Matériaux 1D et 2D

Lithographie à faible endommagement avec recouvrement de haute précision sur des matériaux 1D et 2D sensibles

  • Description

  • Les dispositifs fabriqués à partir de structures unidimensionnelles (1D) et bidimensionnelles (2D) peuvent présenter des phénomènes physiques fascinants, débloquant des applications potentielles dans l’électronique de haute performance, la détection et l’informatique quantique, ainsi que des dispositifs photoniques utilisés dans les communications et la collecte d’énergie. Elles peuvent également être utilisées dans des matériaux ultra-résistants et légers pour l’aérospatiale et l’industrie automobile, dans l’électronique flexible et transparente pour la technologie portable et les écrans, ainsi que dans le stockage de l’énergie et la purification de l’eau. Toutefois, les impuretés et les défauts peuvent limiter considérablement les performances de ces dispositifs.

    Pour relever ce défi, Heidelberg Instruments propose des outils capables de modeler des matériaux 1D ou 2D avec précision et exactitude, tout en évitant les impuretés et les défauts. Par exemple, le NanoFrazor offre une solution de lithographie sans dommages pour de telles applications, sans effets de charge ou de faisceaux énergétiques sur les surfaces des matériaux. La superposition précise des nanostructures d’intérêt est effectuée directement dans le logiciel du NanoFrazor, en tirant parti du capteur de topographie intégré et des flux de travail automatisés. Le NanoFrazor possède des capacités d’imagerie in situ similaires à celles de l’AFM, ce qui permet d’aligner avec précision des motifs à ultra-haute résolution sur de petits éléments tels que des fils, des rubans, des tubes ou des paillettes, réduisant ainsi la probabilité d’introduire des impuretés ou des défauts. Heidelberg Instruments propose également des recettes de post-traitement dédiées à la fabrication de dispositifs pour compléter la nanolithographie avec recouvrement.

    En outre, les aligneurs sans masque de la série MLA disposent d’un “mode dessin” qui permet de créer un dessin superposé sur une image microscopique en temps réel de petits éléments, ce qui est idéal pour créer des connexions tout en évitant les impuretés et les défauts.

    Grâce à ces outils, les dispositifs fabriqués à partir de matériaux 1D et 2D peuvent améliorer leurs performances et être utilisés dans un large éventail d’applications.

  • Requirements

  • Solutions

  • Superposition sans marqueur

    AFM in situ pour un alignement de haute précision

    Création de motifs non invasifs

    Les propriétés des matériaux ne sont pas affectées par les particules chargées ou les résidus de résine.

    Ultra-haute résolution (NanoFrazor)

    Lacunes étroites, rubans, électrodes de grille, rétrécissements, etc.

    Boîte à gants (NanoFrazor & µMLA)

    Nano-patterning de matériaux sensibles dans une atmosphère inerte contrôlée

Les dispositifs fabriqués à partir de structures unidimensionnelles (1D) et bidimensionnelles (2D) peuvent présenter des phénomènes physiques fascinants, débloquant des applications potentielles dans l’électronique de haute performance, la détection et l’informatique quantique, ainsi que des dispositifs photoniques utilisés dans les communications et la collecte d’énergie. Elles peuvent également être utilisées dans des matériaux ultra-résistants et légers pour l’aérospatiale et l’industrie automobile, dans l’électronique flexible et transparente pour la technologie portable et les écrans, ainsi que dans le stockage de l’énergie et la purification de l’eau. Toutefois, les impuretés et les défauts peuvent limiter considérablement les performances de ces dispositifs.

Pour relever ce défi, Heidelberg Instruments propose des outils capables de modeler des matériaux 1D ou 2D avec précision et exactitude, tout en évitant les impuretés et les défauts. Par exemple, le NanoFrazor offre une solution de lithographie sans dommages pour de telles applications, sans effets de charge ou de faisceaux énergétiques sur les surfaces des matériaux. La superposition précise des nanostructures d’intérêt est effectuée directement dans le logiciel du NanoFrazor, en tirant parti du capteur de topographie intégré et des flux de travail automatisés. Le NanoFrazor possède des capacités d’imagerie in situ similaires à celles de l’AFM, ce qui permet d’aligner avec précision des motifs à ultra-haute résolution sur de petits éléments tels que des fils, des rubans, des tubes ou des paillettes, réduisant ainsi la probabilité d’introduire des impuretés ou des défauts. Heidelberg Instruments propose également des recettes de post-traitement dédiées à la fabrication de dispositifs pour compléter la nanolithographie avec recouvrement.

En outre, les aligneurs sans masque de la série MLA disposent d’un “mode dessin” qui permet de créer un dessin superposé sur une image microscopique en temps réel de petits éléments, ce qui est idéal pour créer des connexions tout en évitant les impuretés et les défauts.

Grâce à ces outils, les dispositifs fabriqués à partir de matériaux 1D et 2D peuvent améliorer leurs performances et être utilisés dans un large éventail d’applications.

Superposition sans marqueur

AFM in situ pour un alignement de haute précision

Création de motifs non invasifs

Les propriétés des matériaux ne sont pas affectées par les particules chargées ou les résidus de résine.

Ultra-haute résolution (NanoFrazor)

Lacunes étroites, rubans, électrodes de grille, rétrécissements, etc.

Boîte à gants (NanoFrazor & µMLA)

Nano-patterning de matériaux sensibles dans une atmosphère inerte contrôlée

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