Photomasques

Les masques photographiques sont des gabarits essentiels dans les processus photolithographiques, servant de pochoirs précis pour la production de circuits intégrés, de composants électroniques à haute performance, de dispositifs à semi-conducteurs, d’écrans, etc. Malgré les progrès constants de la miniaturisation des transistors, la lithographie UV à base de masques photographiques reste la principale technologie de microfabrication.

En règle générale, les masques photographiques sont fabriqués à partir d’un substrat de chaux sodée ou de quartz recouvert d’une fine couche de métal – le plus souvent du chrome – afin d’absorber la lumière dans des longueurs d’onde spécifiques, telles que les lignes i, g et h. Les sections transparentes du masque photographique définissent le schéma du circuit. Les sections transparentes du photomasque définissent le schéma du circuit, qui est transféré sur une couche photosensible à l’aide d’un aligneur de masque ou d’un stepper. Dans la fabrication des semi-conducteurs et des écrans, plusieurs photomasques sont nécessaires pour compléter les couches complexes d’un dispositif. Pour éviter toute contamination, les photomasques des semi-conducteurs sont protégés par une feuille de pellicule.

Les motifs des masques photographiques sont générés par lithographie laser à haute résolution ou par lithographie par faisceau d’électrons, en fonction de la précision requise. En tant que gabarits principaux, les photomasques doivent répondre à des spécifications rigoureuses, notamment des largeurs de lignes uniformes, un positionnement exact du motif, une rugosité minimale des bords et des caractéristiques de très petite taille. Ces tolérances serrées sont essentielles pour permettre une large fenêtre de traitement, garantissant ainsi la fiabilité de la fabrication en grande série.

Les systèmes ^VPG+ de Heidelberg Instruments sont des générateurs de modèles à grand volume avec capacité d’écriture directe, produisant des photomasques de petite à grande surface avec une excellente fidélité d’image et un débit élevé. En outre, l’ULTRA, un graveur de masque laser certifié pour la production de photomasques de semi-conducteurs, atteint une précision exceptionnelle, créant des structures jusqu’à 500 nm. Il est donc idéal pour les fabricants exigeant des normes rigoureuses pour les semi-conducteurs avancés et les applications d’affichage.