La Lithographie par sonde à balayage thermique (t-SPL) est une méthode de création de motifs dans laquelle une réserve thermosensible est sublimée à l’aide d’une pointe chauffée ultra-pointue. Cette méthode permet d’écrire des nanostructures complexes à haute résolution et de les inspecter visuellement sur le même outil.
Cette approche constitue le cœur même du NanoFrazor principe de fonctionnement. Après le modelage, des méthodes standard de transfert de motifs, telles que le lift-off ou la gravure, peuvent être appliquées aux substrats modelés. Cette technologie est apparue pour la première fois chez IBM Research Zürich dans le cadre du projet de mémoire Millipede, qui a ensuite évolué vers une méthode complète de nanofabrication. Cette technologie est désormais disponible sur le marché à l’adresse Heidelberg Instruments, sous la forme de notre système NanoFrazor.
Cette technologie représente une alternative aux méthodes conventionnelles de nanofabrication. NanoFrazor représente une alternative aux méthodes de nanofabrication conventionnelles. Elle permet à la fois le modelage à haute résolution et l’imagerie avec une vitesse d’imagerie de 1 mm/s. Cette méthode évite de nombreux problèmes liés à d’autres techniques de nanolithographie : pas de développement humide, pas de correction de l’effet de proximité et pas de vide nécessaire. La compatibilité avec tout processus de transfert de motif et tout matériau de substrat standard ouvre la voie à un large éventail d’applications.
