Microélectronique et nanoélectronique

Les progrès de la microélectronique reposent continuellement sur le rétrécissement des dispositifs électroniques et l’incorporation de nouveaux matériaux dans les régions actives afin d’atteindre des vitesses toujours plus élevées et de nouvelles fonctionnalités dans les structures des dispositifs. Cette exploration des architectures de dispositifs et l’utilisation de nouveaux matériaux nécessitent une approche de prototypage rapide, permettant de tester et de mettre en œuvre efficacement les changements de conception.

Les outils de lithographie sans masque, tels que les séries MLA, DWL et ^VPG+ de Heidelberg Instruments, ont émergé comme une technologie transformatrice dans la lithographie microélectronique, offrant de nombreux avantages par rapport à la photolithographie traditionnelle. Leur haute résolution et leur fonctionnement sans masque permettent le modelage précis de caractéristiques microscopiques complexes, repoussant ainsi les limites de la miniaturisation. En éliminant les masques physiques, les coûts de production sont réduits et le prototypage rapide devient possible, ce qui accélère les cycles de développement. La flexibilité de la technologie permet une personnalisation à la volée, en adaptant chaque dispositif sur la plaquette en fonction d’exigences spécifiques.

Le NanoFrazor facilite la nanoélectronique en combinant la lithographie thermique par sonde à balayage (t-SPL) et la sublimation laser directe. Cette technique de nanolithographie thermique permet de créer des nanostructures dans les régions les plus critiques des dispositifs avec les résolutions les plus élevées. L’incorporation de la sublimation directe par laser des mêmes résines thermiques permet une écriture efficace des traces et des contacts électriques. Par conséquent, le NanoFrazor est devenu un choix idéal pour la fabrication de dispositifs nanoélectroniques, en particulier dans des applications telles que l’électronique quantique et la détection moléculaire.