Dans le paysage concurrentiel de la fabrication de semi-conducteurs, vous êtes confronté à un défi majeur : comment augmenter le débit et maintenir une qualité exceptionnelle sans augmenter les coûts. Le graveur de masques laser ULTRA est conçu pour résoudre ce problème précis. Il constitue une solution puissante et rentable pour la production de masques photos pour les microcontrôleurs, les circuits intégrés de gestion d’énergie, les LED, les dispositifs IoT, la photonique et les MEMS, offrant la vitesse, la précision et la fiabilité dont vous avez besoin pour maximiser votre rendement et votre rentabilité.

Pourquoi choisir l’ULTRA ?

L’ULTRA intègre une technologie de pointe pour répondre aux principales préoccupations des ateliers de masquage modernes : vitesse, précision et retour sur investissement.

Accélérez votre production grâce à un débit élevé

Minimisez les temps d’arrêt de l’outil et respectez les calendriers de production exigeants avec une productivité qui surpasse celle des outils traditionnels. Le moteur d’exposition avancé de l’ULTRA et les modes d’écriture optimisés réduisent considérablement les temps d’écriture des masques, ce qui vous permet de produire un photomasque standard de 6 pouces en moins de 45 minutes.

• Moteur d’exposition rapide basé sur la technologie SLM: Permet des vitesses d’écriture allant jusqu’à 580 mm²/minute sans compromettre la qualité.
• Manipulation entièrement automatique des masques: Réduit la charge de travail de l’opérateur grâce à une interface de chargement des masques simple et conviviale, et assure un chargement et un déchargement cohérents et reproductibles pour un fonctionnement continu.
• Modes d’écriture optimisés: Permet de donner la priorité à la vitesse ou à la résolution pour répondre aux exigences spécifiques de votre travail.

Obtenir un rendement maximal avec une précision sans compromis

Chaque nanomètre compte. L’ULTRA repose sur des composants de haute précision qui garantissent une uniformité supérieure en matière de recouvrement, de repérage et de dimension critique (CD), masque après masque.

• Système de platine de haute précision: Une platine à coussin d’air et un mandrin ZERODUR^® à dilatation thermique nulle assurent une stabilité ultime et éliminent la dérive thermique.
• Contrôle avancé de la position: Un système d’interféromètre différentiel à haute résolution garantit un positionnement extrêmement précis et reproductible des caractéristiques.
• Fonctions de mise en correspondance des outils: Les fonctions de correction intégrées vous permettent de faire correspondre avec précision les résultats de plusieurs machines, garantissant ainsi la cohérence de l’ensemble de votre jeu de masques.

Qualité d’image supérieure et intégration transparente

Produisez des photomasques sans défaut avec une fidélité des caractéristiques qui répond aux normes les plus strictes. L’optique personnalisée de l’ULTRA permet d’obtenir des structures nettes et bien définies jusqu’à 500 nm. Sa conception bien pensée lui permet de s’intégrer sans effort dans votre installation existante.

• Optique High-NA personnalisée: Notre lentille d’écriture conçue sur mesure et notre optique UV à faible distorsion garantissent une qualité d’image et une uniformité de structure exceptionnelles.
• Encombrement réduit: Le système est conçu pour occuper un espace minimal en salle blanche, ce qui permet de l’intégrer facilement dans l’infrastructure d’un atelier de masquage existant, sans rénovations coûteuses.
• Fiabilité éprouvée: L’ULTRA est une plate-forme qualifiée, testée par l’industrie et approuvée par les principaux ateliers de photomasques du monde entier.

Améliorez votre production de photomasques

Prêt à voir comment l’ULTRA peut réduire vos temps de cycle et augmenter votre rendement ? Contactez nos experts dès aujourd’hui pour discuter de votre application.