MLA 150 Aligneur sans masque
La norme moderne en matière de lithographie
-
Description du produit
-
Êtes-vous ralenti par les coûts élevés et les longs délais d’exécution des masques photographiques ? Souhaitez-vous modifier instantanément vos conceptions sans avoir à suivre la longue formation requise par les aligneurs de masques traditionnels ?
Découvrez le site MLA 150 et le monde de la lithographie numérique.
L’aligneur moderne sans masque remplace l’ancienne technologie par une solution rapide, flexible et remarquablement facile à utiliser, conçue pour le plus haut degré de performance. En utilisant un dispositif à miroir numérique (DMD) comme masque dynamique, le MLA 150 surmonte les inconvénients des masques photographiques physiques. Passez d’une conception numérique à un substrat parfaitement modelé en quelques minutes, permettant à vos utilisateurs d’accélérer la recherche dans des domaines tels que les dispositifs quantiques, les MEMS, la micro-optique et les sciences de la vie.
Pourquoi le site MLA 150 est-il le choix idéal pour votre laboratoire ?
Le site MLA 150 a été conçu dès le départ pour relever les principaux défis auxquels sont confrontées les installations de R&D universitaires et industrielles. Il s’attaque directement à des problèmes tels que les longs délais d’approvisionnement en photomasques, les coûts récurrents élevés et la courbe d’apprentissage abrupte des systèmes traditionnels.
Conçu pour les installations à utilisateurs multiples
Réduisez vos frais de formation et maximisez le temps d’utilisation de vos outils. Le MLA 150 est si intuitif que les nouveaux utilisateurs peuvent être entièrement qualifiés pour travailler de manière autonome en moins d’une heure. Son logiciel convivial et son flux de travail rationalisé sont parfaitement adaptés à un environnement de laboratoire partagé, ce qui explique pourquoi le MLA 150 est devenu un outil essentiel dans les principales salles blanches du monde entier.
Flexibilité inégalée pour la recherche avancée
Votre recherche n’est pas standard, et votre outil de lithographie ne devrait pas l’être non plus. Le site MLA 150 s’adapte à votre expérience, et non l’inverse.
- Prise en charge d’une large gamme de résines: Installez simultanément une ou deux longueurs d’onde laser différentes (375 nm et/ou 405 nm) pour exposer toute la gamme des résines photosensibles à large bande, à lignes g, h et i sans modifier le matériel.
- Travailler avec des substrats difficiles: Des mandrins à vide spécialisés vous permettent de manipuler facilement des échantillons difficiles, y compris de petites pièces de substrat allant jusqu’à 3×3 mm², des feuilles minces et des plaquettes déformées.
- Créez des structures 2,5D et à haut rapport d’aspect: Utilisez le mode d’exposition en niveaux de gris intégré pour fabriquer des microstructures 2,5D complexes, ou le mode de rapport d’aspect élevé pour modeler des résines épaisses avec des parois latérales abruptes, idéales pour les MEMS et la microfluidique.
- Mode “dessin” interactif: Dessinez et exposez directement des motifs sur l’image de la caméra en direct de votre échantillon – parfait pour le prototypage rapide ou le placement précis d’électrodes sur des caractéristiques uniques telles que des paillettes de graphène ou des nanofils.
Haute vitesse, haute précision, sans compromis
La convivialité n’est pas synonyme de performances moindres. Le MLA 150 offre la vitesse et la précision dont vous avez besoin pour repousser les limites de la fabrication.
- Résolution submicronique: Obtenez une taille de caractéristique minimale jusqu’à 0,45 μm pour créer des dispositifs complexes à haute résolution.
- Rendement exceptionnel: Exposition d’une tranche complète de 150 mm en moins de 16 minutes.
- Alignement automatisé avancé: Le système atteint une précision d’alignement de 250 nm et compense numériquement le décalage, la rotation, la mise à l’échelle et le cisaillement – des ajustements impossibles à réaliser avec des masques physiques.
- Mise au point parfaite: Un système de mise au point automatique dynamique garantit des caractéristiques nettes et uniformes, et permet de traiter efficacement les substrats à motifs, déformés ou délicats.
- Stabilité absolue: Une chambre environnementale intégrée avec un flux d’air laminaire à température contrôlée (±0,1°C) minimise les effets de la dilatation thermique, garantissant des résultats stables et reproductibles.
Réduire considérablement vos coûts d’exploitation
Éliminez la dépense la plus importante et la plus persistante en lithographie : le masque photographique. Avec le MLA 150, il n’y a pas de coûts d’approvisionnement en masques ni de délais d’exécution de plusieurs semaines. Vous éliminez également les efforts de nettoyage et de stockage, ainsi que le risque de casse coûteuse. Associé à une durée de vie du laser de 10 à 20 ans et à une maintenance aisée, le MLA 150 offre un coût total de possession exceptionnellement bas.
Applications clés
De la physique fondamentale aux biosciences appliquées, le site MLA 150 est l’outil de confiance pour.. :
- Nanofabrication: Dispositifs quantiques, matériaux 2D, nanofils semi-conducteurs
- MEMS ET MOEMS: Capteurs, actionneurs, éléments micro-optiques, microfluidique
- Science des matériaux: Modélisation de nouveaux matériaux
- Sciences de la vie: Dispositifs de laboratoire sur puce, biocapteurs
Rejoignez des centaines d’institutions de premier plan
Découvrez pourquoi les plus grandes universités et centres de recherche du monde entier ont choisi le site MLA 150 pour remplacer leurs aligneurs de masques. Contactez-nous pour découvrir comment autonomiser vos utilisateurs et moderniser votre laboratoire.
Êtes-vous ralenti par les coûts élevés et les longs délais d’exécution des masques photographiques ? Souhaitez-vous modifier instantanément vos conceptions sans avoir à suivre la longue formation requise par les aligneurs de masques traditionnels ?
Découvrez le site MLA 150 et le monde de la lithographie numérique.
L’aligneur moderne sans masque remplace l’ancienne technologie par une solution rapide, flexible et remarquablement facile à utiliser, conçue pour le plus haut degré de performance. En utilisant un dispositif à miroir numérique (DMD) comme masque dynamique, le MLA 150 surmonte les inconvénients des masques photographiques physiques. Passez d’une conception numérique à un substrat parfaitement modelé en quelques minutes, permettant à vos utilisateurs d’accélérer la recherche dans des domaines tels que les dispositifs quantiques, les MEMS, la micro-optique et les sciences de la vie.
Pourquoi le site MLA 150 est-il le choix idéal pour votre laboratoire ?
Le site MLA 150 a été conçu dès le départ pour relever les principaux défis auxquels sont confrontées les installations de R&D universitaires et industrielles. Il s’attaque directement à des problèmes tels que les longs délais d’approvisionnement en photomasques, les coûts récurrents élevés et la courbe d’apprentissage abrupte des systèmes traditionnels.
Conçu pour les installations à utilisateurs multiples
Réduisez vos frais de formation et maximisez le temps d’utilisation de vos outils. Le MLA 150 est si intuitif que les nouveaux utilisateurs peuvent être entièrement qualifiés pour travailler de manière autonome en moins d’une heure. Son logiciel convivial et son flux de travail rationalisé sont parfaitement adaptés à un environnement de laboratoire partagé, ce qui explique pourquoi le MLA 150 est devenu un outil essentiel dans les principales salles blanches du monde entier.
Flexibilité inégalée pour la recherche avancée
Votre recherche n’est pas standard, et votre outil de lithographie ne devrait pas l’être non plus. Le site MLA 150 s’adapte à votre expérience, et non l’inverse.
- Prise en charge d’une large gamme de résines: Installez simultanément une ou deux longueurs d’onde laser différentes (375 nm et/ou 405 nm) pour exposer toute la gamme des résines photosensibles à large bande, à lignes g, h et i sans modifier le matériel.
- Travailler avec des substrats difficiles: Des mandrins à vide spécialisés vous permettent de manipuler facilement des échantillons difficiles, y compris de petites pièces de substrat allant jusqu’à 3×3 mm², des feuilles minces et des plaquettes déformées.
- Créez des structures 2,5D et à haut rapport d’aspect: Utilisez le mode d’exposition en niveaux de gris intégré pour fabriquer des microstructures 2,5D complexes, ou le mode de rapport d’aspect élevé pour modeler des résines épaisses avec des parois latérales abruptes, idéales pour les MEMS et la microfluidique.
- Mode “dessin” interactif: Dessinez et exposez directement des motifs sur l’image de la caméra en direct de votre échantillon – parfait pour le prototypage rapide ou le placement précis d’électrodes sur des caractéristiques uniques telles que des paillettes de graphène ou des nanofils.
Haute vitesse, haute précision, sans compromis
La convivialité n’est pas synonyme de performances moindres. Le MLA 150 offre la vitesse et la précision dont vous avez besoin pour repousser les limites de la fabrication.
- Résolution submicronique: Obtenez une taille de caractéristique minimale jusqu’à 0,45 μm pour créer des dispositifs complexes à haute résolution.
- Rendement exceptionnel: Exposition d’une tranche complète de 150 mm en moins de 16 minutes.
- Alignement automatisé avancé: Le système atteint une précision d’alignement de 250 nm et compense numériquement le décalage, la rotation, la mise à l’échelle et le cisaillement – des ajustements impossibles à réaliser avec des masques physiques.
- Mise au point parfaite: Un système de mise au point automatique dynamique garantit des caractéristiques nettes et uniformes, et permet de traiter efficacement les substrats à motifs, déformés ou délicats.
- Stabilité absolue: Une chambre environnementale intégrée avec un flux d’air laminaire à température contrôlée (±0,1°C) minimise les effets de la dilatation thermique, garantissant des résultats stables et reproductibles.
Réduire considérablement vos coûts d’exploitation
Éliminez la dépense la plus importante et la plus persistante en lithographie : le masque photographique. Avec le MLA 150, il n’y a pas de coûts d’approvisionnement en masques ni de délais d’exécution de plusieurs semaines. Vous éliminez également les efforts de nettoyage et de stockage, ainsi que le risque de casse coûteuse. Associé à une durée de vie du laser de 10 à 20 ans et à une maintenance aisée, le MLA 150 offre un coût total de possession exceptionnellement bas.
Applications clés
De la physique fondamentale aux biosciences appliquées, le site MLA 150 est l’outil de confiance pour.. :
- Nanofabrication: Dispositifs quantiques, matériaux 2D, nanofils semi-conducteurs
- MEMS ET MOEMS: Capteurs, actionneurs, éléments micro-optiques, microfluidique
- Science des matériaux: Modélisation de nouveaux matériaux
- Sciences de la vie: Dispositifs de laboratoire sur puce, biocapteurs
Rejoignez des centaines d’institutions de premier plan
Découvrez pourquoi les plus grandes universités et centres de recherche du monde entier ont choisi le site MLA 150 pour remplacer leurs aligneurs de masques. Contactez-nous pour découvrir comment autonomiser vos utilisateurs et moderniser votre laboratoire.
> 250 systèmes installés
-
Points forts du produit
-
Parfait pour les installations à utilisateurs multiples
Moins d’une heure de formation pour être pleinement qualifié en tant qu’utilisateurAlignement rapide et précis
Alignement frontal 250 nm, alignement arrière, compensation des erreurs d’alignementFlexible
Deux lasers peuvent être installés simultanément sur le même système pour exposer toute la gamme de résine photosensible.
Différents modes d’exposition disponibles pour une structuration rapide ou de haute qualité
Mandrins à vide supplémentaires pour les échantillons difficiles tels que les petits substrats, les feuilles ou les substrats déformésFaibles coûts d'exploitation et facilité d'entretien
10 à 20 ans de durée de vie du laserLithographie à écriture directe
Pas de coûts, d’efforts ou de risques de sécurité liés aux masquesNiveaux de gris
Pour les structures 2,5D simplesQualité de l'exposition
Rugosité des bords 60 nm ; uniformité CD 100 nm ; compensation autofocus pour les substrats déformés/ondulésTaille minimale de l'objet
Deux modes d’écriture différents disponibles avec une taille de caractéristique minimale jusqu’à 0,45 μm.Convivialité
Le logiciel et le flux de travail spécialement conçus rendent l’utilisation de l’outil rapide et facile.Vitesse d'exposition
Plaque de 150 mm en <16 min avec un laser de 405 nm -
Modules disponibles
-
Longueur d'onde d'exposition
Les sources laser à diode à 375 nm et/ou 405 nm peuvent être montées ensemble et utilisées de manière interchangeable pour exposer différentes résines photosensibles.Mandrins interchangeables
Mandrins à vide supplémentaires pour les échantillons difficiles tels que les petits substrats, les feuilles ou les substrats déformés
Disposition des mandrins à vide personnalisée sur demandeMode dessin
Importation et superposition de fichiers BMP sur l’image du microscope en temps réel – comme dans un Aligneur de masque virtuel ; des lignes et des formes simples peuvent être dessinées dans l’image de la caméra en temps réel pour une exposition immédiate.Autofocus
Air-gauge ou autofocus optique pour une exposition parfaite des petits échantillons (moins de 10 mm)Dimensions variables des substrats
De 3 mm à 6” ; jusqu’à 8” sur demandeAlignement avancé des champs
Alignement automatique champ par champ sur des matrices individuelles sur la tranche de silicium pour une précision d’alignement supérieure.
Êtes-vous ralenti par les coûts élevés et les longs délais d’exécution des masques photographiques ? Souhaitez-vous modifier instantanément vos conceptions sans avoir à suivre la longue formation requise par les aligneurs de masques traditionnels ?
Découvrez le site MLA 150 et le monde de la lithographie numérique.
L’aligneur moderne sans masque remplace l’ancienne technologie par une solution rapide, flexible et remarquablement facile à utiliser, conçue pour le plus haut degré de performance. En utilisant un dispositif à miroir numérique (DMD) comme masque dynamique, le MLA 150 surmonte les inconvénients des masques photographiques physiques. Passez d’une conception numérique à un substrat parfaitement modelé en quelques minutes, permettant à vos utilisateurs d’accélérer la recherche dans des domaines tels que les dispositifs quantiques, les MEMS, la micro-optique et les sciences de la vie.
Pourquoi le site MLA 150 est-il le choix idéal pour votre laboratoire ?
Le site MLA 150 a été conçu dès le départ pour relever les principaux défis auxquels sont confrontées les installations de R&D universitaires et industrielles. Il s’attaque directement à des problèmes tels que les longs délais d’approvisionnement en photomasques, les coûts récurrents élevés et la courbe d’apprentissage abrupte des systèmes traditionnels.
Conçu pour les installations à utilisateurs multiples
Réduisez vos frais de formation et maximisez le temps d’utilisation de vos outils. Le MLA 150 est si intuitif que les nouveaux utilisateurs peuvent être entièrement qualifiés pour travailler de manière autonome en moins d’une heure. Son logiciel convivial et son flux de travail rationalisé sont parfaitement adaptés à un environnement de laboratoire partagé, ce qui explique pourquoi le MLA 150 est devenu un outil essentiel dans les principales salles blanches du monde entier.
Flexibilité inégalée pour la recherche avancée
Votre recherche n’est pas standard, et votre outil de lithographie ne devrait pas l’être non plus. Le site MLA 150 s’adapte à votre expérience, et non l’inverse.
- Prise en charge d’une large gamme de résines: Installez simultanément une ou deux longueurs d’onde laser différentes (375 nm et/ou 405 nm) pour exposer toute la gamme des résines photosensibles à large bande, à lignes g, h et i sans modifier le matériel.
- Travailler avec des substrats difficiles: Des mandrins à vide spécialisés vous permettent de manipuler facilement des échantillons difficiles, y compris de petites pièces de substrat allant jusqu’à 3×3 mm², des feuilles minces et des plaquettes déformées.
- Créez des structures 2,5D et à haut rapport d’aspect: Utilisez le mode d’exposition en niveaux de gris intégré pour fabriquer des microstructures 2,5D complexes, ou le mode de rapport d’aspect élevé pour modeler des résines épaisses avec des parois latérales abruptes, idéales pour les MEMS et la microfluidique.
- Mode “dessin” interactif: Dessinez et exposez directement des motifs sur l’image de la caméra en direct de votre échantillon – parfait pour le prototypage rapide ou le placement précis d’électrodes sur des caractéristiques uniques telles que des paillettes de graphène ou des nanofils.
Haute vitesse, haute précision, sans compromis
La convivialité n’est pas synonyme de performances moindres. Le MLA 150 offre la vitesse et la précision dont vous avez besoin pour repousser les limites de la fabrication.
- Résolution submicronique: Obtenez une taille de caractéristique minimale jusqu’à 0,45 μm pour créer des dispositifs complexes à haute résolution.
- Rendement exceptionnel: Exposition d’une tranche complète de 150 mm en moins de 16 minutes.
- Alignement automatisé avancé: Le système atteint une précision d’alignement de 250 nm et compense numériquement le décalage, la rotation, la mise à l’échelle et le cisaillement – des ajustements impossibles à réaliser avec des masques physiques.
- Mise au point parfaite: Un système de mise au point automatique dynamique garantit des caractéristiques nettes et uniformes, et permet de traiter efficacement les substrats à motifs, déformés ou délicats.
- Stabilité absolue: Une chambre environnementale intégrée avec un flux d’air laminaire à température contrôlée (±0,1°C) minimise les effets de la dilatation thermique, garantissant des résultats stables et reproductibles.
Réduire considérablement vos coûts d’exploitation
Éliminez la dépense la plus importante et la plus persistante en lithographie : le masque photographique. Avec le MLA 150, il n’y a pas de coûts d’approvisionnement en masques ni de délais d’exécution de plusieurs semaines. Vous éliminez également les efforts de nettoyage et de stockage, ainsi que le risque de casse coûteuse. Associé à une durée de vie du laser de 10 à 20 ans et à une maintenance aisée, le MLA 150 offre un coût total de possession exceptionnellement bas.
Applications clés
De la physique fondamentale aux biosciences appliquées, le site MLA 150 est l’outil de confiance pour.. :
- Nanofabrication: Dispositifs quantiques, matériaux 2D, nanofils semi-conducteurs
- MEMS ET MOEMS: Capteurs, actionneurs, éléments micro-optiques, microfluidique
- Science des matériaux: Modélisation de nouveaux matériaux
- Sciences de la vie: Dispositifs de laboratoire sur puce, biocapteurs
Rejoignez des centaines d’institutions de premier plan
Découvrez pourquoi les plus grandes universités et centres de recherche du monde entier ont choisi le site MLA 150 pour remplacer leurs aligneurs de masques. Contactez-nous pour découvrir comment autonomiser vos utilisateurs et moderniser votre laboratoire.
Êtes-vous ralenti par les coûts élevés et les longs délais d’exécution des masques photographiques ? Souhaitez-vous modifier instantanément vos conceptions sans avoir à suivre la longue formation requise par les aligneurs de masques traditionnels ?
Découvrez le site MLA 150 et le monde de la lithographie numérique.
L’aligneur moderne sans masque remplace l’ancienne technologie par une solution rapide, flexible et remarquablement facile à utiliser, conçue pour le plus haut degré de performance. En utilisant un dispositif à miroir numérique (DMD) comme masque dynamique, le MLA 150 surmonte les inconvénients des masques photographiques physiques. Passez d’une conception numérique à un substrat parfaitement modelé en quelques minutes, permettant à vos utilisateurs d’accélérer la recherche dans des domaines tels que les dispositifs quantiques, les MEMS, la micro-optique et les sciences de la vie.
Pourquoi le site MLA 150 est-il le choix idéal pour votre laboratoire ?
Le site MLA 150 a été conçu dès le départ pour relever les principaux défis auxquels sont confrontées les installations de R&D universitaires et industrielles. Il s’attaque directement à des problèmes tels que les longs délais d’approvisionnement en photomasques, les coûts récurrents élevés et la courbe d’apprentissage abrupte des systèmes traditionnels.
Conçu pour les installations à utilisateurs multiples
Réduisez vos frais de formation et maximisez le temps d’utilisation de vos outils. Le MLA 150 est si intuitif que les nouveaux utilisateurs peuvent être entièrement qualifiés pour travailler de manière autonome en moins d’une heure. Son logiciel convivial et son flux de travail rationalisé sont parfaitement adaptés à un environnement de laboratoire partagé, ce qui explique pourquoi le MLA 150 est devenu un outil essentiel dans les principales salles blanches du monde entier.
Flexibilité inégalée pour la recherche avancée
Votre recherche n’est pas standard, et votre outil de lithographie ne devrait pas l’être non plus. Le site MLA 150 s’adapte à votre expérience, et non l’inverse.
- Prise en charge d’une large gamme de résines: Installez simultanément une ou deux longueurs d’onde laser différentes (375 nm et/ou 405 nm) pour exposer toute la gamme des résines photosensibles à large bande, à lignes g, h et i sans modifier le matériel.
- Travailler avec des substrats difficiles: Des mandrins à vide spécialisés vous permettent de manipuler facilement des échantillons difficiles, y compris de petites pièces de substrat allant jusqu’à 3×3 mm², des feuilles minces et des plaquettes déformées.
- Créez des structures 2,5D et à haut rapport d’aspect: Utilisez le mode d’exposition en niveaux de gris intégré pour fabriquer des microstructures 2,5D complexes, ou le mode de rapport d’aspect élevé pour modeler des résines épaisses avec des parois latérales abruptes, idéales pour les MEMS et la microfluidique.
- Mode “dessin” interactif: Dessinez et exposez directement des motifs sur l’image de la caméra en direct de votre échantillon – parfait pour le prototypage rapide ou le placement précis d’électrodes sur des caractéristiques uniques telles que des paillettes de graphène ou des nanofils.
Haute vitesse, haute précision, sans compromis
La convivialité n’est pas synonyme de performances moindres. Le MLA 150 offre la vitesse et la précision dont vous avez besoin pour repousser les limites de la fabrication.
- Résolution submicronique: Obtenez une taille de caractéristique minimale jusqu’à 0,45 μm pour créer des dispositifs complexes à haute résolution.
- Rendement exceptionnel: Exposition d’une tranche complète de 150 mm en moins de 16 minutes.
- Alignement automatisé avancé: Le système atteint une précision d’alignement de 250 nm et compense numériquement le décalage, la rotation, la mise à l’échelle et le cisaillement – des ajustements impossibles à réaliser avec des masques physiques.
- Mise au point parfaite: Un système de mise au point automatique dynamique garantit des caractéristiques nettes et uniformes, et permet de traiter efficacement les substrats à motifs, déformés ou délicats.
- Stabilité absolue: Une chambre environnementale intégrée avec un flux d’air laminaire à température contrôlée (±0,1°C) minimise les effets de la dilatation thermique, garantissant des résultats stables et reproductibles.
Réduire considérablement vos coûts d’exploitation
Éliminez la dépense la plus importante et la plus persistante en lithographie : le masque photographique. Avec le MLA 150, il n’y a pas de coûts d’approvisionnement en masques ni de délais d’exécution de plusieurs semaines. Vous éliminez également les efforts de nettoyage et de stockage, ainsi que le risque de casse coûteuse. Associé à une durée de vie du laser de 10 à 20 ans et à une maintenance aisée, le MLA 150 offre un coût total de possession exceptionnellement bas.
Applications clés
De la physique fondamentale aux biosciences appliquées, le site MLA 150 est l’outil de confiance pour.. :
- Nanofabrication: Dispositifs quantiques, matériaux 2D, nanofils semi-conducteurs
- MEMS ET MOEMS: Capteurs, actionneurs, éléments micro-optiques, microfluidique
- Science des matériaux: Modélisation de nouveaux matériaux
- Sciences de la vie: Dispositifs de laboratoire sur puce, biocapteurs
Rejoignez des centaines d’institutions de premier plan
Découvrez pourquoi les plus grandes universités et centres de recherche du monde entier ont choisi le site MLA 150 pour remplacer leurs aligneurs de masques. Contactez-nous pour découvrir comment autonomiser vos utilisateurs et moderniser votre laboratoire.
> 250 systèmes installés
Parfait pour les installations à utilisateurs multiples
Alignement rapide et précis
Flexible
Différents modes d’exposition disponibles pour une structuration rapide ou de haute qualité
Mandrins à vide supplémentaires pour les échantillons difficiles tels que les petits substrats, les feuilles ou les substrats déformés
Faibles coûts d'exploitation et facilité d'entretien
Lithographie à écriture directe
Niveaux de gris
Qualité de l'exposition
Taille minimale de l'objet
Convivialité
Vitesse d'exposition
Longueur d'onde d'exposition
Mandrins interchangeables
Disposition des mandrins à vide personnalisée sur demande
Mode dessin
Autofocus
Dimensions variables des substrats
Alignement avancé des champs
Applications clients
Pourquoi les clients choisissent nos systèmes
« Le MLA 150 est un très bon compromis entre flexibilité, débit et performance. Dans nos installations multi-utilisateurs, il est très apprécié pour le prototypage rapide sur des substrats de dimensions et de formes variées. Comme l'acquisition du MLA 150 a changé la donne dans notre département de lithographie, nous avons décidé d'en acquérir un deuxième. »
Dr. Philippe Flückiger, Directeur des opérations
Ecole Polytechnique Fédérale de Lausanne (EPFL) Centre de MicroNanoTechnologie (CMi)
Lausanne, Suisse
"Au DTU Nanolab, qui fait partie de l'université technique du Danemark, nous disposons désormais de plusieurs aligneurs sans masque de Heidelberg Instruments. Ces outils s'adaptent parfaitement à nos activités de recherche, tout en offrant des outils polyvalents à bon nombre de nos clients industriels. Une observation spécifique que nous avons faite depuis que nous avons obtenu nos aligneurs sans masque a été une baisse significative du nombre de nouveaux masques commandés pour nos aligneurs de masques, qui est passé d'environ 1 masque par jour à environ 1 masque par mois. Dans l'ensemble, nous sommes très satisfaits de nos aligneurs sans masque, tant du point de vue du personnel que de celui des utilisateurs.
Jens H. Hemmigsen, spécialiste des procédés
DTU Nanolab (Université technique du Danemark)
Lyngby, Danemark
"Le graveur laser direct MLA 150, avec sa facilité d'utilisation et sa polyvalence, est l'équipement de photolithographie idéal. Comme il n'est plus nécessaire d'utiliser des photomasques pour exposer le wafer, le MLA 150 a permis de réduire considérablement le temps et les coûts associés au développement et à la recherche sur les prototypes qui nécessitent des changements fréquents de la disposition."
Dr. Julien Dorsaz, Ingénieur senior en photolithographie
EPFL (CMi)
Lausanne, Suisse
Données techniques
| Mode d'écriture I * | Mode d'écriture II * | |
|---|---|---|
| Performance en matière d'écriture | ||
| Taille minimale des motifs [μm] | 0,6 (0,45 en option) | 1 |
| Lignes et espaces minimaux [μm] | 0,8 (0,45 en option) | 1.2 |
| Alignement global du second niveau [nm] | 500 | 500 |
| Alignement du second niveau local [nm] | 250 | 250 |
| Alignement face arrière [nm] | 1000 | 1000 |
| Temps d'insolation laser 405 nm pour une plaquette de 4″ [min]. | 35 | 9 |
| Temps d'insolation laser 375 nm pour une tranche de 4″ [min] | 35 | 20 |
| Vitesse d'écriture max. laser 405 nm [mm²/min] | 285 | 1100 |
| Vitesse d'écriture max. laser 375 nm [mm²/min] | 285 | 500 |
| Caractéristiques du système | |
|---|---|
| Source lumineuse | Lasers à diode : 8 W à 405 nm, 2,8 W à 375 nm, ou les deux |
| Taille des substrats | Variable : 3 x 3 mm² à 6″ x 6″ | En option : 8″ x 8″ Personnalisable sur demande |
| Épaisseur du substrat | 0 - 12 mm |
| Zone d'exposition maximale | 150 x 150 mm² | En option : 200 x 200 mm². |
| Boîte d'écoulement à température contrôlée | Stabilité de la température ± 0,1 °C |
| Autofocus en temps réel | Jauge à air ou optique |
| Plage de compensation de l'autofocus | 180 μm |
| Niveaux de gris | 128 niveaux de gris |
| Caractéristiques du logiciel | Assistant d'exposition, base de données de résistances, étiquetage automatique et sérialisation, mode dessin pour des expositions sans CAO, suivi / historique des substrats. |
| Dimensions du système (unité de lithographie) | |
| Hauteur × largeur × profondeur | 1950 mm × 1300 mm × 1300 mm |
| Poids | 1100 kg |
| Exigences en matière d'installation | |
| Électricité | 230 VAC ± 5%, 50/60 Hz, 16 A |
| Air comprimé | 6 - 10 bars |
| Considérations économiques | |
| Économie sur le coût des photomasques | |
| Faibles coûts d'exploitation pour l'entretien, la consommation d'énergie et les pièces de rechange | |
| Sources lumineuses laser à l'état solide d'une durée de vie de plusieurs années | |
| * Un seul mode d'écriture peut être installé sur le système. |
Veuillez noter
Les spécifications dépendent des conditions individuelles du processus et peuvent varier en fonction de la configuration de l’équipement. La vitesse d’écriture dépend de la taille des pixels et du mode d’écriture. La conception et les spécifications peuvent être modifiées sans préavis.
