Dispositifs quantiques

Une tendance de fond avec des exigences élevées en matière de lithographie

  • Description

  • Les activités de recherche et de développement axées sur les dispositifs quantiques suscitent un intérêt remarquable et croissant dans le monde entier. Le potentiel de ces futurs dispositifs quantiques pour révolutionner l’informatique, la détection et la communication de données est énorme. Les prototypes et les concepts de dispositifs quantiques sont incroyablement divers, s’appuyant sur un large éventail de particules et de quasi-particules, chacune choisie pour ses propriétés et ses interactions uniques.

    Pour soutenir les progrès de la recherche quantique, Heidelberg Instruments offre un portefeuille complet d’outils qui peuvent fabriquer diverses structures cruciales pour différents domaines de la recherche quantique. Notre vaste gamme d’outils comprend le NanoFrazorLa Résolution, réputée pour ses capacités de résolution ultra-haute. Il permet une fabrication précise tout en minimisant les dommages, et constitue une passerelle vers la production future. En outre, notre série DWL permet de créer des topographies 2,5D, tandis que la série VPG+ produit des masques de haute précision adaptés à la fabrication en série. Nos Aligneurs sans masque (MLA) sont idéaux pour la fabrication de dispositifs multicouches. L « ULTRA Semiconductor Mask Writer offre une lithographie par écriture directe de haute résolution et de haute précision, essentielle pour la fabrication de structures à l » échelle nanométrique – clé pour les technologies quantiques telles que les circuits supraconducteurs, les points quantiques et les puces photoniques quantiques.

    Heidelberg InstrumentsEn particulier, les capacités de lithographie par écriture directe combinées à la haute résolution offertes par les outils d’Écriture directe facilitent le développement et la production de dispositifs quantiques. En particulier, le NanoFrazor se distingue par sa fonction de superposition sans repère, qui exploite le lecteur intégré pour l’alignement précis de plusieurs régions actives les unes sur les autres.

    Avec le portefeuille d’outils de Heidelberg Instruments, les chercheurs et les ingénieurs dans le domaine quantique ont accès à des capacités de fabrication avancées qui leur permettent de repousser les limites du développement de dispositifs quantiques. Ces outils permettent la réalisation de divers concepts de dispositifs quantiques, ouvrant la voie à de futures percées dans les domaines de l’informatique, de la détection et de la communication de données quantiques.

  • Exigences

  • Résolution ultra-haute pour des structures bien définies (par exemple, pour les trous de tunnel ou les cavités plasmoniques).

    Lithographie sans dommages, sans effets délétères sur les matériaux quantiques (par exemple, les isolants topologiques)

    Placement rapide et précis d'électrodes sur des matériaux de faible dimension dont la position est inconnue (paillettes de matériaux 2D, nanofils dispersés, etc.).

    L'environnement et la topographie des niveaux de gris peuvent s'avérer cruciaux pour affiner les interactions entre photons dans les dispositifs quantiques

    Le prototypage rapide est un avantage significatif dans un domaine de recherche dynamique.

  • Solutions

  • Résolution ultra-haute

    Nécessaire pour des caractéristiques et des espaces bien définis avec une faible rugosité des bords.

    Nanolithographie sans dommages (NanoFrazor)

    Une technique non destructive n’utilisant pas de faisceaux chargés à haute énergie permet de travailler avec des matériaux sensibles

    Superposition précise

    Possible par simple dessin des électrodes sur la topographie ou l’image optique (NanoFrazor & MLA series)

    Lithographie en niveaux de gris de haute précision

    Utilisé pour le contrôle des niveaux de gris jusqu’au nanomètre.

Les activités de recherche et de développement axées sur les dispositifs quantiques suscitent un intérêt remarquable et croissant dans le monde entier. Le potentiel de ces futurs dispositifs quantiques pour révolutionner l’informatique, la détection et la communication de données est énorme. Les prototypes et les concepts de dispositifs quantiques sont incroyablement divers, s’appuyant sur un large éventail de particules et de quasi-particules, chacune choisie pour ses propriétés et ses interactions uniques.

Pour soutenir les progrès de la recherche quantique, Heidelberg Instruments offre un portefeuille complet d’outils qui peuvent fabriquer diverses structures cruciales pour différents domaines de la recherche quantique. Notre vaste gamme d’outils comprend le NanoFrazorLa Résolution, réputée pour ses capacités de résolution ultra-haute. Il permet une fabrication précise tout en minimisant les dommages, et constitue une passerelle vers la production future. En outre, notre série DWL permet de créer des topographies 2,5D, tandis que la série VPG+ produit des masques de haute précision adaptés à la fabrication en série. Nos Aligneurs sans masque (MLA) sont idéaux pour la fabrication de dispositifs multicouches. L « ULTRA Semiconductor Mask Writer offre une lithographie par écriture directe de haute résolution et de haute précision, essentielle pour la fabrication de structures à l » échelle nanométrique – clé pour les technologies quantiques telles que les circuits supraconducteurs, les points quantiques et les puces photoniques quantiques.

Heidelberg InstrumentsEn particulier, les capacités de lithographie par écriture directe combinées à la haute résolution offertes par les outils d’Écriture directe facilitent le développement et la production de dispositifs quantiques. En particulier, le NanoFrazor se distingue par sa fonction de superposition sans repère, qui exploite le lecteur intégré pour l’alignement précis de plusieurs régions actives les unes sur les autres.

Avec le portefeuille d’outils de Heidelberg Instruments, les chercheurs et les ingénieurs dans le domaine quantique ont accès à des capacités de fabrication avancées qui leur permettent de repousser les limites du développement de dispositifs quantiques. Ces outils permettent la réalisation de divers concepts de dispositifs quantiques, ouvrant la voie à de futures percées dans les domaines de l’informatique, de la détection et de la communication de données quantiques.

Résolution ultra-haute pour des structures bien définies (par exemple, pour les trous de tunnel ou les cavités plasmoniques).

Lithographie sans dommages, sans effets délétères sur les matériaux quantiques (par exemple, les isolants topologiques)

Placement rapide et précis d'électrodes sur des matériaux de faible dimension dont la position est inconnue (paillettes de matériaux 2D, nanofils dispersés, etc.).

L'environnement et la topographie des niveaux de gris peuvent s'avérer cruciaux pour affiner les interactions entre photons dans les dispositifs quantiques

Le prototypage rapide est un avantage significatif dans un domaine de recherche dynamique.

Résolution ultra-haute

Nécessaire pour des caractéristiques et des espaces bien définis avec une faible rugosité des bords.

Nanolithographie sans dommages (NanoFrazor)

Une technique non destructive n’utilisant pas de faisceaux chargés à haute énergie permet de travailler avec des matériaux sensibles

Superposition précise

Possible par simple dessin des électrodes sur la topographie ou l’image optique (NanoFrazor & MLA series)

Lithographie en niveaux de gris de haute précision

Utilisé pour le contrôle des niveaux de gris jusqu’au nanomètre.

Images d'applications

Systèmes adaptés

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