Lithographie pour la recherche sur les matériaux unidimensionnels et bidimensionnels
Lithographie à faible endommagement avec superposition de haute précision sur des matériaux 1D et 2D sensibles
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Description
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Les dispositifs fabriqués à partir de structures unidimensionnelles (1D) et bidimensionnelles (2D) peuvent présenter des phénomènes physiques fascinants, ouvrant la voie à des applications potentielles dans l’électronique haute performance, la détection et l’informatique quantique, ainsi que dans les dispositifs photoniques destinés aux communications et à la récupération d’énergie. Ils offrent également des perspectives d’utilisation dans le domaine des matériaux ultra-résistants et légers pour les industries aérospatiale et automobile, de l’électronique flexible et transparente pour les technologies portables et les écrans, ainsi que dans le stockage d’énergie et la purification de l’eau. Cependant, les impuretés et les défauts peuvent considérablement limiter les performances de ces dispositifs.
Pour relever ce défi, Heidelberg Instruments propose des outils capables de structurer des matériaux 1D ou 2D avec une grande précision, tout en évitant les impuretés et les défauts.
Par exemple, le NanoFrazor offre une solution de lithographie sans dommage, sans effets de charge ni faisceaux énergétiques impactant la surface des matériaux.
Le positionnement précis des motifs sur les nanostructures d’intérêt est effectué directement dans le logiciel NanoFrazor, en exploitant le capteur de topographie intégré et des flux de travail automatisés.
Le NanoFrazor dispose de capacités d’imagerie in situ similaires à celles d’un AFM, permettant un alignement précis de motifs à ultra-haute résolution sur de petits éléments tels que des fils, rubans, tubes ou flocons, réduisant ainsi le risque d’introduire des impuretés ou des défauts.
Heidelberg Instruments fournit également des recettes de post-traitement dédiées pour la fabrication de dispositifs, afin de compléter la nanolithographie avec superposition.En outre, les aligneurs sans masque de la série MLA disposent d’un « mode dessin » qui permet de créer un dessin en superposition sur une image de microscope en temps réel de petits éléments, ce qui en fait un outil idéal pour créer des connexions tout en évitant les impuretés et les défauts.
Grâce à ces outils, les dispositifs fabriqués à partir de matériaux 1D et 2D offrent des performances améliorées et peuvent être utilisés dans une large gamme d’applications.
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Exigences
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Préserver et garder intactes les propriétés du matériau
Alignement très précis et rapide (par exemple, sur des paillettes ou des électrodes existantes)
Capacités de modelage à haute résolution (par exemple, pour la création de rubans)
Atmosphère inerte pour les matériaux 2D sensibles au contact avec l'air
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Solutions
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Superposition sans repère
AFM in situ pour un alignement de haute précisionCréation de motifs non invasifs
Les propriétés des matériaux ne sont pas affectées par les particules chargées ou les résidus de résine.Résolution ultra-haute (NanoFrazor)
Lacunes étroites, rubans, électrodes de grille, rétrécissements, etc.Boîte à gants (NanoFrazor & µMLA)
Nano-structuration de matériaux sensibles dans une atmosphère inerte contrôlée
Les dispositifs fabriqués à partir de structures unidimensionnelles (1D) et bidimensionnelles (2D) peuvent présenter des phénomènes physiques fascinants, ouvrant la voie à des applications potentielles dans l’électronique haute performance, la détection et l’informatique quantique, ainsi que dans les dispositifs photoniques destinés aux communications et à la récupération d’énergie. Ils offrent également des perspectives d’utilisation dans le domaine des matériaux ultra-résistants et légers pour les industries aérospatiale et automobile, de l’électronique flexible et transparente pour les technologies portables et les écrans, ainsi que dans le stockage d’énergie et la purification de l’eau. Cependant, les impuretés et les défauts peuvent considérablement limiter les performances de ces dispositifs.
Pour relever ce défi, Heidelberg Instruments propose des outils capables de structurer des matériaux 1D ou 2D avec une grande précision, tout en évitant les impuretés et les défauts.
Par exemple, le NanoFrazor offre une solution de lithographie sans dommage, sans effets de charge ni faisceaux énergétiques impactant la surface des matériaux.
Le positionnement précis des motifs sur les nanostructures d’intérêt est effectué directement dans le logiciel NanoFrazor, en exploitant le capteur de topographie intégré et des flux de travail automatisés.
Le NanoFrazor dispose de capacités d’imagerie in situ similaires à celles d’un AFM, permettant un alignement précis de motifs à ultra-haute résolution sur de petits éléments tels que des fils, rubans, tubes ou flocons, réduisant ainsi le risque d’introduire des impuretés ou des défauts.
Heidelberg Instruments fournit également des recettes de post-traitement dédiées pour la fabrication de dispositifs, afin de compléter la nanolithographie avec superposition.
En outre, les aligneurs sans masque de la série MLA disposent d’un « mode dessin » qui permet de créer un dessin en superposition sur une image de microscope en temps réel de petits éléments, ce qui en fait un outil idéal pour créer des connexions tout en évitant les impuretés et les défauts.
Grâce à ces outils, les dispositifs fabriqués à partir de matériaux 1D et 2D offrent des performances améliorées et peuvent être utilisés dans une large gamme d’applications.
Préserver et garder intactes les propriétés du matériau
Alignement très précis et rapide (par exemple, sur des paillettes ou des électrodes existantes)
Capacités de modelage à haute résolution (par exemple, pour la création de rubans)
Atmosphère inerte pour les matériaux 2D sensibles au contact avec l'air
Superposition sans repère
Création de motifs non invasifs
Résolution ultra-haute (NanoFrazor)
Boîte à gants (NanoFrazor & µMLA)
Images d'applications





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