Zurich, Suisse — À la suite de l’introduction réussie du système de nanolithographie modulaire NanoFrazor en 2024, Heidelberg Instruments est fier d’annoncer l’installation du tout dernier NanoFrazor. Le système est équipé des modules les plus récents, permettant une lithographie par sonde thermique à balayage (t-SPL) parallélisée. Le site bêta est hébergé par le partenaire de recherche EPFL, l’École polytechnique fédérale de Lausanne, en Suisse. Cette installation marque une avancée majeure dans les efforts conjoints visant à mettre en pratique des technologies de nanofabrication de nouvelle génération, promettant des progrès dans la recherche et les applications à l’échelle nanométrique.
Conçu pour une lithographie haute résolution jusqu’à 20 nm, avec une grande flexibilité d’application et un débit accru, le système intègre une t-SPL parallélisée avec dix pointes chauffées écrivant simultanément, la sublimation laser directe (DLS) et une automatisation avancée. « La parallélisation de la t-SPL était l’étape logique suivante pour faire progresser la nanolithographie thermique. Sa mise en œuvre, cependant, était loin d’être triviale », déclare la Dre Emine Cagin, CTO de Heidelberg Instruments Nano AG. « La parallélisation a nécessité une décennie de développement, aboutissant à un nouveau cadre évolutif pour l’électronique et les logiciels qui alimente désormais le nouveau NanoFrazor. »
Le nouveau module, nommé Decapede, augmente le débit jusqu’à dix fois sans compromettre les capacités de haute résolution. « Grâce à l’amélioration du débit, nous envisageons de passer à l’échelle des surfaces nano en niveaux de gris permettant une ingénierie de déformation déterministe et localisée des matériaux 2D, du niveau puce à l’échelle wafer, en vue d’une intégration industrielle potentielle », explique Berke Erbas, chercheur postdoctoral au Laboratoire des microsystèmes de l’EPFL. « Nous visons également l’industrialisation de moules de nanoimpression en niveaux de gris fabriqués par t-SPL et procédés de gravure sèche. »
EPFL — Un pôle d’innovation
L’expertise de l’EPFL en t-SPL et ses vastes capacités de nanofabrication en font un site bêta idéal et marquent la poursuite d’un partenariat de longue date et de confiance avec Heidelberg Instruments. Le consortium de groupes de recherche impliqués réunit une connaissance approfondie de la t-SPL et de diverses techniques de nanofabrication, ainsi que des idées nouvelles et des applications ambitieuses. L’engagement généreux à fournir un retour d’information continu aidera Heidelberg Instruments à valider davantage les performances du système et à affiner les interfaces utilisateur.
De la nanoélectronique aux dispositifs quantiques : perspectives
Le site bêta de l’EPFL n’est pas seulement un lieu de test et de validation des capacités du système, mais avant tout un catalyseur d’innovation en nanolithographie. Les applications couvrent la nanoélectronique, la plasmonique, les dispositifs quantiques et les biocapteurs nano. Jürgen Brugger, professeur de micro-ingénierie et de science des matériaux à l’EPFL, souligne : « La t-SPL s’est révélée être un excellent outil pour la formation des jeunes chercheurs grâce à ses capacités de prototypage rapide et à son faible seuil d’accès à la création de nanopatterns en peu de temps. Nous sommes ravis d’étendre ces capacités à l’écriture parallèle. » Par exemple, le Laboratoire de nanoscience pour les technologies de l’énergie (LNET), dirigé par la professeure Giulia Tagliabue, explore l’utilisation des fonctionnalités en niveaux de gris pour réaliser des métasurfaces avancées capables de confiner fortement la lumière à l’échelle nanométrique pour la conversion d’énergie et l’étude des processus interfaciaux.
Nous sommes impatients de voir comment ce site bêta accélérera les découvertes et ouvrira de nouvelles possibilités dans les sciences à l’échelle nanométrique, tant pour la recherche que pour l’enseignement avec le système NanoFrazor.
