率的な作成を可能にする。クローズドループ・リソグラフィー・アプローチと統合されたトポグラフィー・センサーにより、高精度と超高分解能が保証され、ナノ流体アプリケーションに有利である。技術の進歩に伴い、マイクロ流体工学とナノ流体工学は、基礎研究から医療診断に至るまで、さまざまな分野でますます重要な役割を果たすようになるだろう。
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必要条件
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滑らかな表面
高アスペクト比構造
超高解像度のホールとチャンネル
チャンネル(粒子ガイド)用高精度グレースケール・リソグラフィ
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ソリューション
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高分解能(DWL & MLAシリーズ)および超高分解能(NanoFrazor)
小径の穴や細い溝をパターニングするグレースケール・リソグラフィ (DWL シリーズ、µMLA & NanoFrazor)
単純または複雑な2.5次元トポグラフィーのパターニングに使用(テーパーチャンネルなど)高いアスペクト比
垂直側壁付きトールチャンネル(MLAシリーズ)アンダーカットなし
構造は複製に使用できるナノスケールの熱変換(NanoFrazor)
例:アミン基の局所的結合
マイクロ流体工学とナノ流体工学は、それぞれマイクロメートルとナノメートル寸法の流路で少量の流体を操作する、急速に成長している分野である。これらの技術は、化学的・生物学的研究、医療診断、工業的環境において広範な用途を見いだし、化学的・生物学的反応のための小型化されたプラットフォームを提供するラボオンチップデバイスの開発を可能にしている。
これらのデバイスは、サンプル量の削減、反応時間の短縮、感度の向上などの利点を提供し、創薬、ポイントオブケア診断、環境モニタリングにおいて有用である。マイクロ流体デバイスは様々な構造を特徴とすることができ、製造材料にはSU-8やmr-DWLレジストが含まれ、DWLやMLAシリーズなどのDirect-Write Lithographyツールを使用してパターニングされる。
一方、ナノ流体工学は、微小な液体体積を正確に取り扱う必要があるナノテクノロジーやバイオテクノロジーの応用において極めて重要である。DNAの配列決定、選別、組み立て、ナノ粒子、タンパク質、酵素、ウイルスの操作などが含まれる。ナノ流体構造には優れた形状制御が要求され、生体適合性ポリマーやエポキシを含む様々な材料を使用することができる。また NanoFrazorはグレースケールのパターニング機能を採用しており、ナノ流体システムの効率的な作成を可能にする。クローズドループ・リソグラフィー・アプローチと統合されたトポグラフィー・センサーにより、高精度と超高分解能が保証され、ナノ流体アプリケーションに有利である。技術の進歩に伴い、マイクロ流体工学とナノ流体工学は、基礎研究から医療診断に至るまで、さまざまな分野でますます重要な役割を果たすようになるだろう。
滑らかな表面
高アスペクト比構造
超高解像度のホールとチャンネル
チャンネル(粒子ガイド)用高精度グレースケール・リソグラフィ
高分解能(DWL & MLAシリーズ)および超高分解能(NanoFrazor)
グレースケール・リソグラフィ (DWL シリーズ、µMLA & NanoFrazor)
高いアスペクト比
アンダーカットなし
ナノスケールの熱変換(NanoFrazor)
アプリケーションイメージ










適切なシステム
MLA 150 マスクレスアライナー
- マスクレスアライナー
マスクアライナーに代わるラピッドプロトタイピング用最速マスクレスツール。標準的なバイナリリソグラフィに最適。
DWL 66+ レーザー描画装置
- 直接描画レーザーリソグラフィ装置
研究およびプロトタイピング用の最も汎用性の高いシステムで、解像度が可変であり、幅広いオプションを選択できます。
DWL 2000 GS / DWL 4000 GS レーザー描画装置
- 直接描画レーザーリソグラフィ装置
市場で最も先進的な産業用グレースケール・リソグラフィ・ツール。
NanoFrazor ナノリソグラフィーツール
- 熱走査プローブ露光装置
熱走査プローブリソグラフィー、直接レーザー昇華、先進的な自動化技術を組み合わせた、多用途でモジュール式の最先端 R&D ツール。
