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Comment la lithographie sans masque permet la nouvelle génération de l’Advanced Packaging
Alors que l’IA et le calcul haute performance (HPC) poussent les circuits monolithiques vers l’obsolescence, l’industrie se tourne vers l’Advanced Packaging. Pourtant, des défis comme le déplacement des dies (die shift) et le gauchissement des substrats menacent de faire chuter le rendement avant même que le boîtier ne quitte la fab. Voici alors émerger le nouveau héros de la microélectronique : la lithographie sans masque. Découvrez comment l’alignement adaptatif permet à vos chiplets de vivre et de calculer un jour de plus.
Au-delà de la théorie : l’ingénierie des dispositifs quantiques grâce à la lithographie de précision
La révolution quantique passe de la théorie à la réalité, comme le démontrent des percées telles que « Quantum Echoes » de Google.
Passer de petites démonstrations à des systèmes comportant des milliers de qubits exige une nanofabrication ultra-précise et uniforme.
Cet article examine les défis de fabrication et les solutions lithographiques qui permettent de faire le saut du laboratoire à la production à grande échelle.
C’est bouclé : les temps forts de MNE 2025 à Southampton (R.-U.)
Quelle semaine ! Du 15 au 18 septembre, nous avons eu le plaisir de rejoindre la communauté de la micro- et nanofabrication lors de la 51e conférence internationale Micro and Nano Engineering (MNE 2025) à Southampton, au Royaume-Uni.
Une Décennie de Découvertes : Le MLA 150 Maskless Aligner de Heidelberg Instruments fête ses 10 ans
Heidelberg Instruments célèbre avec fierté le 10ᵉ anniversaire du MLA 150 Maskless Aligner—une avancée qui a redéfini la lithographie haute résolution dans les salles blanches du monde entier.
2005-2025 : Heidelberg Instruments Korea fête ses 20 ans!
Heidelberg Instruments Korea célèbre ses 20 ans d’engagement et de partenariat avec ses clients !
Fondée sur la confiance, la fidélité et les relations à long terme, Heidelberg Instruments Korea continue de jouer un rôle essentiel dans la promotion de l’innovation auprès de ses clients locaux.
Célébrer une décennie d’innovation : Rejoignez Heidelberg Instruments au MNE 2025
Rejoignez Heidelberg Instruments à Southampton pour le MNE 2025 ! Nous sommes fiers de sponsoriser le prestigieux Fellow Award et nous nous réjouissons de célébrer avec vous le 10e anniversaire de notre MLA 150.
Réduire l’écart avec la lithographie par faisceau d’électrons : le DWL 66+ atteint désormais des structures de 200 nm et un niveau de niveaux de gris inégalé
Le DWL 66+ est désormais plus performant que jamais, avec deux améliorations révolutionnaires qui redéfinissent les possibilités de la lithographie optique.
Écriture directe au laser pour les métasurfaces : L’avenir de l’optique infrarouge personnalisée en un clin d’œil
L’écriture laser directe accélère la fabrication de métasurfaces infrarouges personnalisées, permettant une mise en forme du faisceau, une holographie et bien d’autres choses encore, rapides, flexibles et rentables, sans lithographie complexe.
L’université de Loughborough crée le “plus petit violon du monde” pour illustrer les capacités du site NanoFrazor
Des physiciens ont fabriqué le “plus petit violon du monde” pour démontrer de manière éclatante leurs nouvelles capacités de nanolithographie ( NanoFrazor ).
Un franc succès ! Retour sur la réunion de l’Optica Global Advanced Manufacturing Alliance 2025
Lisez le compte rendu de Heidelberg Instruments sur la réunion de l’Optica Global Advanced Manufacturing Alliance 2025. Merci à toutes et à tous de faire progresser l’innovation en photonique !
Installation du NanoFrazor avec capacités de parallélisation sur site bêta à l’EPFL
À la suite de l’introduction réussie du système de nanolithographie modulaire NanoFrazor en 2024, Heidelberg Instruments est fier d’annoncer l’installation du nouveau NanoFrazor à l’EPFL.
Heidelberg Instruments annonce une commande importante pour le générateur de motifs en volume VPG+ 1850 FPD de la part d’un important fabricant asiatique de photomasques pour écrans d’affichage.
Heidelberg Instruments a reçu une commande importante d’un fabricant de photomasques de premier plan en Asie pour un système VPG+ 1850 FPD, développé sur la plateforme établie de son générateur de motifs en volume VPG+ 1400 FPD.
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Heidelberg Instruments améliore le système de lithographie DWL 66⁺, atteignant une résolution de 200 nm, leader sur le marché, et 65 536 niveaux de gris.
Heidelberg Instruments a réalisé d’importantes améliorations de performance sur son célèbre DWL 66⁺, consolidant ainsi sa position d’outil de recherche ultime pour la microfabrication.
Réduire l’écart avec la lithographie par faisceau d’électrons : le DWL 66+ atteint désormais des structures de 200 nm et un niveau de niveaux de gris inégalé
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