Lithographie laser sans masque

La photolithographie traditionnelle nécessite la fabrication ou l’achat d’un photomasque, puis l’utilisation d’un stepper ou d’un aligneur de masques pour transférer le motif CAD sur une plaque ou une wafer recouverte de résiste. Ce processus reste la méthode la plus établie et la plus économique pour la fabrication à haut volume de motifs de conception de taille submicronique grâce aux économies d’échelle. Heidelberg Instruments propose des systèmes avancés tels que la série VPG⁺ et l’ULTRA, spécialement conçus pour le marché des photomasques—couvrant des applications allant des photomasques de semi-conducteurs matures à ceux pour l’électronique et les écrans plats (FPD).

Cependant, pour de nombreuses autres applications, la lithographie sans masque constitue une alternative puissante et durable. Cette technologie de haute précision et très flexible est idéale pour la R&D, le Prototypage rapide et la production en petites séries avec des tailles des motifs supérieures à 1 µm. La lithographie sans masque élimine le besoin de photomasques, ce qui réduit les coûts initiaux, les déchets de matériaux et la consommation de produits chimiques. Elle est donc particulièrement avantageuse pour les productions de faible à moyen volume où la flexibilité de la conception et les cycles d’itération rapides sont essentiels.

Dans la lithographie sans masque, le motif est exposé directement sur la surface du substrat à l’aide d’un modulateur spatial de lumière (SLM), qui agit comme un « photomasque dynamique ». Il suffit de télécharger et de convertir le fichier de conception, et le système s’occupe du reste. Pas de commande de photomasques, pas de délais, pas d’itérations de masques coûteuses. Lorsque votre conception évolue, il vous suffit de recharger le fichier et d’effectuer de nouvelles insolations en une fraction du temps requis par les processus traditionnels basés sur les photomasques.

Au-delà de la vitesse et de la flexibilité, les systèmes sans masque contribuent au développement durable en minimisant les déchets matériels, la consommation d’énergie et l’utilisation de produits chimiques, ce qui en fait un choix responsable pour la microfabrication moderne.

Découvrez ici nos Aligneurs sans masque (MLA) et nos systèmes de lithographie sans masque (DWL).