Las herramientas de Heidelberg Instruments utilizan la litografía en escala de grises para la creación de micro- y nanoestructuras 2,5D con gradientes de altura variables, lo que permite la fabricación de superficies con topografías complejas. Nuestros sistemas ofrecen una precisión y versatilidad inigualables en la creación de perfiles de superficie tridimensionales, lo que los hace ideales para la fabricación avanzada de microóptica y MEMS.
En la litografía láser de escritura directa, el paisaje virtual CAD se asigna a los valores de gris del sistema, donde cada valor corresponde a un nivel de intensidad de exposición. Los sistemas de nuestra serie DWL modulan la intensidad del láser píxel por píxel con hasta 65.536 niveles de gris, controlando la profundidad de exposición para cada píxel individual con una precisión inigualable. La exposición resultante se procesa posteriormente mediante métodos como RIE o galvanoplastia para crear la topografía 2,5D. El concepto de exposición en escala de grises también es escalable, con sistemas capaces de estructurar sustratos de hasta 800 mm x 800 mm de tamaño. Problemas comunes y desafiantes, como efectos de “stitching” y no linealidades, se resuelven con técnicas avanzadas de patrón tales como exposiciones de múltiples pasadas y distribuciones optimizadas de valores de gris.
Un área de aplicación clave para la litografía en escala de grises es la creación de elementos microópticos, tales como lentes de Fresnel, redes blazed, microlentes y matrices de microlentes, todos ellos componentes clave en la microóptica moderna. La litografía en escala de grises también puede utilizarse en la creación de MEMS, MOEMS, dispositivos microfluídicos y superficies texturizadas.
Heidelberg Instruments ofrece numerosos paquetes de escala de grises, en función del nivel de rendimiento requerido para la aplicación.
Nuestro NanoFrazor permite la creación de patrones en escala de grises mediante Litografía térmica con sonda de escaneado o, más concretamente, mediante una punta de silicio calefactada de gran nitidez para crear patrones de estructuras 2D y 2,5D de alta resolución sublimando una resistencia termosensible. A continuación, las estructuras pueden transferirse a casi cualquier otro material mediante métodos estándar. Esta técnica de litografía no requiere revelado húmedo y no causa daños al sustrato. Con estos sistemas se alcanzan habitualmente resoluciones laterales inferiores a 25 nm. Además, el método litográfico de bucle cerrado permite una resolución vertical inferior a 1 nm. Entre las Aplicaciones del NanoFrazor se incluyen los CGH, las guías de ondas multimodo 3D y los acopladores de rejilla, las placas de fase 3D y muchas otras áreas que requieren superficies nanoestructuradas 2,5D.
