Los procesos litográficos convencionales requieren el desarrollo en húmedo de la resina antes de poder inspeccionar y medir los rasgos escritos.
Los procesos litográficos de escritura directa, como la litografía NanoFrazor y la escritura láser de bajo rendimiento, subliman directamente los resistivos térmicos como el PPA. Esta eliminación directa de la resina permite la inspección y metrología inmediatas de las características escritas, lo que resulta beneficioso para el desarrollo de procesos y la fabricación rápida. Además, permite al NanoFrazor alcanzar y mantener una calidad de patrón extremadamente alta mediante el enfoque patentado de “litografía de bucle cerrado”.
El NanoFrazor utiliza la misma punta que se emplea para el patronaje para la inspección in situ de las estructuras escritas. La topografía se visualiza mediante una técnica especial de metrología, que tiene su origen en el descubrimiento del Premio Nobel Gerd Binnig de que la resistencia eléctrica de los voladizos Millipede de IBM dependía en gran medida de la distancia. Este descubrimiento hizo posible el método de detección de distancias NanoFrazor, fácil de usar y fiable, que permite obtener imágenes rápidas y una metrología precisa de topografías superficiales de alta resolución en superficies blandas (como los recubrimientos de resina).
