Portefeuille de produits
Le portefeuille de systèmes et de technologies Heidelberg Instruments comprend des systèmes de lithographie laser sans masque de haute précision pour l’écriture directe de microstructures 2D et 2,5D, la fabrication de masques et les applications avancées de lithographie laser. En complément, notre NanoFrazor, basé sur la lithographie par sonde thermique, permet un nanopatterning de pointe avec une précision inégalée. Ensemble, ces technologies constituent la base de l’expertise centrale de Heidelberg Instruments en micro- et nanofabrication.
Recherche et développement
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µMLA Aligneurs sans masque
Aligneur sans masque de table configurable et compact avec modules de balayage de trame et d'exposition de vecteurs. -
MLA 150 Aligneur sans masque
L’outil sans masque le plus rapide pour le prototypage rapide, alternative aux aligneurs de masques. Parfait pour la lithographie binaire standard. -
DWL 66+ Système de lithographie laser
Notre système le plus polyvalent pour la recherche et le prototypage, avec résolution variable et large choix d’options. -
VPG 300 DI Stepper sans masque
Imageur direct sans masque pour les microstructures de haute précision et de haute résolution. -
NanoFrazor Outil de nanolithographie
Outil polyvalent et modulaire combinant la lithographie par sonde thermique, la sublimation laser directe et l’automatisation avancée pour la R&D de pointe.
Industriel
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MLA 300 Aligneur sans masque
Optimisé pour la production industrielle avec un rendement maximal et une intégration transparente dans les lignes de production. -
DWL 2000 GS / DWL 4000 GS Systèmes de lithographie laser
Les outils de lithographie en niveaux de gris industriels les plus avancés du marché. -
VPG+ 200 / VPG+ 400 / VPG+ 800 Générateurs de motifs de volume
Outils de production puissants pour masques photorésistants standard et microstructures dans les résines i-line. -
VPG+ 1400 FPD / VPG+ 1850 FPD Générateurs de motifs de volume
Production de photomasques sur de grands substrats, idéale pour les applications d’affichage. -
VPG 300 DI Stepper sans masque
Imageur direct sans masque pour les microstructures de haute précision et de haute résolution. -
ULTRA Rédacteur de masques pour semi-conducteurs
Outil spécialement conçu pour la fabrication de photomasques pour semi-conducteurs matures.
