Les procédés de lithographie conventionnels nécessitent un développement humide de la résine avant que les caractéristiques écrites puissent être inspectées et mesurées.
Les procédés de lithographie par écriture directe, tels que la lithographie NanoFrazor et l’écriture laser à faible débit, subliment directement les résines thermiques telles que le PPA. Cette élimination directe de la résine permet une inspection et une métrologie immédiates des caractéristiques écrites, ce qui est bénéfique pour le développement des processus et la fabrication rapide. En outre, elle permet au NanoFrazor d’atteindre et de maintenir une qualité de structuration extrêmement élevée grâce à l’approche brevetée de la “lithographie en boucle fermée”.
Le NanoFrazor utilise la même pointe que celle utilisée pour le modelage pour l’inspection in situ des structures écrites. La topographie est imagée au moyen d’une technique de métrologie spéciale, qui trouve son origine dans la découverte du lauréat du prix Nobel Gerd Binnig, selon laquelle la résistance électrique des cantilevers Millipede d’IBM dépendait fortement de la distance. Cette découverte a permis de mettre au point la méthode de détection de distance NanoFrazor, facile à utiliser et fiable, qui permet une imagerie rapide et une métrologie précise des topographies peu profondes et à haute résolution dans les surfaces souples (comme les revêtements à base de résine).
