Heidelberg, Alemania — Heidelberg Instruments celebra con orgullo el 10º aniversario del MLA 150 Maskless Aligner—un avance que ha redefinido la litografía de alta resolución en salas limpias de todo el mundo. Desde su lanzamiento en 2015, el MLA 150 ha brindado a investigadores e ingenieros una alternativa flexible y sin máscaras a la fotolitografía tradicional, transformando la microfabricación tanto en la academia como en la industria.
“El MLA 150 Maskless Aligner fue creado para resolver los cuellos de botella en salas limpias de múltiples usuarios causados por alineadores de máscaras envejecidos y la producción lenta de fotomáscaras. Heidelberg Instruments concibió una solución de escritura directa con mejor rendimiento que un alineador de máscaras, pero sin las demoras. El resultado: tiempos de respuesta rápidos, alta precisión y una facilidad de uso excepcional”, afirma Steffen Diez, Director de Operaciones de Heidelberg Instruments.
En el corazón del MLA 150 se encuentra un dispositivo de microespejos digitales (DMD), que actúa como una máscara dinámica, combinado con fuentes de luz de estado sólido y avanzadas capacidades de alineación. Esta combinación hizo del sistema un verdadero cambio de paradigma desde el primer día. Con tiempos de exposición inferiores a 10 minutos, ciclos de proceso completos de menos de 30 minutos y capacitación de usuarios en menos de una hora, el MLA 150 estableció rápidamente un nuevo referente para la litografía de I+D. “El MLA 150 es una de las herramientas más utilizadas de manera constante en nuestra sala limpia. Su flexibilidad y facilidad de uso lo han convertido en una piedra angular de nuestros flujos de trabajo de litografía.” — Dr. Tom Peach, Ingeniero Senior de Procesos, Universidad de Cardiff. Al permitir a los usuarios pasar del diseño digital a un sustrato perfectamente estructurado en cuestión de minutos, el MLA 150 impulsa la innovación rápida en campos como dispositivos cuánticos, MEMS, microóptica y ciencias de la vida.
Perfeccionado gracias a la colaboración estrecha con instituciones líderes—incluidas la EPFL, el Instituto Kirchhoff de Física (KIP) de la Universidad de Heidelberg y el Centro de Sistemas a Nanoescala de Harvard (CNS)—el MLA 150 demostró rápidamente su valor. En KIP, por ejemplo, permitió triplicar el rendimiento en la fabricación de sensores SQUID (dispositivos de interferencia cuántica superconductores), demostrando su impacto transformador. Aunque inicialmente adoptado por laboratorios de investigación, la versatilidad y eficiencia de costos del sistema pronto atrajeron a usuarios industriales en busca de soluciones ágiles para prototipado rápido y producción en pequeña serie. Desde la investigación básica en materiales cuánticos hasta el desarrollo de biosensores que salvan vidas, el MLA 150 ha sido un socio silencioso en innumerables descubrimientos.
En 2025, Heidelberg Instruments introdujo una importante actualización del MLA 150, reduciendo el tamaño mínimo de características a 450 nm y ampliando sus capacidades para aplicaciones de alta precisión.
Hoy en día, el MLA 150 es una herramienta confiable en más de 250 salas limpias en todo el mundo. Al celebrar este hito, Heidelberg Instruments también honra a la comunidad global de usuarios, ingenieros y socios que han ayudado a convertir el MLA 150 en una plataforma transformadora—una que sigue ampliando los límites de lo posible en microfabricación.
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Más información: https://heidelberg-instruments.com/mla-150-anniversary/
