アプリケーション・イメージ・コンペティション 2022/2023

優勝おめでとう!

当社の 2022/2023 画像コンペティションの結果を発表できることを大変嬉しく思います。本コンペティションは、先端研究における当社ツールの能力を示すものでした。

本コンペティションには世界中から多数の応募が寄せられ、ナノテクノロジー、生物医工学、量子デバイス、フレキシブルエレクトロニクス、フォトニクスなどの分野における顕著なブレークスルーとイノベーションが紹介されました。本コンペティションは、最先端研究の精神と当社技術の可能性を真に捉えたものでした。

2022年9月1日から2023年2月28日までの期間、Heidelberg Instruments 製品のすべてのユーザーが、当社の新しい「先端マイクロ・ナノ加工アプリケーション画像コンペティション」に参加するよう招待されました。本コンペティションは、世界中のコミュニティが Heidelberg Instruments のコミュニケーションチャネルを活用して自身の研究成果を紹介し、総額 10,000 ユーロの賞を獲得する機会です。各賞は寄付として授与されます。

  • 1点から5点の画像および/または短い動画(<3分)をアップロードし、1つの革新的な応用を示してください。以下の本文ではこれらを「画像」と呼びます。
  • 提出された画像は、Heidelberg Instruments のツールの使用を示すものである必要があります(VPG、DWL、MLA、pPG、uMLA、NanoFrazor、MPO 100 を含む現在または過去のすべてのシステム)。
  • 画像に第三者の著作権がないこと。
  • 画像はあらゆる機器(例:カメラや顕微鏡)で作成可能です。
  • 画像は説明目的である場合に限り、軽微な編集が許可されます(例:スケールバーや要素の名称表示)。
  • Heidelberg Instruments は、画像をオンラインまたは印刷物で使用する完全な権利を有します。画像には提出者が選択した参照(著者名および/または所属機関)が付与されます。
  • 受賞者は Heidelberg Instruments が任命した委員会によって選定されます。
  • 異なる応用に関する複数の応募が可能であり、それぞれ別個に提出する必要があります。
  • 画像の説明的品質(画像は応用の理解に役立つものであること)
  • 画像の美的品質および品質(精度、シャープネス、解像度)
  • 応用および関連画像に関する明確かつ簡潔な説明
  • 応用の創造性および革新性
  • 省エネルギーまたは環境配慮の利点も考慮されます

第1位 / 5,000 €

SU-8 モールドから作製された合成生物学用マイクロ流体デバイス

本年度のアプリケーション画像コンペティション第1位は以下の方々に授与されました:

Kei Ikemori and Prof. Yuichi Wakamoto
Graduate School of Arts and Sciences, The University of Tokyo, Japan

使用システム:
Heidelberg Instruments µMLA Maskless Aligner

説明:
合成遺伝子回路と蛍光タンパク質を持つ細菌が、 多細胞生物における幹細胞を模倣するマイクロチャンバー内で培養されました。
マイクロチャンバーは、pMLA によって作製された SU-8 モールドを用いて PDMS 上に形成されました。
このプロジェクトでは、正方形のマイクロチャンバー内部に Heidelberg Instruments のロゴが作製され、その中で E. coli 細胞が培養されました。
タンパク質の蛍光は協調的に伝播し、ロゴを包み込む光の波を形成しました。
このような遺伝子発現ダイナミクスの人工的構築は、多細胞生物における発生パターニングを理解する上で重要です。

審査員コメント:
当社のロゴが使用されたことも評価しましたが、この応募作品を第1位に選んだ主な理由は、当社のシステムが生物学的・医学的研究の進展に貢献していることを知る喜びにあります。それは人の健康に利益をもたらすだけでなく、自然環境の理解と保全にも寄与するものです。

合成生物学用マイクロ流体デバイス SU-8 モールド、µMLA

第2位 / 3,000 €

マイクロ技術機能を拡張し統合型量子ラボを実現するための原子チップ上の光学格子

Sascha de Wall
Institute of Micro Production Technology, University of Hannover, Germany

使用システム:
Heidelberg Instruments DWL 66+ Laser Lithography System

説明:
ボース=アインシュタイン凝縮(BEC)は 20 年以上研究されており、現在では慣性センサーや重力計に利用されています。
原子チップ技術は BEC 装置のサイズを縮小し、商業用途への利用を可能にしました。
ナノ構造化された光学反射格子を統合することで、格子磁気光学トラップが形成され、原子冷却に必要なレーザー装置の数を削減できます。
最適な性能を得るためには、この格子をシステム内に直接統合する必要があります。
DWL 66+ を用いてフォトレジストをパターニングしました。
レジストマスクを基板(Si)へ転写する工程はイオンビームエッチングによって行われました。
所望の光学反射特性を得るために、基板は蒸着(PVD)によって Al コーティングされました。

審査員コメント:
量子研究は急速に進展している分野であり、より高速なコンピュータ、より安全な通信システム、高精度センサーなどの大きな利益をもたらす可能性を秘めています。当社のシステムがその一部であることを誇りに思います。

原子チップ上の光回折格子

第3位 / 2,000 €

半導体MoS2ナノ回路の作製

Dr. Giorgio Zambito
Department of Physics, University of Genoa, Italy

使用システム:
Heidelberg Instruments NanoFrazor Scholar

説明:
DIFILab のロゴの形をした MoS2 ナノ回路の走査電子顕微鏡画像です。MoS2 は NanoFrazor Scholar を用いて構造化されました。
(挿入図:導電性原子間力顕微鏡によって取得された MoS2 ナノフィンガーの電流マップおよびトポグラフィーマップ。MoS2 ナノフィンガーおよび電気接触の高解像度領域は NanoFrazor を用いて作製されました。)

得られた局所導電率マップは、2D 遷移金属ダイカルコゲナイド(TMD)ナノ回路が、ナノスケールで決定論的に定義された 2D 半導体インターコネクトの構成要素として可能性を持つことを示しています。

審査員コメント:
多様な用途に適した独自の特性を持つ 2D 材料は有望な材料群であり、当社のシステムがこの分野の研究に適した仕様と機能を備えていることを誇りに思います。

半導体 MoS₂ ナノ回路 NanoFrazor

この画像の一つのバージョンは研究論文に使用されました “Deterministic Thermal Sculpting of Large-Scale 2D Semiconductor Nanocircuits”, published in Advanced Materials Interfaces, Volume 10, Issue 5.

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