L’ULTRA est un graveur de masque laser qualifié, spécialement conçu pour les photomasques de semi-conducteurs matures. Les photomasques de semi-conducteurs sont utilisés pour fabriquer des dispositifs électroniques, notamment des microcontrôleurs, des dispositifs de gestion de l’énergie, des LED, l’Internet des objets (IoT) et des MEMS.

L’ULTRA est une solution économique de gravure de masque dotée de toutes les caractéristiques et fonctionnalités requises pour un rendement élevé, une précision et une uniformité de la structure, ainsi qu’un alignement extrêmement précis. La configuration standard comprend des caractéristiques telles que la manipulation entièrement automatique des masques, une platine Zerodur®, des optiques à faible distorsion et un contrôle de position de haute précision.
Les systèmes ULTRA peuvent produire des structures de taille inférieure à 500 nm à des vitesses d’écriture allant jusqu’à 580 ^mm2 par minute, tout en offrant une excellente uniformité des dimensions critiques, une qualité d’image, une superposition et un repérage. En tant que système compact, il s’intègre facilement dans l’infrastructure existante de l’atelier de fabrication de masques.