Heidelberg Instruments las herramientas de utilizan la litografía en escala de grises para la creación de microestructuras y nanoestructuras en 2,5D con gradientes de altura variables, lo que permite la fabricación de superficies con topografías complejas. Nuestros sistemas ofrecen una precisión y versatilidad inigualables en la creación de perfiles de superficie 3D, lo que los hace ideales para la fabricación de microóptica avanzada y MEMS.
En la litografía láser de escritura directa, el paisaje virtual CAD se mapea a los valores de gris del sistema, donde cada valor corresponde a un nivel de intensidad de exposición. Los sistemas de nuestra serie DWL modulan la intensidad del láser píxel por píxel con hasta 65,536 niveles de gris, controlando la profundidad de exposición de cada píxel individual con una precisión inigualable. La exposición resultante se procesa luego mediante métodos como RIE o electrochapado para crear la topografía 2.5D. El concepto de exposición en escala de grises también es escalable, con sistemas capaces de patentar sustratos de hasta 800 mm x 800 mm. Problemas comunes y desafiantes, como los efectos de unión (stitching) y las no linealidades, se solucionan con técnicas avanzadas de patrones como exposiciones multipases y distribuciones optimizadas de valores de gris.
Un área de aplicación clave de la Litografía en escala de grises es la creación de elementos microópticos como lentes de Fresnel, rejillas resplandecientes, microlentes y matrices de microlentes, todos ellos componentes clave de la microóptica actual. La Litografía en escala de grises también puede utilizarse en la creación de MEMS, MOEMS, dispositivos microfluídicos y superficies texturizadas.
Heidelberg Instruments ofrece numerosos paquetes de escala de grises, en función del nivel de rendimiento requerido para la aplicación.
Nuestro NanoFrazor permite la creación de patrones en escala de grises mediante Litografía térmica con sonda de escaneado o, más concretamente, mediante una punta de silicio calentada y ultraafilada para crear patrones de estructuras 2D y 2,5D de alta resolución sublimando una resistencia termosensible. A continuación, las estructuras pueden transferirse a casi cualquier otro material mediante métodos estándar. Esta técnica litográfica no requiere revelado en húmedo y no daña el sustrato. Con estos sistemas se consiguen habitualmente resoluciones laterales inferiores a 25 nm. Además, el método de litografía en bucle cerrado permite una resolución vertical inferior a 1 nm. Las áreas de aplicación del NanoFrazor incluyen CGH, guías de ondas multimodo 3D y acopladores de rejilla, placas de fase 3D y muchas otras áreas que requieren superficies nanoestructuradas 2,5D.
