NanoFrazor Outil de nanolithographie
- Système de lithographie par sonde à balayage thermique
Outil polyvalent et modulable combinant la lithographie par sonde thermique, la sublimation laser directe et l’automatisation avancée pour la R&D de pointe.
Description
La Lithographie Thermique par Sonde à Balayage (t-SPL) est une méthode de structuration dans laquelle un résiste thermosensible est sublimé à l’aide d’une pointe chauffée ultra-affûtée. Cette méthode permet d’écrire et d’inspecter visuellement des nanostructures complexes et à haute résolution sur le même outil.
Cette approche constitue le cœur même du principe de fonctionnement du NanoFrazor. Après le structuration, des méthodes standards de transfert de motifs telles que le lift-off ou la gravure peuvent être appliquées aux substrats structurés. Cette technologie est apparue pour la première fois chez IBM Research Zürich dans le cadre du projet de mémoire Millipede, qui a ensuite évolué vers une méthode complète de nanofabrication. La technologie est désormais disponible commercialement auprès de Heidelberg Instruments sous la forme de notre système NanoFrazor.
La technologie NanoFrazor représente une alternative aux méthodes conventionnelles de nanofabrication. Elle permet à la fois une structuration haute résolution et une imagerie avec une vitesse de balayage de 1 mm/s. Cette méthode évite de nombreux problèmes présents dans d’autres techniques de nanolithographie : aucun développement humide, aucune correction d’effet de proximité et aucun vide requis. La compatibilité avec tout processus standard de transfert de motifs et tout matériau de substrat ouvre un large éventail d’applications.
La Lithographie Thermique par Sonde à Balayage (t-SPL) est une méthode de structuration dans laquelle un résiste thermosensible est sublimé à l’aide d’une pointe chauffée ultra-affûtée. Cette méthode permet d’écrire et d’inspecter visuellement des nanostructures complexes et à haute résolution sur le même outil.
Cette approche constitue le cœur même du principe de fonctionnement du NanoFrazor. Après le structuration, des méthodes standards de transfert de motifs telles que le lift-off ou la gravure peuvent être appliquées aux substrats structurés. Cette technologie est apparue pour la première fois chez IBM Research Zürich dans le cadre du projet de mémoire Millipede, qui a ensuite évolué vers une méthode complète de nanofabrication. La technologie est désormais disponible commercialement auprès de Heidelberg Instruments sous la forme de notre système NanoFrazor.
La technologie NanoFrazor représente une alternative aux méthodes conventionnelles de nanofabrication. Elle permet à la fois une structuration haute résolution et une imagerie avec une vitesse de balayage de 1 mm/s. Cette méthode évite de nombreux problèmes présents dans d’autres techniques de nanolithographie : aucun développement humide, aucune correction d’effet de proximité et aucun vide requis. La compatibilité avec tout processus standard de transfert de motifs et tout matériau de substrat ouvre un large éventail d’applications.







Outil polyvalent et modulable combinant la lithographie par sonde thermique, la sublimation laser directe et l’automatisation avancée pour la R&D de pointe.
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