Faire avancer la technologie, célébrer les jalons, renforcer la communauté
Quelle semaine ! Du 15 au 18 septembre, nous avons eu le plaisir de retrouver la communauté de la micro- et nanofabrication à la 51e conférence MNE (MNE 2025) à Southampton, R.-U. Heidelberg Instruments a participé avec fierté en tant que sponsor Platine et exposant—une tradition de longue date et une occasion idéale de rencontrer des pairs du monde entier, de partager nos derniers développements en lithographie laser sans masque et en écriture directe, et de célébrer un jalon très spécial. Le 10e anniversaire de notre MLA 150 Maskless Aligner a été l’un des véritables moments forts de la semaine MNE. Depuis son lancement en 2015, le MLA 150 s’est imposé comme un « cheval de travail » indispensable dans les salles blanches du monde entier, offrant un motif performant, flexible et économique. Nous avons marqué ce jalon important de l’histoire d’Heidelberg Instruments par un moment convivial sur notre stand, en levant nos verres avec un cocktail à la grenade rafraîchissant. Un grand merci à toutes celles et ceux qui sont passés nous voir et ont célébré avec nous !
Nous étions également fiers de soutenir une nouvelle fois le MNE Fellow Award. Cette année, le prix a été décerné au Professeur émérite Lars Montelius (Université de Lund), Directeur d’AM-I, en reconnaissance de ses contributions remarquables à la recherche. Félicitations au Professeur Montelius ! Lors de la cérémonie, nous lui avons remis un cadeau spécial—une plaquette micro-structurée sur mesure, symbole de précision, de créativité et de l’esprit de la microfabrication.
Tout au long de la conférence, nos expertes et experts ainsi que les utilisatrices et utilisateurs de nos systèmes ont pris la parole pour partager idées et innovations : Mark Rosamond (Université de Leeds) a lancé le BEAMeeting en présentant son retour d’expérience sur le MLA 150. Sven Preuss, chef de produit stratégique de la série DWL, a livré une présentation « shotgun » au rythme soutenu (5 minutes !) sur les dernières mises à niveau du DWL 66+, et Julia Stark, ingénieure R&D du Process and Application Lab de Heidelberg Instruments Nano en Suisse, a contribué au programme MNE avec sa présentation « Advances in parallelization of thermal scanning probe lithography and large-area patterning ».
Merci, MNE 2025 ! Nous avons passé d’excellents moments à revoir utilisatrices, utilisateurs, partenaires et amis, à faire de nouvelles rencontres, et à plonger dans des échanges passionnants sur l’avenir de la lithographie. Merci à toutes et à tous d’être passés sur notre stand, d’avoir assisté aux présentations ou simplement de nous avoir salué. Nous avons déjà hâte de vous retrouver l’an prochain en Suisse !
