Zurich, Suisse / Heidelberg, Allemagne – Heidelberg Instruments annonce fièrement le lancement de son nouveau système de nanolithographie NanoFrazor, enrichissant des décennies d’expertise en micro- et nanofabrication. Cet outil polyvalent, conçu pour une haute résolution, une grande flexibilité, un débit élevé et une modularité accrue, peut être équipé de dix porte-cantilevers de motif parallèles, augmentant considérablement la productivité. Combinant la lithographie thermique par sonde à balayage (t-SPL), la sublimation laser directe (DLS) et une automatisation améliorée, le NanoFrazor soutient la recherche de pointe dans les dispositifs quantiques, les matériaux 1D/2D et l’électronique à l’échelle nanométrique, ainsi que dans des domaines tels que la nanophotonique, la méta-optique et la nanofluidique.

Au cœur du NanoFrazor se trouve une pointe chauffable ultra-affûtée, permettant un motif précis de nanostructures avec une résolution latérale aussi fine que 15 nm et une résolution verticale allant jusqu’à 2 nm. Son système d’inspection in situ offre la lithographie en boucle fermée (CLL), permettant un alignement sans marqueur et des ajustements en temps réel pour garantir une précision verticale inférieure à 2 nm, même pour les motifs en niveaux de gris les plus complexes. Cette fonctionnalité révolutionnaire permet des applications avancées en photonique, en substrats biomimétiques et en modification locale de matériaux via des réactions chimiques ou des changements de phase induits par la chaleur.

Caractéristiques clés:

• Lithographie thermique par sonde à balayage (t-SPL) : motif haute précision pour les composants critiques de nanodispositifs.
• Modularité: la plateforme configurable du NanoFrazor permet des solutions adaptées selon l’application et les exigences du laboratoire. Des modules et mises à niveau supplémentaires peuvent être installés au fur et à mesure des progrès de la recherche, offrant flexibilité et évolutivité.
• Résolution et débit : avec le nouveau module Decapede, le débit est multiplié par dix grâce à l’utilisation de 10 cantilevers thermiques indépendants, offrant une vitesse accrue sans compromettre la résolution.
• Lithographie hybride mix & match : le NanoFrazor prend en charge un module de sublimation laser directe (DLS) pour une écriture plus rapide à résolution micrométrique, idéale pour les motifs de grande surface tels que les fils de contact et les plots.

Reposant sur des décennies de R&D issues d’IBM Research Zurich, le NanoFrazor continue d’évoluer chez Heidelberg Instruments Nano. Une bibliothèque complète de bonnes pratiques en gravure, lift-off et autres procédés assure aux utilisateurs l’optimisation de leurs résultats dans diverses applications.

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