L'outil de nanolithographie polyvalent et modulaire
Applications clients
(L. Shani*, J. Chaaban* et al 2024 Nanotechnology 35 255302)
(Courtesy of Yannik Glauser, ETH Zürich)
(Courtesy of Dr. Xia Liu and Berke Erbas, EPFL)
(Image courtesy of Prof. Dr. Elisa Riedo, NYU)
Pourquoi les clients choisissent nos systèmes
Données techniques
| Sonde thermique Écriture | Laser direct Sublimation | ||
|---|---|---|---|
| Embout unique | Décapité | ||
| Performances du modelage | |||
| Taille minimale de la structure [nm] | 15 | 15 | 600 |
| Lignes et espaces minimaux [demi-pas, nm] | 25 | 25 | 1000 |
| Niveaux de gris / Résolution 3D (taille de pas en PPA) [nm] | 2 | 2 | - |
| Taille maximale du champ d'écriture [X μm x Y μm] | 60 x 60 | 60 x 60 | 60 x 60 |
| Précision de l'assemblage sur le terrain (sans marqueur, en utilisant l'imagerie in-situ) [nm] | 25 | 25 | 600 |
| Précision de la superposition (sans marqueur, en utilisant l'imagerie in-situ) [nm] | 25 | 25 | 600 |
| Vitesse d'écriture (vitesse de numérisation typique) [mm/s] | 1 | 1 | 5 |
| Vitesse d'écriture (pixel de 50 nm) [μm²/min] | 1000 | 10 000 | 100 000 |
| Performance de l'imagerie topographique | |||
| Résolution de l'imagerie latérale (taille de l'élément) [nm] | 10 | ||
| Résolution verticale (sensibilité de la topographie) [nm] | <0.5 | ||
| Vitesse d'imagerie (à une résolution de 50 nm) [μm²/min] | 1000 | 10 000 | - |
| Caractéristiques du système de base | |
|---|---|
| Taille des substrats | 1 x 1 mm² à 100 x 100 mm² (150 x 150 mm² possible dans certaines limites)
Épaisseur : jusqu'à 10 mm |
| Microscope optique | Résolution numérique de 0,6 μm, limite de diffraction de 2 μm, champ de vision de 1,0 mm x 1,0 mm, autofocus. |
| Support magnétique en porte-à-faux | Remplacement rapide (<1 min) et précis des pointes |
| Isolation contre les vibrations | Etage d'isolation active des vibrations |
| Caractéristiques du système en option / modularité | |
| Sublimation laser directe | Source laser et optique : Laser à fibre CW d'une longueur d'onde de 405 nm, 300 mW, 1,2 μm de taille minimale de la tache focale Autofocus du laser : Utilisation du capteur de distance du cantilever NanoFrazor. |
| Décapité | L'écriture parallèle en 10 conseils |
| Logement autonome | Isolation acoustique à trois couches, isolation supérieure contre les vibrations (> 98% @ 10 Hz) | Contrôle de la température et de l'humidité par PC ( ), régulation du débit de gaz (Dimension 185 cm x 78 cm x 128 cm / poids 650 kg) |
| Intégration complète de la boîte à gants | Intégration dans la boîte à gants disponible pour la nanolithographie dans un environnement contrôlé |
| Caractéristiques du cantilever NanoFrazor (Single Tip et Decapede) | |
| Composants intégrés | Chauffage de la pointe, capteur de topographie, actionnement électrostatique |
| Géométrie de l'embout | Pointe conique avec |
| Plage de température de l'élément chauffant de l'embout | 25 °C - 1100 °C (<1 K résolution du point de consigne) |
| Dimensions du système de base et conditions d'installation | |
| Hauteur × largeur × profondeur | Unité de table : 44 cm x 40 cm x 45 cm Contrôleur : 84 cm x 60 cm x 56 cm |
| Poids | Unité de table : 50 kg Contrôleur : 80 kg |
| Alimentation électrique | 1 x 110 ou 220 V AC, 10 A |
| Caractéristiques du logiciel | |
| Importation GDS et bitmap, 256 niveaux de gris, analyse d'images topographiques et dessin pour superposition, mix & match entre la pointe et l'écriture laser, routines d'étalonnage entièrement automatisées, script Python. |
Veuillez noter
Les spécifications dépendent des conditions individuelles du processus et peuvent varier en fonction de la configuration de l’équipement. La vitesse d’écriture dépend de la taille des pixels et du mode d’écriture. La conception et les spécifications peuvent être modifiées sans préavis.
