Zurich, Suisse/Heidelberg, Allemagne – Heidelberg Instruments est fier d’annoncer le lancement de son nouveau système de nanolithographie NanoFrazor, qui met à profit des décennies d’expertise dans le domaine de la micro- et de la nanofabrication. Cet outil polyvalent, conçu pour la haute résolution, la flexibilité, le débit et la modularité, peut être équipé de dix cantilevers de modelage parallèles, ce qui augmente considérablement la productivité. Combinant la lithographie thermique par sonde à balayage (t-SPL), la sublimation laser directe (DLS) et une automatisation accrue, le NanoFrazor soutient la recherche de pointe sur les dispositifs quantiques, les matériaux 1D/2D et l’électronique à l’échelle nanométrique, ainsi que les applications en nanophotonique, méta-optique et nanofluidique.

Au cœur du NanoFrazor se trouve une pointe de sonde chauffante ultra nette, qui permet le modelage précis de nanostructures avec des résolutions latérales aussi fines que 15 nm et des résolutions verticales allant jusqu’à 2 nm. Son système d’inspection in situ permet la lithographie en boucle fermée (CLL), ce qui permet une superposition sans marqueur et des ajustements en temps réel pour garantir une précision verticale inférieure à 2 nm, même pour les motifs en niveaux de gris les plus complexes. Cette caractéristique révolutionnaire permet des applications avancées dans le domaine de la photonique, des substrats biomimétiques et de la modification locale des matériaux par des réactions chimiques induites par la chaleur ou des changements de phase.

Caractéristiques principales :

• Lithographie par sonde à balayage thermique (t-SPL) : Création de motifs de haute précision pour les composants critiques des nanodispositifs.
• Modularité : La plateforme configurable du NanoFrazor permet d’élaborer des solutions sur mesure en fonction des applications et des exigences du laboratoire. Des modules supplémentaires et des mises à niveau peuvent être installés au fur et à mesure de l’avancement de la recherche, offrant ainsi flexibilité et évolutivité.
• Résolution et débit : Avec le nouveau module Decapede, le débit est décuplé grâce à l’utilisation de 10 cantilevers thermiques indépendants, ce qui permet de gagner en vitesse sans sacrifier la résolution.
• Lithographie hybride mixte : Le NanoFrazor prend en charge un module de sublimation laser directe (DLS) pour une écriture plus rapide avec une résolution de l’ordre du micromètre, ce qui le rend idéal pour les motifs de grande surface tels que les fils de contact et les tampons.

S’appuyant sur des décennies de recherche et développement à IBM Research Zürich, le NanoFrazor continue d’évoluer chez Heidelberg Instruments Nano. Une bibliothèque complète des meilleures pratiques en matière de gravure, de décollement et d’autres processus permet aux utilisateurs d’optimiser leurs résultats dans diverses applications.

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