Colocación precisa del patrón
Alta Precisión de posición y superposición
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Descripción
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Para algunas aplicaciones, la precisión local o global en la colocación de patrones es el requisito más crucial para la litografía.
Nuestros sistemas de Litografía de escritura directa utilizan interferómetros láser diferenciales, alineación óptica frontal y/o posterior o imágenes in situ para medir diversos parámetros y lograr un posicionamiento preciso en las muestras. Las cámaras de clima controlado y los platos de muestras Zerodur minimizan las desviaciones térmicas que no pueden medirse fácilmente y compensarse de forma activa.La litografía de escritura directa tiene ventajas clave en cuanto a la precisión de colocación del patrón, en comparación con los alineadores de máscaras, los steppers o las herramientas de litografía por impresión que dependen de máscaras o moldes.
Dichas herramientas no pueden compensar las imperfecciones locales o globales de los pasos de fabricación previos, los efectos térmicos o la curvatura.
En el caso de la litografía de escritura directa, los datos del diseño pueden adaptarse individualmente mediante correcciones de matriz de posición local y global (errores de escala en x, errores de escala en y, rotación, traslación, errores de ortogonalidad) para compensar las desviaciones del patrón deseado causadas por imperfecciones de la muestra o de la herramienta.
Para algunas aplicaciones, la precisión local o global en la colocación de patrones es el requisito más crucial para la litografía.
Nuestros sistemas de Litografía de escritura directa utilizan interferómetros láser diferenciales, alineación óptica frontal y/o posterior o imágenes in situ para medir diversos parámetros y lograr un posicionamiento preciso en las muestras. Las cámaras de clima controlado y los platos de muestras Zerodur minimizan las desviaciones térmicas que no pueden medirse fácilmente y compensarse de forma activa.
La litografía de escritura directa tiene ventajas clave en cuanto a la precisión de colocación del patrón, en comparación con los alineadores de máscaras, los steppers o las herramientas de litografía por impresión que dependen de máscaras o moldes.
Dichas herramientas no pueden compensar las imperfecciones locales o globales de los pasos de fabricación previos, los efectos térmicos o la curvatura.
En el caso de la litografía de escritura directa, los datos del diseño pueden adaptarse individualmente mediante correcciones de matriz de posición local y global (errores de escala en x, errores de escala en y, rotación, traslación, errores de ortogonalidad) para compensar las desviaciones del patrón deseado causadas por imperfecciones de la muestra o de la herramienta.
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