Las herramientas de Heidelberg Instruments utilizan la litografía en escala de grises para la creación de microestructuras y nanoestructuras 2,5D con gradientes de altura variables, lo que permite la fabricación de superficies con topografías complejas. Nuestros sistemas ofrecen una precisión y versatilidad inigualables en la creación de perfiles de superficie 3D, lo que los hace ideales para la fabricación de microóptica avanzada y MEMS.
En la Litografía Láser de Escritura Directa, el paisaje virtual CAD se asigna a los valores de gris del sistema, donde cada valor corresponde a un nivel de intensidad de exposición. Los sistemas de Litografía Láser DWL 2000 GS y DWL 4000 GS modulan la intensidad del láser píxel a píxel, controlando la profundidad de exposición para cada píxel individual. Se puede acceder a hasta 1024 niveles de gris en un solo paso de exposición, lo que garantiza la máxima resolución vertical sin alineaciones críticas. A continuación, la exposición resultante se procesa mediante métodos como el RIE o la galvanoplastia para crear la topografía 2,5D. El concepto de exposición en escala de grises también es escalable, con sistemas capaces de crear patrones en sustratos de hasta 800 mm x 800 mm de tamaño. Los problemas habituales, como los efectos de cosido y las no linealidades, se resuelven con técnicas avanzadas de patronaje, como las exposiciones multipase y las distribuciones optimizadas de valores de gris.
Un área de aplicación clave de la litografía en escala de grises es la creación de elementos microópticos como lentes Fresnel, rejillas resplandecientes, microlentes y matrices de microlentes, todos ellos componentes clave de la microóptica actual. La litografía en escala de grises también puede utilizarse en la creación de MEMS, MOEMS, dispositivos microfluídicos y superficies texturizadas.
Heidelberg Instruments ofrece numerosos paquetes de escala de grises, en función del nivel de rendimiento requerido para la aplicación.
Nuestro NanoFrazor permite el estampado en escala de grises mediante litografía de sonda de barrido térmico o, más concretamente, mediante una punta de silicio calentada y ultraafilada para estampar estructuras 2D y 2,5D de alta resolución sublimando una resistencia termosensible. A continuación, las estructuras pueden transferirse a casi cualquier otro material mediante métodos estándar. Esta técnica litográfica no requiere revelado en húmedo y no daña el sustrato. Con estos sistemas se consiguen habitualmente resoluciones laterales inferiores a 25 nm. Además, el método de litografía en bucle cerrado permite una resolución vertical inferior a 1 nm. Las áreas de aplicación del NanoFrazor incluyen CGH, guías de ondas multimodo 3D y acopladores de rejilla, placas de fase 3D y muchas otras áreas que requieren superficies nanoestructuradas 2,5D.
