Portefeuille de produits
Le pool de systèmes et de technologies de Heidelberg Instruments comprend des systèmes de lithographie laser sans masque (MLA) de haute précision pour l’écriture directe de microstructures 2D et 2,5D, la fabrication de masques et les applications de lithographie laser avancée. En complément, notre NanoFrazor basé sur la lithographie par sonde à balayage thermique (t-SPL) permet de réaliser des nanopatterns de pointe avec une précision inégalée. Ensemble, ces technologies constituent la base de l’expertise fondamentale de Heidelberg Instruments en matière de micro- et nanofabrication.
Recherche et développement
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µMLA Aligneur sans masque
Aligneur sans masque de table configurable et compact avec modules de balayage de trame et d'exposition vectorielle. -
MLA 150 Aligneur sans masque
L'outil sans masque le plus rapide pour le prototypage rapide, l'alternative aux aligneurs de masque. Parfait pour la lithographie binaire standard. -
Système de lithographie laser DWL 66+
Notre système le plus polyvalent pour la recherche et le prototypage avec une résolution variable et une large sélection d'options. -
VPG 300 DI Maskless Stepper
Imageur direct sans masque pour les microstructures de haute précision et de haute résolution. -
NanoFrazor
Outil polyvalent et modulaire combinant la lithographie thermique par sonde à balayage, la sublimation laser directe et l'automatisation avancée pour une R&D de pointe.
Industriel
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MLA 300
Optimisé pour la production industrielle avec un débit maximal et une intégration transparente dans les lignes de production industrielle. -
Systèmes de lithographie laser DWL 2000 GS / DWL 4000 GS
L'outil de lithographie industrielle en niveaux de gris le plus avancé du marché. -
VPG+ 200 / VPG+ 400 / VPG+ 800 Générateurs de modèles en volume
Outils de production puissants pour les photomasques et les microstructures standard dans les résines i-line. -
VPG+ 1400 FPD Volume Pattern Generator
Production de photomasques sur de grands substrats, parfaits pour les applications d'affichage. -
VPG 300 DI Maskless Stepper
Imageur direct sans masque pour les microstructures de haute précision et de haute résolution. -
ULTRA Semiconductor Writer
Un outil spécialement conçu pour produire des photomasques de semi-conducteurs matures.
