Pour certaines applications, la précision du placement des motifs locaux ou globaux est l’exigence la plus cruciale de la lithographie.
Nos systèmes de lithographie à écriture directe utilisent des interféromètres laser différentiels, l’alignement optique avant et/ou arrière ou l’imagerie in situ pour mesurer divers paramètres en vue d’un positionnement précis sur les échantillons. Les chambres climatisées et les mandrins d’échantillons en Zérodur minimisent les dérives thermiques qui ne peuvent pas être facilement mesurées et compensées activement.

La lithographie par écriture directe présente des avantages décisifs en termes de précision de placement des motifs par rapport aux aligneurs de masques, aux steppers ou aux outils de lithographie par impression qui sont liés à des masques ou à des tampons. Ces outils ne peuvent pas compenser les imperfections locales ou globales résultant des étapes de fabrication précédentes, des effets thermiques ou de la courbure. Dans le cas de la lithographie par écriture directe, les données de disposition peuvent être adaptées individuellement par des corrections locales et globales de la matrice de position (erreurs d’échelle x, erreurs d’échelle y, rotation, translation, erreurs d’orthogonalité) pour compenser les écarts par rapport au modèle souhaité causés par les imperfections de l’échantillon ou de l’outil.