Micro-optique et photonique

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Réflecteurs, diffuseurs et microlentilles fabriqués dans l'excellence

  • Description

  • Les réseaux de micro-lentilles et les lentilles de Fresnel complexes sont des composants essentiels de l’optique des appareils photo compacts en raison de la demande croissante d’optiques avancées et miniaturisées dans les smartphones et les tablettes. Ces micro-lentilles sont utilisées dans une variété d’applications telles que les capteurs de front d’onde, le couplage de fibres ou l’homogénéisation des sources lumineuses. La production de ces micro-lentilles commence par la lithographie en échelle de gris pour générer un moule, qui peut ensuite être reproduit via LIGA pour créer une cale métallique, utilisée comme outil principal pour le moulage, l’impression ou le gaufrage à chaud. La lithographie en niveaux de gris est également utilisée pour fabriquer des microprismes, des guides d’ondes, des réseaux blazés, des hologrammes générés par ordinateur (CGH) et des étiquettes de sécurité spécialisées, entre autres. La lithographie en écriture directe permet la fabrication précise de réseaux VLS (à espacement de ligne variable) et de réseaux standard. La série DWL comprend plusieurs systèmes de lithographie en niveaux de gris très performants, tels que le DWL 66+ pour la R&D et le DWL 2000 GS / DWL 4000 GS pour les besoins haut de gamme.

    Le NanoFrazor est un outil puissant qui peut être utilisé pour une variété d’applications micro- et nano-optiques. Sa haute résolution associée à ses capacités de lithographie en niveaux de gris en font l’outil idéal pour fabriquer des structures nano-optiques telles que des réseaux de diffraction, des surfaces optiques de Fourier, des plaques de phase et des composants optiques plus complexes et finement réglés.

  • Requirements

  • Solutions

  • Haute et ultra-haute résolution

    300 nm (DWL66+), 15 nm (NanoFrazor)

    Fonctions de réduction des piqûres

    Permettre des surfaces lisses de grands éléments micro-optiques dans une résine photosensible épaisse

    Substrats de petites pièces jusqu'aux panneaux G8

    Nos systèmes offrent la possibilité de choisir la taille de scène adaptée à votre application.

    Optimisation de la forme

    Utilisé pour simplifier la compensation des effets non linéaires

    Système de plateau de haute précision pour un placement précis des motifs

    Utilisé pour positionner parfaitement les dispositifs micro-optiques

    Mode d'écriture spécifique à l'application pour optimiser la résolution et le débit

    Le choix des modes d’écriture permet de faire le bon compromis pour votre application (série DWL)

Les réseaux de micro-lentilles et les lentilles de Fresnel complexes sont des composants essentiels de l’optique des appareils photo compacts en raison de la demande croissante d’optiques avancées et miniaturisées dans les smartphones et les tablettes. Ces micro-lentilles sont utilisées dans une variété d’applications telles que les capteurs de front d’onde, le couplage de fibres ou l’homogénéisation des sources lumineuses. La production de ces micro-lentilles commence par la lithographie en échelle de gris pour générer un moule, qui peut ensuite être reproduit via LIGA pour créer une cale métallique, utilisée comme outil principal pour le moulage, l’impression ou le gaufrage à chaud. La lithographie en niveaux de gris est également utilisée pour fabriquer des microprismes, des guides d’ondes, des réseaux blazés, des hologrammes générés par ordinateur (CGH) et des étiquettes de sécurité spécialisées, entre autres. La lithographie en écriture directe permet la fabrication précise de réseaux VLS (à espacement de ligne variable) et de réseaux standard. La série DWL comprend plusieurs systèmes de lithographie en niveaux de gris très performants, tels que le DWL 66+ pour la R&D et le DWL 2000 GS / DWL 4000 GS pour les besoins haut de gamme.

Le NanoFrazor est un outil puissant qui peut être utilisé pour une variété d’applications micro- et nano-optiques. Sa haute résolution associée à ses capacités de lithographie en niveaux de gris en font l’outil idéal pour fabriquer des structures nano-optiques telles que des réseaux de diffraction, des surfaces optiques de Fourier, des plaques de phase et des composants optiques plus complexes et finement réglés.

Haute et ultra-haute résolution

300 nm (DWL66+), 15 nm (NanoFrazor)

Fonctions de réduction des piqûres

Permettre des surfaces lisses de grands éléments micro-optiques dans une résine photosensible épaisse

Substrats de petites pièces jusqu'aux panneaux G8

Nos systèmes offrent la possibilité de choisir la taille de scène adaptée à votre application.

Optimisation de la forme

Utilisé pour simplifier la compensation des effets non linéaires

Système de plateau de haute précision pour un placement précis des motifs

Utilisé pour positionner parfaitement les dispositifs micro-optiques

Mode d'écriture spécifique à l'application pour optimiser la résolution et le débit

Le choix des modes d’écriture permet de faire le bon compromis pour votre application (série DWL)

Application images

Irregular Microlens Array - Concave - Pseudo-square arrangement of lenslet. ~18µm (Average side) and ~6µm depth in AZ4562.
Irregular Microlens Array - Concave - Pseudo-square arrangement of lenslet. ~18µm (Average side) and ~6µm depth in AZ4562.
Nano structured phase masks made of Silicon-nitride using thermal scanning probe lithography combined with etching. This phase mask offers the intriguiging possibilities in electron-beam shaping. (NanoFrazor)
Nano structured phase masks made of Silicon-nitride using thermal scanning probe lithography combined with etching. This phase mask offers the intriguiging possibilities in electron-beam shaping. (NanoFrazor)
Half of a Concave Fresnel Lens,also showing its profile, Radius of curvature 840 µm, Height 10 µm, effective diameter 1mm. (DWL66+ WM III)
Half of a Concave Fresnel Lens,also showing its profile, Radius of curvature 840 µm, Height 10 µm, effective diameter 1mm. (DWL66+ WM III)
DOE square size 1µm 4steps 800nm total height View 70° x5000 (DWL66+ HiRes) Multi-level Diffractive Optical Elements (DOEs) are valuable devices commonly used for light modulation. By changing the phase profile of a laser beam, DOEs can split and shape the beam in well-defined ways, enabling the efficient generation of beam arrays or complex light patterns.
DOE square size 1µm 4steps 800nm total height View 70° x5000 (DWL66+ HiRes) Multi-level Diffractive Optical Elements (DOEs) are valuable devices commonly used for light modulation. By changing the phase profile of a laser beam, DOEs can split and shape the beam in well-defined ways, enabling the efficient generation of beam arrays or complex light patterns.
Photonic sieve made with a NanoFrazor. A Photonic Sieve focuses light through diffraction and interference using a flat material filled with pinholes, achieving sharper focus than a Fresnel Zone plate.
Photonic sieve made with a NanoFrazor. A Photonic Sieve focuses light through diffraction and interference using a flat material filled with pinholes, achieving sharper focus than a Fresnel Zone plate.
Tailored diffusers and reflectors have applications for example in light sources and illumination, for example backlight units in LCD displays. This example shows a retro-reflector structure. (Courtesy of karmic.ch)
Tailored diffusers and reflectors have applications for example in light sources and illumination, for example backlight units in LCD displays. This example shows a retro-reflector structure. (Courtesy of karmic.ch)
1100nm pitch grating etched in Si and coated with Al - integrated nanostructured optical reflection gratings on atom chips for quantum applications like gravimeters. (Courtesy of Sascha de Wall, IMPT)
1100nm pitch grating etched in Si and coated with Al - integrated nanostructured optical reflection gratings on atom chips for quantum applications like gravimeters. (Courtesy of Sascha de Wall, IMPT)
Concave Micro lenses made in ma-P1275G. Microlenses and microlens arrays are key components in modern-day micro-optics. They are used in wavefront sensors, for fiber coupling, or for homogenizing light sources.
Concave Micro lenses made in ma-P1275G. Microlenses and microlens arrays are key components in modern-day micro-optics. They are used in wavefront sensors, for fiber coupling, or for homogenizing light sources.
Microlenses written in 15 μm thick AZ4562, with a pitch of 30 μm and a radius of curvature of 16 μm.
Microlenses written in 15 μm thick AZ4562, with a pitch of 30 μm and a radius of curvature of 16 μm.
This example shows a compound structure – a complex structure made of micro- and nanostructures. The insect eye, for instance (in particular the moth- or fly-eye), consists of a series of compound structures. (Courtesy of ShenZhen Nahum-Eli Optical Technology Inc.)
This example shows a compound structure – a complex structure made of micro- and nanostructures. The insect eye, for instance (in particular the moth- or fly-eye), consists of a series of compound structures. (Courtesy of ShenZhen Nahum-Eli Optical Technology Inc.)
Parts of a waveguide (1 µm wide) made with a VPG 300 DI. Waveguides can guide electromagnetic waves, essential in applications like optical communication and sensors. (Courtesy of IMS Chips)
Parts of a waveguide (1 µm wide) made with a VPG 300 DI. Waveguides can guide electromagnetic waves, essential in applications like optical communication and sensors. (Courtesy of IMS Chips)
A ring resonator consists of a closed loop or ring made from a waveguide. Light is coupled into and out of the ring through waveguide arms. The geometry of the ring allows it to support resonant modes. Here the lines are 2µm wide, the distance between the line and the ring is 500 nm.
A ring resonator consists of a closed loop or ring made from a waveguide. Light is coupled into and out of the ring through waveguide arms. The geometry of the ring allows it to support resonant modes. Here the lines are 2µm wide, the distance between the line and the ring is 500 nm.

suitable Systems

DWL 66+

  • Système de lithographie par laser à écriture directe

Notre système le plus polyvalent pour la recherche et le prototypage avec une résolution variable et un large choix d’options.

DWL 2000 GS / DWL 4000 GS

  • Système de lithographie par laser à écriture directe

L’outil de lithographie industrielle en niveaux de gris le plus avancé du marché.

NanoFrazor tabletop

NanoFrazor

  • Système de lithographie par sonde à balayage thermique

Polyvalent et modulaire outil combiner Sonde de balayage thermique Lithographie, la sublimation sublimation laser directe et l’automatisation l’automatisation pour de pointede pointe. R&D.

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