La litografía puede modificar o deteriorar las propiedades de la muestra, por ejemplo, por la exposición a partículas cargadas de alta energía, como electrones o iones. Esto puede provocar la creación no deseada de enlaces covalentes con la resistencia orgánica, cargas atrapadas o defectos de red. Las contaminaciones o defectos resultantes pueden deteriorar significativamente el rendimiento del dispositivo cuando se utilizan diseños de chips con capas aislantes o dispositivos que comprenden materiales sensibles como materiales 2D o nanohilos.
La punta calentada del proceso litográfico estándar NanoFrazor sólo calienta la capa superior de laca. Los materiales sensibles situados por debajo de la pila de la laca no se calientan de forma perceptible y permanecen completamente ilesos durante el estampado de la capa de laca superior.
El NanoFrazor también puede incorporarse dentro de una guantera, lo que facilita la nanolitografía en muestras que se deterioran en el aire.
