Comment structurer des substrats de verre de très grande taille avec la précision requise pour les écrans de nouvelle génération ? Découvrez comment les photomasques en demi-teintes permettent de créer des profils de résine photosensible à plusieurs niveaux en une seule exposition, de simplifier la fabrication des TFT et pourquoi la fabrication de masques de grande surface exige une précision de superposition, une uniformité et une stabilité thermique exceptionnelles.

Les substrats organiques ont atteint leurs limites. Découvrez comment la lithographie sans masque de Heidelberg Instruments permet à la « révolution du verre » de franchir la barrière des 2 µm pour l’IA.

L’écriture laser directe accélère la fabrication de métasurfaces infrarouges personnalisées, permettant une mise en forme du faisceau, une holographie et bien d’autres choses encore, rapides, flexibles et rentables, sans lithographie complexe.

Des physiciens ont fabriqué le “plus petit violon du monde” pour démontrer de manière éclatante leurs nouvelles capacités de nanolithographie ( NanoFrazor ).

Explorez les défis et les solutions pour réaliser une lithographie en niveaux de gris profonds (>100 µm) pour la microfabrication avancée. Découvrez les limites des résistances, les exigences en matière de masque et les avantages de l’écriture directe par laser.

La microfabrication durable est l’avenir. Découvrez comment les solutions de lithographie avancée de Heidelberg Instruments réduisent les déchets, l’utilisation d’énergie et la consommation de produits chimiques.