Appareils quantiques
Une tendance de fond avec des exigences élevées en matière de lithographie
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Description
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Les activités de recherche et de développement axées sur les dispositifs quantiques suscitent un intérêt remarquable et croissant dans le monde entier. Le potentiel de ces futurs dispositifs quantiques pour révolutionner l’informatique, la détection et la communication de données est énorme. Les prototypes et les concepts d’appareils quantiques sont incroyablement diversifiés et reposent sur un large éventail de particules et de quasi-particules, chacune choisie pour ses propriétés et ses interactions uniques.
Pour soutenir les progrès de la recherche quantique, Heidelberg Instruments propose un portefeuille complet d’outils permettant de fabriquer diverses structures cruciales pour différents domaines de la recherche quantique. Notre vaste gamme d’outils comprend le NanoFrazor, réputé pour ses capacités d’ultra-haute résolution. Il permet une fabrication précise tout en minimisant les dommages, et constitue une passerelle vers la production future. En outre, notre série DWL permet de créer des topographies 2,5D, tandis que la série VPG+ produit des masques de haute précision adaptés à la fabrication de masse. Nos aligneurs sans masque (MLA) sont idéaux pour la fabrication de dispositifs multicouches. L’ULTRA Semiconductor Mask Writer offre une lithographie en écriture directe de haute résolution et de haute précision, essentielle pour la fabrication de structures à l’échelle nanométrique, clé des technologies quantiques telles que les circuits supraconducteurs, les points quantiques et les puces quantiques photoniques.
En particulier, les capacités de lithographie en écriture directe combinées à la haute résolution offertes par les outils de Heidelberg Instruments facilitent le développement et la production de dispositifs quantiques. Le NanoFrazor se distingue notamment par sa fonction de superposition sans marqueur, qui exploite le lecteur intégré pour l’alignement précis de plusieurs régions actives les unes sur les autres.
Grâce à la gamme d’outils de Heidelberg Instruments, les chercheurs et les ingénieurs du domaine quantique ont accès à des capacités de fabrication avancées qui leur permettent de repousser les limites du développement des dispositifs quantiques. Ces outils permettent la réalisation de divers concepts de dispositifs quantiques, ouvrant la voie à de futures percées dans les domaines de l’informatique, de la détection et de la communication de données quantiques.
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Requirements
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Solutions
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Résolution ultra-haute
Nécessaire pour des caractéristiques et des espaces bien définis avec une faible rugosité des bords.Nanolithographie sans dommages (NanoFrazor)
Une technique non destructive n’utilisant pas de faisceaux chargés à haute énergie permet de travailler avec des matériaux sensiblesRecouvrement précis
Possible par simple dessin des électrodes sur la topographie ou l’image optique (NanoFrazor & MLA series)Lithographie précise en niveaux de gris
Utilisé pour le contrôle des topographies en niveaux de gris jusqu’au nanomètre.
Les activités de recherche et de développement axées sur les dispositifs quantiques suscitent un intérêt remarquable et croissant dans le monde entier. Le potentiel de ces futurs dispositifs quantiques pour révolutionner l’informatique, la détection et la communication de données est énorme. Les prototypes et les concepts d’appareils quantiques sont incroyablement diversifiés et reposent sur un large éventail de particules et de quasi-particules, chacune choisie pour ses propriétés et ses interactions uniques.
Pour soutenir les progrès de la recherche quantique, Heidelberg Instruments propose un portefeuille complet d’outils permettant de fabriquer diverses structures cruciales pour différents domaines de la recherche quantique. Notre vaste gamme d’outils comprend le NanoFrazor, réputé pour ses capacités d’ultra-haute résolution. Il permet une fabrication précise tout en minimisant les dommages, et constitue une passerelle vers la production future. En outre, notre série DWL permet de créer des topographies 2,5D, tandis que la série VPG+ produit des masques de haute précision adaptés à la fabrication de masse. Nos aligneurs sans masque (MLA) sont idéaux pour la fabrication de dispositifs multicouches. L’ULTRA Semiconductor Mask Writer offre une lithographie en écriture directe de haute résolution et de haute précision, essentielle pour la fabrication de structures à l’échelle nanométrique, clé des technologies quantiques telles que les circuits supraconducteurs, les points quantiques et les puces quantiques photoniques.
En particulier, les capacités de lithographie en écriture directe combinées à la haute résolution offertes par les outils de Heidelberg Instruments facilitent le développement et la production de dispositifs quantiques. Le NanoFrazor se distingue notamment par sa fonction de superposition sans marqueur, qui exploite le lecteur intégré pour l’alignement précis de plusieurs régions actives les unes sur les autres.
Grâce à la gamme d’outils de Heidelberg Instruments, les chercheurs et les ingénieurs du domaine quantique ont accès à des capacités de fabrication avancées qui leur permettent de repousser les limites du développement des dispositifs quantiques. Ces outils permettent la réalisation de divers concepts de dispositifs quantiques, ouvrant la voie à de futures percées dans les domaines de l’informatique, de la détection et de la communication de données quantiques.
Résolution ultra-haute
Nanolithographie sans dommages (NanoFrazor)
Recouvrement précis
Lithographie précise en niveaux de gris
Application images
suitable Systems
DWL 66+
- Système de lithographie par laser à écriture directe
Notre système le plus polyvalent pour la recherche et le prototypage avec une résolution variable et un large choix d’options.
DWL 2000 GS / DWL 4000 GS
- Système de lithographie par laser à écriture directe
L’outil de lithographie industrielle en niveaux de gris le plus avancé du marché.
MLA 150
- Aligneur sans masque
L’outil sans masque le plus rapide pour le prototypage rapide, l’alternative aux aligneurs de masques. Parfait pour la lithographie binaire standard.
NanoFrazor
- Système de lithographie par sonde à balayage thermique
Polyvalent et modulaire outil combiner Sonde de balayage thermique Lithographie, la sublimation sublimation laser directe et l’automatisation l’automatisation pour de pointede pointe. R&D.
VPG+ 200, VPG+ 400 et VPG+ 800
- Générateur de volume
Outils de production puissants pour les photomasques et les microstructures standard dans les résines i-line.
ULTRA
- Rédacteur de masques laser
Outil spécialement conçu pour produire des photomasques semi-conducteurs matures.