当社のソリューション。
装置メーカーとして、当社はお客様のニーズに適応し、研究における自由度と精度、そしてスケーラブルな工業生産を可能にするダイレクトライトリソグラフィシステムを開発しています。
マスクレスリソグラフィーで次世代エレクトロニクスを実現。
柔軟な設計、高スループット、均一性、歩留まりは半導体産業の基本要件です。MLA 300マスクレスアライナーは、これらすべての要件を満たします。
DWL 66+はこれまで以上に強力になり、光学リソグラフィーの可能性を再定義する2つの画期的な強化機能を搭載しています。
Heidelberg Instrumentsの雑誌『The Lithographer』第3号の発行をお知らせします。本誌では、マイクロ・ナノファブリケーションの世界に関する刺激的な洞察を提供しています。研究や産業でのイノベーションを推進するマイクロ・ナノスケールの特徴がどのように設計されているかを学べます。
Heidelberg Instruments - 直接描画の威力
Heidelberg Instruments は、高精度レーザーリソグラフィーシステム、マスクレスアライナー、ナノファブリケーションツールのグローバルリーダーです。
私たちは40年間にわたり、世界中で1,500台以上のシステムを導入し、マイクロ・ナノファブリケーション分野のイノベーションを支えてきました。すべての顧客のニーズは独自であることを理解しているため、最も困難な用途にも対応できるカスタマイズされたリソグラフィーソリューションを提供しています。
当社のポートフォリオは、プロトタイピングやR&Dに最適なコンパクトなテーブルトップシステムから、大量生産向けに設計された高性能フォトマスク製造装置まで幅広く揃っています。この多様性により、精密な2Dパターニングやグレースケールリソグラフィーを用いた複雑な2.5D構造など、幅広い表面構造化技術をサポートできます。
お客様の成功へのコミットメントは、製品だけにとどまりません。ドイツ、スイス、中国にある当社のプロセス・アプリケーション・ラボ(PAL)では、当社の専門エンジニアがお客様と密接に協力し、Heidelberg Instruments 装置の可能性を最大限に引き出すための包括的なトレーニングとサポートを提供しています。
世界中の一流企業、一流大学、著名な研究機関が、当社のマイクロ・ナノパターニング用システムの柔軟性と高度な機能に信頼を寄せています。当社の技術は、マイクロオプティクスとマイクロシステム技術、フォトニクス、エレクトロニクス、半導体とアドバンスドパッケージング、量子デバイス、MEMS、ナノ流体工学、生体医工学、2D材料など、さまざまな分野でのブレークスルーを可能にします。
アプリケーション|テクノロジー|主な特徴
1Dおよび2D材料 | MEMS | アドバンスドパッケージング | センサー | ディスプレイ | ナノインプリントテンプレート | バイオテクノロジーと医療工学 | フォトマスク | マイクロエレクトロニクスとナノエレクトロニクス | マイクロオプティクスとフォトニクス | マイクロ流体工学とナノ流体工学 | 半導体 | 材料科学 | 量子デバイス | 高セキュリティ印刷
µMLA マスクレスアライナー
- マスクレスアライナー
ラスタースキャンとベクター露光モジュールを搭載した、設定可能でコンパクトな卓上型マスクレスアライナー。
MLA 150 マスクレスアライナー
- マスクレスアライナー
マスクアライナーに代わるラピッドプロトタイピング用最速マスクレスツール。標準的なバイナリリソグラフィに最適。
DWL 66+ レーザー描画装置
- 直接描画レーザーリソグラフィ装置
研究およびプロトタイピング用の最も汎用性の高いシステムで、解像度が可変であり、幅広いオプションを選択できます。
MLA 300 マスクレスアライナー
- マスクレスアライナー
フレキシブルな工業生産に最適化され、最高の精度と工業生産ラインへのシームレスな統合を実現します。
DWL 2000 GS / DWL 4000 GS レーザー描画装置
- 直接描画レーザーリソグラフィ装置
市場で最も先進的な産業用グレースケール・リソグラフィ・ツール。
VPG+ 200、VPG+ 400、VPG+ 800 ボリュームパターン生成器
- ボリューム・パターン・ジェネレーター
i-line レジストにおける標準フォトマスクおよび微細構造用の強力な生産ツール。
VPG+ 1400 FPD / VPG+ 1850 FPD ボリュームパターン生成器
- ボリューム・パターン・ジェネレーター
ディスプレイ用途に最適な大型基板へのフォトマスク製造。
VPG 300 DI マスクレスステッパー
- マスクレス・ステッパー
高精度・高解像度の微細構造用マスクレス・ダイレクト・イメージャー。
ULTRA 半導体マスク描画装置
- レーザーマスク・ライター
成熟した半導体フォトマスクを製造するために特別に設計されたツール。
NanoFrazor ナノリソグラフィーツール
- 熱走査プローブ露光装置
熱走査プローブリソグラフィー、直接レーザー昇華、先進的な自動化技術を組み合わせた、多用途でモジュール式の最先端 R&D ツール。
ニュースブログ
AI と HPC がモノリシック回路を時代遅れに押しやる中、業界はアドバンストパッケージングへと向かっています。しかし、ダイシフトや基板の反りなどの課題が、パッケージが工場を出る前に歩留まりを危険にさらします。ここに、マイクロエレクトロニクスの新たなヒーローが登場します──マスクレスリソグラフィです。適応的アライメントがどのようにしてチップレットの“生存”を保証し、次の日も計算を続けられるようにするのかをご紹介します。
総括:英国サウサンプトンで開催された MNE 2025 のハイライト
なんて充実した一週間でしょう!9月15〜18日、私たちは英国サウサンプトンで開催された第51回 International Micro and Nano Engineering Conference(MNE 2025)にて、マイクロ/ナノファブリケーションのコミュニティとご一緒しました。
2005–2025:ハイデルベルグ・インスツルメンツ・コリア創立20周年を祝う!
ハイデルベルク・インスツルメンツ・コリア(Heidelberg Instruments Korea) は、
お客様との信頼とパートナーシップの20周年を迎えました!
信頼、忠誠心、そして長期的な関係を基盤として、
ハイデルベルク・インスツルメンツ・コリアは、
地域のお客様に革新をもたらす上で重要な役割を果たし続けています。
