La fotolitografía tradicional requiere la fabricación o compra de una fotomáscara y, a continuación, el uso de un alineador de máscaras para transferir el patrón CAD a una oblea o placa recubierta de resina. Este proceso sigue siendo el método más establecido y rentable para la fabricación de grandes volúmenes de características de diseño de tamaño submicrónico, debido a las economías de escala. Heidelberg Instruments ofrece sistemas avanzados como la serie ^VPG+ y ULTRA, diseñados específicamente para el mercado de las fotomáscaras, que abarcan aplicaciones desde fotomáscaras de semiconductores maduros hasta fotomáscaras de electrónica y FPD.

Sin embargo, para muchas otras aplicaciones, la litografía sin máscara presenta una alternativa potente y sostenible. Esta tecnología de alta precisión y gran flexibilidad es ideal para I+D, creación rápida de prototipos y producción de lotes pequeños con tamaños de rasgo superiores a 1 µm. La litografía sin máscara elimina la necesidad de fotomáscaras, reduciendo los costes iniciales, los residuos de material y el consumo de productos químicos, lo que la hace especialmente ventajosa para la producción de volumen bajo a medio, donde la flexibilidad del diseño y los ciclos de iteración rápidos son fundamentales.

En la litografía sin máscara, el patrón se expone directamente sobre la superficie del sustrato utilizando un modulador espacial de luz (SLM), que actúa como una “fotomáscara dinámica”. Basta con cargar y convertir el archivo de diseño, y el sistema se encarga del resto. Sin pedidos de fotomáscaras, sin retrasos, sin costosas iteraciones de máscaras. A medida que evoluciona tu diseño, sólo tienes que volver a cargar el archivo y realizar nuevas exposiciones en una fracción del tiempo que requieren los procesos tradicionales basados en fotomáscaras.

Más allá de la velocidad y la flexibilidad, los sistemas sin máscara contribuyen a la sostenibilidad minimizando los residuos de material, el consumo de energía y el uso de productos químicos, lo que los convierte en una opción responsable para la microfabricación moderna.

Descubre aquí nuestros alineadores sin máscara (MLA) y sistemas de litografía de escritura directa (DWL).