Modèles de nano-impression

La lithographie par nano-impression (LNI) est une méthode à haut rendement utilisée pour reproduire des nanostructures 2D ou 2,5D dans des applications photoniques, optiques et nanofluidiques. Le processus nécessite des gabarits maîtres précis générés par nano- ou microlithographie à écriture directe.

Bien que tous les instruments Heidelberg soient capables de produire des structures 2D adaptées à la réplication, la lithographie en niveaux de gris permet de produire des topographies complexes. La lithographie laser en niveaux de gris sans masque est une technique rapide qui génère des topographies complexes dans une couche de résine photosensible sur un substrat, qui est ensuite utilisée comme modèle pour la réplication. La série DWL est le choix idéal pour fabriquer rapidement de tels modèles.

Le NanoFrazor, qui utilise la lithographie à échelle de gris par sonde à balayage thermique, peut produire des masters avec une résolution latérale plus élevée et une résolution verticale impressionnante de 1 nm (axe Z).