La lithographie par sonde à balayage thermique (t-SPL) est une méthode de création de motifs dans laquelle une réserve thermosensible est sublimée à l’aide d’une pointe chauffée ultra-pointue. Cette méthode permet d’écrire des nanostructures complexes à haute résolution et de les inspecter visuellement sur le même outil.
Cette approche constitue le cœur même du principe de fonctionnement du NanoFrazor. Après le modelage, des méthodes standard de transfert de motifs, telles que le lift-off ou la gravure, peuvent être appliquées aux substrats modelés. Cette technologie est apparue pour la première fois chez IBM Research Zürich dans le cadre du projet de mémoire Millipede, qui a ensuite évolué pour devenir une méthode complète de nanofabrication. Cette technologie est désormais disponible dans le commerce auprès de Heidelberg Instruments sous la forme de notre système NanoFrazor.
La technologie NanoFrazor représente une alternative aux méthodes conventionnelles de nanofabrication. Elle permet à la fois le modelage à haute résolution et l’imagerie avec une vitesse de balayage de 1 mm/s. Cette méthode permet d’éviter de nombreux problèmes liés à d’autres techniques de nanolithographie : pas de développement humide, pas de correction de l’effet de proximité et pas de vide nécessaire. La compatibilité avec tout processus de transfert de motif et tout matériau de substrat standard ouvre la voie à un large éventail d’applications.
