Gabarits de nano-impression

La lithographie par nano-impression (LNI) est une méthode à haut rendement utilisée pour reproduire des nanostructures 2D ou 2,5D dans les applications de photonique, d’optique et de nanofluidique. Le processus nécessite des gabarits maîtres précis générés par nano- ou microlithographie en écriture directe.

Bien que tous les sites Heidelberg Instruments soient capables de produire des structures 2D adaptées à la réplication, la Lithographie en niveaux de gris permet de produire des topographies complexes. La Lithographie en niveaux laser sans masque est une technique rapide qui génère des topographies complexes dans une couche de résine photosensible sur un substrat, qui est ensuite utilisée comme modèle pour la réplication. La série DWL est le choix idéal pour fabriquer rapidement de tels modèles.

Le système de lithographie à échelle de gris par sonde à balayage thermique NanoFrazorqui utilise la Lithographie en niveaux de gris par sonde à balayage thermique, peut produire des masters avec une résolution verticale impressionnante de 1 nm (axe Z) et une résolution verticale plus élevée.