Outils de haute précision pour la recherche et les applications industrielles
Heidelberg Instruments développe des systèmes de lithographie avancés pour la micro- et nanofabrication à la fois en recherche et en industrie. Notre portefeuille de produits combine les systèmes de lithographie laser sans masque (MLA) pour le prototypage rapide, les microstructures 2D et 2,5D et la fabrication de masques, avec l’outil de nanolithographie NanoFrazor pour le nanopatronnage ultra-haute résolution.
Des outils polyvalents pour la R&D aux systèmes industriels à haut débit, nos produits offrent un patronnage précis, la lithographie en niveaux de gris, des micro- et nano-structures haute résolution et une intégration flexible sur une large gamme de substrats. Ensemble, ces outils reflètent l’expertise centrale de Heidelberg Instruments dans la microfabrication de pointe, la nanolithographie et les applications photoniques avancées.
Recherche et développement
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µMLA Aligneurs sans masque
Aligneur sans masque de table configurable et compact avec modules de balayage de trame et d'exposition de vecteurs. -
MLA 150 Aligneur sans masque
L’outil sans masque le plus rapide pour le prototypage rapide, alternative aux aligneurs de masques. Parfait pour la lithographie binaire standard. -
DWL 66+ Système de lithographie laser
Notre système le plus polyvalent pour la recherche et le prototypage, avec résolution variable et large choix d’options. -
VPG 300 DI Stepper sans masque
Imageur direct sans masque pour les microstructures de haute précision et de haute résolution. -
NanoFrazor Outil de nanolithographie
Outil polyvalent et modulaire combinant la lithographie par sonde thermique, la sublimation laser directe et l’automatisation avancée pour la R&D de pointe.
Industriel
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MLA 300 Aligneur sans masque
Optimisé pour la production industrielle avec un rendement maximal et une intégration transparente dans les lignes de production. -
DWL 2000 GS / DWL 4000 GS Systèmes de lithographie laser
Les outils de lithographie en niveaux de gris industriels les plus avancés du marché. -
VPG+ 200 / VPG+ 400 / VPG+ 800 Générateurs de motifs de volume
Outils de production puissants pour masques photorésistants standard et microstructures dans les résines i-line. -
VPG+ 1400 FPD / VPG+ 1850 FPD Générateurs de motifs de volume
Production de photomasques sur de grands substrats, idéale pour les applications d’affichage. -
VPG 300 DI Stepper sans masque
Imageur direct sans masque pour les microstructures de haute précision et de haute résolution. -
ULTRA Rédacteur de masques pour semi-conducteurs
Outil spécialement conçu pour la fabrication de photomasques pour semi-conducteurs matures.
