Litografía láser sin máscara
Escritura directa a microescala
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Description
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La fotolitografía tradicional requiere la fabricación o compra de una fotomáscara y, a continuación, el uso de un alineador de máscaras para transferir el patrón CAD a una oblea o placa recubierta de resina. Este proceso sigue siendo el método más establecido y rentable para la fabricación de grandes volúmenes de características de diseño de tamaño submicrónico, debido a las economías de escala. Heidelberg Instruments ofrece sistemas avanzados como la serie VPG+ y ULTRA, diseñados específicamente para el mercado de las fotomáscaras, que abarcan aplicaciones desde fotomáscaras de semiconductores maduros hasta fotomáscaras de electrónica y FPD.
Sin embargo, para muchas otras aplicaciones, la litografía sin máscara presenta una alternativa potente y sostenible. Esta tecnología de alta precisión y gran flexibilidad es ideal para I+D, creación rápida de prototipos y producción de lotes pequeños con tamaños de rasgo superiores a 1 µm. La litografía sin máscara elimina la necesidad de fotomáscaras, reduciendo los costes iniciales, los residuos de material y el consumo de productos químicos, lo que la hace especialmente ventajosa para la producción de volumen bajo a medio, donde la flexibilidad del diseño y los ciclos de iteración rápidos son fundamentales.
En la litografía sin máscara, el patrón se expone directamente sobre la superficie del sustrato utilizando un modulador espacial de luz (SLM), que actúa como una “fotomáscara dinámica”. Basta con cargar y convertir el archivo de diseño, y el sistema se encarga del resto. Sin pedidos de fotomáscaras, sin retrasos, sin costosas iteraciones de máscaras. A medida que evoluciona tu diseño, sólo tienes que volver a cargar el archivo y realizar nuevas exposiciones en una fracción del tiempo que requieren los procesos tradicionales basados en fotomáscaras.
Más allá de la velocidad y la flexibilidad, los sistemas sin máscara contribuyen a la sostenibilidad minimizando los residuos de material, el consumo de energía y el uso de productos químicos, lo que los convierte en una opción responsable para la microfabricación moderna.
Descubre aquí nuestros alineadores sin máscara (MLA) y sistemas de litografía de escritura directa (DWL).
La fotolitografía tradicional requiere la fabricación o compra de una fotomáscara y, a continuación, el uso de un alineador de máscaras para transferir el patrón CAD a una oblea o placa recubierta de resina. Este proceso sigue siendo el método más establecido y rentable para la fabricación de grandes volúmenes de características de diseño de tamaño submicrónico, debido a las economías de escala. Heidelberg Instruments ofrece sistemas avanzados como la serie VPG+ y ULTRA, diseñados específicamente para el mercado de las fotomáscaras, que abarcan aplicaciones desde fotomáscaras de semiconductores maduros hasta fotomáscaras de electrónica y FPD.
Sin embargo, para muchas otras aplicaciones, la litografía sin máscara presenta una alternativa potente y sostenible. Esta tecnología de alta precisión y gran flexibilidad es ideal para I+D, creación rápida de prototipos y producción de lotes pequeños con tamaños de rasgo superiores a 1 µm. La litografía sin máscara elimina la necesidad de fotomáscaras, reduciendo los costes iniciales, los residuos de material y el consumo de productos químicos, lo que la hace especialmente ventajosa para la producción de volumen bajo a medio, donde la flexibilidad del diseño y los ciclos de iteración rápidos son fundamentales.
En la litografía sin máscara, el patrón se expone directamente sobre la superficie del sustrato utilizando un modulador espacial de luz (SLM), que actúa como una “fotomáscara dinámica”. Basta con cargar y convertir el archivo de diseño, y el sistema se encarga del resto. Sin pedidos de fotomáscaras, sin retrasos, sin costosas iteraciones de máscaras. A medida que evoluciona tu diseño, sólo tienes que volver a cargar el archivo y realizar nuevas exposiciones en una fracción del tiempo que requieren los procesos tradicionales basados en fotomáscaras.
Más allá de la velocidad y la flexibilidad, los sistemas sin máscara contribuyen a la sostenibilidad minimizando los residuos de material, el consumo de energía y el uso de productos químicos, lo que los convierte en una opción responsable para la microfabricación moderna.
Descubre aquí nuestros alineadores sin máscara (MLA) y sistemas de litografía de escritura directa (DWL).
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Suitable Systems
VPG+ 1400 FPD
- Generador de patrones de volumen
Producción de fotomáscaras en sustratos de gran tamaño, perfectas para aplicaciones de visualización.
DWL 2000 GS / DWL 4000 GS
- Sistema de litografía láser de escritura directa
La herramienta de litografía industrial en escala de grises más avanzada del mercado.
VPG+ 200, VPG+ 400 y VPG+ 800
- Generador de patrones de volumen
Potentes herramientas de producción para fotomáscaras y microestructuras estándar en resistivos i-line.
MLA 300
- Alineador sin máscara
Optimizada para una producción industrial flexible con la máxima precisión y una integración perfecta en las líneas de producción industrial.
DWL 66+
- Sistema de litografía láser de escritura directa
Nuestro sistema más versátil para investigación y creación de prototipos, con resolución variable y amplia selección de opciones.
MLA 150
- Alineador sin máscara
La herramienta sin máscara más rápida para prototipado rápido, la alternativa a los alineadores de máscara. Perfecta para la litografía binaria estándar.
µMLA
- Alineador sin máscara
Alineador de sobremesa configurable y compacto, sin máscara, con módulos de escaneado rasterizado y exposición vectorial.