Heidelberg Instruments - Le Pouvoir de l’Écriture Directe
Heidelberg Instruments est un leader mondial dans le domaine des systèmes de lithographie laser de haute précision, des aligneurs sans masque et des outils de nanofabrication.
Depuis 40 ans, nous favorisons l’innovation en micro et nanofabrication, avec plus de 1 500 systèmes installés dans le monde entier. Nous comprenons que les besoins de chaque client sont uniques, c’est pourquoi nous proposons des solutions de lithographie personnalisées, adaptées même aux applications les plus exigeantes.
Notre portefeuille va des systèmes compacts de bureau, idéaux pour le prototypage et la R&D, aux équipements de fabrication de photomasques haut de gamme conçus pour la production industrielle à grande échelle. Cette diversité nous permet de prendre en charge un large éventail de techniques de structuration de surfaces, y compris le façonnage 2D précis et des caractéristiques complexes 2,5D grâce à la lithographie en niveaux de gris.
Notre engagement en faveur de la réussite de nos clients va au-delà de nos produits. Dans nos laboratoires de procédés et d’applications (PAL) en Allemagne, en Suisse et en Chine, nos ingénieurs experts collaborent étroitement avec les clients, en leur fournissant une formation et une assistance complètes pour s’assurer qu’ils maximisent le potentiel de leur équipement Heidelberg Instruments.
De grandes entreprises, des universités de premier plan et des instituts de recherche renommés du monde entier s’appuient sur la flexibilité et les capacités avancées de nos systèmes de micro- et nanopatterning. Notre technologie permet des percées dans divers domaines, notamment la micro-optique et la technologie des microsystèmes, la photonique, l’électronique, les semi-conducteurs et l’encapsulation avancée, les dispositifs quantiques, les MEMS, la nanofluidique, l’ingénierie biomédicale, les matériaux 2D, et bien d’autres encore.
Contactez-nous dès aujourd’hui pour discuter de vos besoins en matière de micro- ou nanofabrication.
Applications | Technologies | Caractéristiques clés
Matériaux 1D et 2D | Encapsulation | Biotechnologie et ingénierie médicale | Écrans | Impression haute sécurité | Science des matériaux | MEMS | Microélectronique et nanoélectronique | Microfluidique et nanofluidique | Micro-optique et photonique | Gabarits de nano-impression | Photomasques | Dispositifs quantiques | Semi-conducteurs | Capteurs
µMLA Aligneur sans masque
- Aligneur sans masque
Aligneur de table configurable et compact, sans masque, avec modules de balayage matriciel et d’exposition vectorielle.
MLA 150 Aligneur sans masque
- Aligneur sans masque
L’outil sans masque le plus rapide pour le prototypage rapide, l’alternative aux aligneurs de masques. Parfait pour la lithographie binaire standard.
DWL 66+ Système de lithographie laser
- Système de lithographie par laser à écriture directe
Notre système le plus polyvalent pour la recherche et le prototypage avec une résolution variable et un large choix d’options.
MLA 300 Aligneur sans masque
- Aligneur sans masque
Optimisé pour une production industrielle flexible avec la plus haute précision et une intégration transparente dans les lignes de production industrielle.
DWL 2000 GS / DWL 4000 GS Systèmes de lithographie laser
- Système de lithographie par laser à écriture directe
L’outil de lithographie industrielle en niveaux de gris le plus avancé du marché.
VPG+ 200, VPG+ 400 et VPG+ 800 Générateurs de motifs
- Générateur de volume
Outils de production puissants pour photomasques standards et microstructures dans des résines i-line.
VPG+ 1400 FPD / VPG+ 1850 FPD Générateurs de motifs
- Générateur de volume
Production de masques photographiques sur des substrats de grande taille, parfaits pour les applications d’affichage.
VPG 300 DI Stepper sans masque
- Pas à pas sans masque
Imageur direct sans masque pour les microstructures de haute précision et de haute résolution.
ULTRA Rédacteur de masques pour semi-conducteurs
- Rédacteur de masques laser
Outil spécialement conçu pour produire des photomasques semi-conducteurs matures.
NanoFrazor Outil de nanolithographie
- Système de lithographie par sonde à balayage thermique
Outil polyvalent et modulable combinant la lithographie par sonde thermique, la sublimation laser directe et l’automatisation avancée pour la R&D de pointe.
Blog d'actualités
À la suite de l’introduction réussie du système de nanolithographie modulaire NanoFrazor en 2024, Heidelberg Instruments est fier d’annoncer l’installation du nouveau NanoFrazor à l’EPFL.
Heidelberg Instruments a reçu une commande importante d'un fabricant de photomasques de premier plan en Asie pour un système VPG+ 1850 FPD, développé sur la plateforme établie de son générateur de motifs en volume VPG+ 1400 FPD.
Alors que l’IA et le calcul haute performance (HPC) poussent les circuits monolithiques vers l’obsolescence, l’industrie se tourne vers l’Advanced Packaging. Pourtant, des défis comme le déplacement des dies (die shift) et le gauchissement des substrats menacent de faire chuter le rendement avant même que le boîtier ne quitte la fab. Voici alors émerger le nouveau héros de la microélectronique : la lithographie sans masque. Découvrez comment l’alignement adaptatif permet à vos chiplets de vivre et de calculer un jour de plus.
