Science des matériaux
Lithographie pour les nouveaux matériaux
-
Description
-
Travailler avec des matériaux à l’échelle nano-structurale et microscopique nécessite de prêter attention à l’impact des dimensions des modèles et des dispositifs sur les propriétés des matériaux.
La lithographie par écriture directe offre une méthode flexible pour modifier et façonner les matériaux à ces échelles, permettant de contrôler une gamme de propriétés physiques. Les séries DWL et MLA de Heidelberg Instruments utilisent la lithographie laser par écriture directe pour créer des motifs, structures et textures à l’échelle micrométrique, ainsi que des contacts pour dispositifs électroniques et mesures.De plus, la lithographie thermique par sonde à balayage (t-SPL) peut être utilisée pour initier des modifications de matériaux à l’échelle nanométrique, avec la capacité supplémentaire d’appliquer un chauffage local. Le NanoFrazor fournit un outil de lithographie extrêmement précis et polyvalent, permettant d’appliquer un chauffage ultrarapide, un refroidissement et une pression locale élevée aux matériaux à l’échelle nanométrique, ouvrant l’accès à des états de la matière qui peuvent ne pas être accessibles à l’échelle macroscopique.
Ces techniques de Lithographie par écriture directe peuvent être utilisées pour étudier et contrôler les propriétés physiques des matériaux, avec des applications potentielles dans des domaines tels que l « électronique à haute performance, le stockage de l » énergie et la purification de l’eau. Alors que les dimensions des modèles et des dispositifs continuent de diminuer, la Lithographie par écriture directe offre une voie prometteuse pour la poursuite des progrès dans le domaine des nanotechnologies.
Vous trouverez ci-dessous quelques images liées à la Science des matériaux et aux systèmes adaptés à cette application.
-
Exigences
-
Création de motifs sur des matériaux arbitraires
Lithographie non invasive
Chauffage localisé
Contrôle précis de la température
-
Solutions
-
Conversion thermique
Utilisé pour générer localement des modifications et de nouveaux matériaux à l’échelle nanométrique (NanoFrazor)Superposition précise
Permet d’aligner des électrodes sur des matériaux à l’échelle nanométrique sans marques d’alignement (NanoFrazor)Aucune salle blanche n'est nécessaire
Lithographie à haute résolution à l’aide de nouveaux matériauxLithographie non invasive
Utilisé pour préserver les propriétés physiques des matériaux sensibles qui seraient autrement endommagés ou détruits par l’irradiation avec des particules chargées ou le contact avec l’air (solutions en boîte à gants).
Travailler avec des matériaux à l’échelle nano-structurale et microscopique nécessite de prêter attention à l’impact des dimensions des modèles et des dispositifs sur les propriétés des matériaux.
La lithographie par écriture directe offre une méthode flexible pour modifier et façonner les matériaux à ces échelles, permettant de contrôler une gamme de propriétés physiques. Les séries DWL et MLA de Heidelberg Instruments utilisent la lithographie laser par écriture directe pour créer des motifs, structures et textures à l’échelle micrométrique, ainsi que des contacts pour dispositifs électroniques et mesures.
De plus, la lithographie thermique par sonde à balayage (t-SPL) peut être utilisée pour initier des modifications de matériaux à l’échelle nanométrique, avec la capacité supplémentaire d’appliquer un chauffage local. Le NanoFrazor fournit un outil de lithographie extrêmement précis et polyvalent, permettant d’appliquer un chauffage ultrarapide, un refroidissement et une pression locale élevée aux matériaux à l’échelle nanométrique, ouvrant l’accès à des états de la matière qui peuvent ne pas être accessibles à l’échelle macroscopique.
Ces techniques de Lithographie par écriture directe peuvent être utilisées pour étudier et contrôler les propriétés physiques des matériaux, avec des applications potentielles dans des domaines tels que l « électronique à haute performance, le stockage de l » énergie et la purification de l’eau. Alors que les dimensions des modèles et des dispositifs continuent de diminuer, la Lithographie par écriture directe offre une voie prometteuse pour la poursuite des progrès dans le domaine des nanotechnologies.
Vous trouverez ci-dessous quelques images liées à la Science des matériaux et aux systèmes adaptés à cette application.
Création de motifs sur des matériaux arbitraires
Lithographie non invasive
Chauffage localisé
Contrôle précis de la température
Conversion thermique
Superposition précise
Aucune salle blanche n'est nécessaire
Lithographie non invasive
Images d'applications








Systèmes adaptés
DWL 66+ Système de lithographie laser
- Système de lithographie par laser à écriture directe
Notre système le plus polyvalent pour la recherche et le prototypage avec une résolution variable et un large choix d’options.
MLA 150 Aligneur sans masque
- Aligneur sans masque
L’outil sans masque le plus rapide pour le prototypage rapide, l’alternative aux aligneurs de masques. Parfait pour la lithographie binaire standard.
NanoFrazor Outil de nanolithographie
- Système de lithographie par sonde à balayage thermique
Outil polyvalent et modulable combinant la lithographie par sonde thermique, la sublimation laser directe et l’automatisation avancée pour la R&D de pointe.
