Science des matériaux
Lithographie pour les nouveaux matériaux
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Description
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Travailler avec des matériaux à l’échelle nanométrique et micro-économique nécessite de prêter attention à l’impact des dimensions des modèles et des dispositifs sur les propriétés des matériaux.
La lithographie à écriture directe offre une méthode flexible pour modifier et façonner les matériaux à ces échelles, ce qui permet de contrôler une série de propriétés physiques. Les séries DWL et MLA de Heidelberg Instruments utilisent la lithographie laser à écriture directe pour créer des motifs, des structures et des textures à micro-échelle, ainsi que des contacts pour les dispositifs électroniques et les mesures.En outre, la lithographie thermique par sonde à balayage (t-SPL) peut être utilisée pour modifier des matériaux à l’échelle nanométrique, avec la possibilité supplémentaire d’appliquer un chauffage local. Le NanoFrazor est un outil de lithographie extrêmement précis et polyvalent, qui permet d’appliquer un chauffage et un refroidissement ultrarapides ainsi qu’une pression locale élevée aux matériaux à l’échelle nanométrique, ouvrant ainsi l’accès à des états de la matière qui ne seraient pas accessibles à l’échelle macroscopique.
Ces techniques de lithographie en écriture directe peuvent être utilisées pour étudier et contrôler les propriétés physiques des matériaux, avec des applications potentielles dans des domaines tels que l’électronique de haute performance, le stockage de l’énergie et la purification de l’eau. Alors que les dimensions des modèles et des dispositifs continuent de diminuer, la lithographie en écriture directe offre une voie prometteuse pour la poursuite des progrès dans le domaine des nanotechnologies.
Vous trouverez ci-dessous quelques images relatives à la science des matériaux et aux systèmes adaptés à cette application.
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Requirements
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Solutions
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Conversion thermique
Utilisé pour générer localement des modifications et de nouveaux matériaux à l’échelle nanométrique (NanoFrazor)Recouvrement précis
Permet d’aligner des électrodes sur des matériaux à l’échelle nanométrique sans marques d’alignement (NanoFrazor)Aucune salle blanche n'est nécessaire
Lithographie à haute résolution à l’aide de nouveaux matériauxLithographie non invasive
Utilisé pour préserver les propriétés physiques des matériaux sensibles qui seraient autrement endommagés ou détruits par l’irradiation avec des particules chargées ou le contact avec l’air (solutions en boîte à gants).
Travailler avec des matériaux à l’échelle nanométrique et micro-économique nécessite de prêter attention à l’impact des dimensions des modèles et des dispositifs sur les propriétés des matériaux.
La lithographie à écriture directe offre une méthode flexible pour modifier et façonner les matériaux à ces échelles, ce qui permet de contrôler une série de propriétés physiques. Les séries DWL et MLA de Heidelberg Instruments utilisent la lithographie laser à écriture directe pour créer des motifs, des structures et des textures à micro-échelle, ainsi que des contacts pour les dispositifs électroniques et les mesures.
En outre, la lithographie thermique par sonde à balayage (t-SPL) peut être utilisée pour modifier des matériaux à l’échelle nanométrique, avec la possibilité supplémentaire d’appliquer un chauffage local. Le NanoFrazor est un outil de lithographie extrêmement précis et polyvalent, qui permet d’appliquer un chauffage et un refroidissement ultrarapides ainsi qu’une pression locale élevée aux matériaux à l’échelle nanométrique, ouvrant ainsi l’accès à des états de la matière qui ne seraient pas accessibles à l’échelle macroscopique.
Ces techniques de lithographie en écriture directe peuvent être utilisées pour étudier et contrôler les propriétés physiques des matériaux, avec des applications potentielles dans des domaines tels que l’électronique de haute performance, le stockage de l’énergie et la purification de l’eau. Alors que les dimensions des modèles et des dispositifs continuent de diminuer, la lithographie en écriture directe offre une voie prometteuse pour la poursuite des progrès dans le domaine des nanotechnologies.
Vous trouverez ci-dessous quelques images relatives à la science des matériaux et aux systèmes adaptés à cette application.
Conversion thermique
Recouvrement précis
Aucune salle blanche n'est nécessaire
Lithographie non invasive
Application images
suitable Systems
DWL 66+
- Système de lithographie par laser à écriture directe
Notre système le plus polyvalent pour la recherche et le prototypage avec une résolution variable et un large choix d’options.
MLA 150
- Aligneur sans masque
L’outil sans masque le plus rapide pour le prototypage rapide, l’alternative aux aligneurs de masques. Parfait pour la lithographie binaire standard.
NanoFrazor
- Système de lithographie par sonde à balayage thermique
Polyvalent et modulaire outil combiner Sonde de balayage thermique Lithographie, la sublimation sublimation laser directe et l’automatisation l’automatisation pour de pointede pointe. R&D.