Outils de haute précision pour la recherche et les applications industrielles
Heidelberg Instruments propose une large gamme de solutions de lithographie qui font le lien entre la recherche universitaire et la production industrielle à grande échelle. Notre gamme offre une précision optimale sur l’ensemble du spectre de fabrication, de la nanofabrication haute résolution et de la microfabrication polyvalente à la production avancée de photomasques et à la lithographie complexe en niveaux de gris 2,5D.
En alliant la souplesse de la technologie sans masque à la fiabilité 24 h/24 et 7 j/7 requise pour la production industrielle à grande échelle, nous permettons à nos utilisateurs de créer des motifs complexes sur une vaste gamme de substrats. Que vous testiez des conceptions quantiques dans un laboratoire de R&D ou que vous gériez une production à haut débit avec des systèmes tels que le MLA 300, notre technologie offre la flexibilité et la précision nécessaires pour faire progresser la prochaine génération de technologies MEMS, de micro-optique et de semi-conducteurs.
Recherche et développement
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µMLA Aligneurs sans masque
Aligneur sans masque de table configurable et compact avec modules de balayage de trame et d'exposition de vecteurs. -
MLA 150 Aligneur sans masque
L’outil sans masque le plus rapide pour le prototypage rapide, alternative aux aligneurs de masques. Parfait pour la lithographie binaire standard. -
DWL 66+ Système de lithographie laser
Notre système le plus polyvalent pour la recherche et le prototypage, avec résolution variable et large choix d’options. -
VPG 300 DI Stepper sans masque
Imageur direct sans masque pour les microstructures de haute précision et de haute résolution. -
NanoFrazor Outil de nanolithographie
Outil polyvalent et modulaire combinant la lithographie par sonde thermique, la sublimation laser directe et l’automatisation avancée pour la R&D de pointe.
Industriel
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MLA 300 Aligneur sans masque
Optimisé pour la production industrielle avec un rendement maximal et une intégration transparente dans les lignes de production. -
DWL 2000 GS / DWL 4000 GS Systèmes de lithographie laser
Les outils de lithographie en niveaux de gris industriels les plus avancés du marché. -
VPG+ 200 / VPG+ 400 / VPG+ 800 Générateurs de motifs de volume
Outils de production puissants pour masques photorésistants standard et microstructures dans les résines i-line. -
VPG+ 1400 FPD / VPG+ 1850 FPD Générateurs de motifs de volume
Production de photomasques sur de grands substrats, idéale pour les applications d’affichage. -
VPG 300 DI Stepper sans masque
Imageur direct sans masque pour les microstructures de haute précision et de haute résolution. -
ULTRA Rédacteur de masques pour semi-conducteurs
Outil spécialement conçu pour la fabrication de photomasques pour semi-conducteurs matures.
