よくある質問

ハイデルベルク・インスツルメンツは、高精度のダイレクトライティングリソグラフィー装置およびナノファブリケーションツールを開発・製造しています。私たちの製品ポートフォリオは、試作や研究開発に最適なコンパクトな卓上型システムから、大量生産向けに設計されたハイエンドのフォトマスク製造装置まで多岐にわたります。

マスクレスリソグラフィー（またはダイレクトライティングリソグラフィー）は、レーザーを使用して感光性基板に直接パターンを書き込む技術であり、物理的なフォトマスクを必要としません。

主な利点は以下の通りです：

• 柔軟性：マスクに関連するコストやリードタイムなしで、設計を即座に変更可能。
• 速度：迅速な試作、研究開発、設計の反復に最適。
• コスト効率：フォトマスクの調達にかかる高額な費用や長い遅延を削減。
• 高度な機能：グレースケールリソグラフィーを通じて、高解像度の微細構造や複雑な2.5D/3D構造を実現。

当社は、マスクレスアライナー（MLAシリーズ）、レーザーリソグラフィー装置（DWLシリーズ）、フォトマスク用ボリュームパターンジェネレーター（VPG⁺およびULTRAシリーズ）、および熱走査プローブナノリソグラフィー用のNanoFrazorを製造しています。私たちの製品ポートフォリオは、卓上型の研究開発用ツールから高スループットの産業用生産システムまで幅広くカバーしています。

グレースケールリソグラフィーは、露光中にレーザーの照射量を精密に変化させる高度な技術です。これにより、フォトレジスト上に複雑で多段階の2.5Dマイクロ構造（マイクロレンズ、ランプ、ブレーズドグレーティングなど）を1回の工程で作成することが可能です。当社のDWLシリーズ装置は、この機能に特化しています。

熱走査プローブリソグラフィー（t-SPL）は、当社のNanoFrazorシステムで使用される独自の技術です。超鋭利な加熱チップを使用してサブ10nmの解像度でパターンを作成でき、最先端の量子デバイスやナノデバイス研究向けに、真の3Dナノファブリケーションや非侵襲的なパターニングを可能にします。

当社のシステムは、以下を含む幅広い分野で使用されています：

• マイクロエレクトロニクス＆ナノエレクトロニクス
• 半導体＆先端パッケージング
• マイクロオプティクス＆フォトニクス（例：マイクロレンズアレイ）
• MEMSおよびセンサー
• 量子コンピューティングおよびデバイス
• バイオテクノロジーおよびマイクロフルイディクス
• 材料科学およびナノテクノロジー
• ディスプレイ＆フォトマスク

これは使用するシステムによります。NanoFrazorはナノメートルスケールの解像度を提供します。DWLおよびMLAレーザーシステムは通常、マイクロ〜サブマイクロ範囲の高解像度の微細構造を作成でき、MLA 150では最小450 nm、DWL 66+では最大で最小200 nmの微細構造を実現可能です。詳細な仕様については、各製品のデータシートをご参照ください。

はい。当社のダイレクトライティング技術の大きな利点の一つは、高度なリアルタイムオートフォーカスシステムです。これにより、従来のマスクベースリソグラフィーでは困難な、非標準、歪みのある、または不均一な基板上でも効果的にパターンを形成できます。

はい。当社の製品ポートフォリオはその両方に対応しています。VPG⁺およびULTRAシリーズは、高速な産業用フォトマスク製造に最適化されています。MLAおよびDWLシリーズ、さらにNanoFrazorは、ウェーハや部品、その他の基板上へのダイレクトライティングに理想的で、デバイス製造や研究開発に適しています。

当社のシステムは、研究開発から大量生産まで、特定の用途ニーズに対応できる高いカスタマイズ性を備えています。価格はモデル、構成、オプションによって異なるため、標準の価格表は公開していません。ご要望に応じた見積もりを取得するには、当社の営業チームまでお問い合わせいただくことをお勧めします。

はい、これは当社の製品ポートフォリオの大きな強みです。多くのクライアントは、試作段階では柔軟なR&Dツール（µMLAやDWL 66⁺など）から始めます。ニーズが拡大するにつれて、同じプロセスやデータ形式を使用しながら、パイロット生産や量産向けに高スループットの産業用システム（VPG⁺シリーズやMLA 300など）へ移行することが可能です。

当社は、お客様のシステムの長期的な成功を支援することをお約束します。初期の設置およびトレーニングに加えて、包括的なサービス契約、予防保守、予備部品の提供、システムアップグレード、リモート診断などを提供しています。世界各地のフィールドサービスエンジニアおよびアプリケーションスペシャリストが、継続的なサポートを行うために常時待機しています。

はい。当社の標準システムは幅広い用途に対応していますが、カスタムソリューションの設計・開発に関しても豊富な経験があります。お客様の独自の要件に応じて、カスタム基板ハンドリング、特殊光学系、統合プロセスモジュールなどの開発を、当社チームがご一緒にサポートいたします。

当社は世界各地に複数のプロセス＆アプリケーションラボ（PAL）を運営しています。お客様のプロジェクトについて相談したり、デモンストレーションのスケジュールを設定したり、ベンチマークを依頼したりするために、ぜひ当社チームまでお問い合わせください。デモやテストでは、お客様自身の材料やデザインを使用することも可能です。また、包括的なアプリケーションサポートやプロセス開発も提供しています。

はい。すべてのシステム購入には、当社の工場で訓練を受け認定されたサービスエンジニアによる現地での専門的な設置が含まれています。また、オペレーター向けの包括的なトレーニングとアプリケーションサポートも提供しており、チームが迅速に立ち上がり、システムを効果的に運用できるよう支援します。