Dans le monde des nanosciences, qui évolue rapidement, les percées pionnières sont souvent le fruit d’une exploration motivée par la curiosité. Nolan Lassaline, chercheur postdoctoral à l’Université technique du Danemark (DTU), incarne cet esprit d’innovation. Son parcours, depuis l’étude du comportement des photons jusqu’au repoussement des limites de l’électronique quantique, est une histoire fascinante où se mêlent l’optique classique et les techniques avancées de nanofabrication.
Dans une interview exclusive publiée dans le troisième numéro de The Lithographer, le Dr Lassaline explique comment sa passion pour la lithographie thermique par sonde à balayage (t-SPL) est née lors de son stage chez IBM Zurich, le berceau de la microscopie à sonde à balayage. Cela a donné une nouvelle orientation à son travail de doctorat à l’ETH Zurich, où il a utilisé le NanoFrazor pour explorer l’inconnu en optique et créer des structures de diffraction révolutionnaires qui manipulent les photons et les électrons à l’échelle nanométrique. Son approche expérimentale a débouché sur le concept de “surfaces de Fourier”, une méthode révolutionnaire pour adapter la diffraction et les structures de bandes optiques.
Aujourd’hui, alors qu’il étudie les matériaux quantiques à DTU, le Dr Lassaline continue de libérer le potentiel des matériaux 2D, en utilisant la t-SPL pour programmer des fonctionnalités quantiques dans le graphène. Depuis ses travaux sur le plus petit disque “vinyle” jamais gravé jusqu’à sa nomination en tant que “Emerging Leader” par le Journal of Physics : Materials, ses réalisations l’ont engagé sur la voie de l’exploration, mêlant l’optique, l’électronique et la nanofabrication d’une manière entièrement nouvelle.
Vous voulez en savoir plus sur son parcours et sur ce qui se profile à l’horizon ? Lisez l’interview complète ici.
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Le pool de systèmes et de technologies de Heidelberg Instruments comprend des systèmes d’alignement sans masque (MLA) et de lithographie laser de haute précision pour l’écriture directe de microstructures 2D, 2,5D et 3D jusqu’à la fabrication de masques, ainsi que des systèmes basés sur la lithographie thermique à sonde de balayage (t-SPL) pour les nanopatterns avancés. Les systèmes de lithographie laser 3D basés sur la technologie de polymérisation à deux photons (TPP) comblent le fossé entre la lithographie laser conventionnelle – la base de l’activité principale de Heidelberg Instruments – et la lithographie par sonde à balayage thermique (t-SPL) pour la création de nanopatterns.
La lithographie sans masque, technologie de pointe, de haute précision et très flexible, est idéale pour la recherche et le développement ainsi que pour les environnements nécessitant un prototypage rapide de caractéristiques de taille supérieure à 1 µm. La technique de lithographie sans masque vous permet de transférer la conception directement sur la plaquette de silicium sans qu’il soit nécessaire d’utiliser un masque photographique.
Dans la lithographie sans masque, le motif est exposé directement sur la surface du substrat à l’aide d’un modulateur spatial de lumière, ou SLM, qui sert de “photomasque dynamique”.
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