Heidelberg, Allemagne — Heidelberg Instruments célèbre avec fierté le 10ᵉ anniversaire du MLA 150 Maskless Aligner—une avancée qui a redéfini la lithographie haute résolution dans les salles blanches du monde entier. Depuis son lancement en 2015, le MLA 150 a offert aux chercheurs et ingénieurs une alternative flexible et sans masque à la photolithographie traditionnelle, transformant la microfabrication dans le monde académique comme industriel.
« Le MLA 150 Maskless Aligner a été créé pour répondre aux goulets d’étranglement des salles blanches multi-utilisateurs causés par des aligneurs de masques vieillissants et la production chronophage de photomasques. Heidelberg Instruments a imaginé une solution d’écriture directe offrant de meilleures performances qu’un aligneur de masques—sans les délais. Le résultat : des temps de traitement rapides, une grande précision et une facilité d’utilisation exceptionnelle », déclare Steffen Diez, COO de Heidelberg Instruments.
Au cœur du MLA 150 se trouve un dispositif à micro-miroirs numériques (DMD), agissant comme un masque dynamique, associé à des sources lumineuses à semi-conducteurs et à des capacités d’alignement avancées. Cette combinaison a fait de ce système un véritable game-changer dès le premier jour. Avec des temps d’exposition inférieurs à 10 minutes, des cycles de procédé complets de moins de 30 minutes et une formation utilisateur réalisée en moins d’une heure, le MLA 150 a rapidement établi une nouvelle référence pour la lithographie de R&D. « Le MLA 150 est l’un des outils les plus régulièrement utilisés dans notre salle blanche. Sa flexibilité et sa simplicité d’utilisation en ont fait une pierre angulaire de nos flux de lithographie. » — Dr. Tom Peach, Ingénieur Principal en Procédés, Université de Cardiff. En permettant aux utilisateurs de passer du design numérique à un substrat parfaitement structuré en quelques minutes, le MLA 150 favorise l’innovation rapide dans des domaines tels que les dispositifs quantiques, les MEMS, la micro-optique et les sciences de la vie.
Affiné grâce à une collaboration étroite avec des institutions de premier plan—including l’EPFL, l’Institut Kirchhoff de Physique (KIP) de l’Université de Heidelberg, et le Harvard Center for Nanoscale Systems (CNS)—le MLA 150 a rapidement démontré sa valeur. Au KIP, par exemple, il a permis de tripler le rendement dans la fabrication de capteurs SQUID (dispositifs supraconducteurs d’interférence quantique), démontrant son impact transformateur. Bien qu’initialement adopté par les laboratoires de recherche, la polyvalence et la rentabilité du système ont rapidement séduit les utilisateurs industriels recherchant des solutions agiles pour le prototypage rapide et la production en petites séries. De la recherche fondamentale en matériaux quantiques au développement de biocapteurs sauvant des vies, le MLA 150 a été un partenaire silencieux dans d’innombrables découvertes.
En 2025, Heidelberg Instruments a présenté une mise à niveau majeure du MLA 150, réduisant la taille minimale des motifs à 450 nm et élargissant ses capacités pour des applications de haute précision.
Aujourd’hui, le MLA 150 est un outil de confiance dans plus de 250 salles blanches à travers le monde. En célébrant ce jalon, Heidelberg Instruments rend également hommage à la communauté mondiale d’utilisateurs, d’ingénieurs et de partenaires qui ont contribué à faire du MLA 150 une plateforme transformatrice—une plateforme qui continue à repousser les limites de ce qui est possible en microfabrication.
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Plus d’informations: https://heidelberg-instruments.com/mla-150-anniversary/
