Alta y Ultra Alta Resolución

CONTACTO

300 nm con Litografía óptica y 15 nm con Litografía térmica con sonda de escaneado

  • Descripción

  • Resolución puede ser mucho más que la relación de aspecto más pequeña posible. Dependiendo de la aplicación, el factor decisivo para una alta resolución puede ser la densidad de los rasgos, las restricciones en la geometría, la rugosidad de los bordes o la Uniformidad de CD.

    En la litografía de ultra alta resolución, para resoluciones inferiores a 100 nm, el proceso real de elección de la resistencia y el grabado, así como la funcionalidad de la metrología, se convierten en factores críticos.

    Las especificaciones que proporcionamos para nuestros sistemas de litografía son conservadoras y fácilmente alcanzables durante la aceptación in situ, lo que significa que los resultados de exposición de nuestros sistemas podrían ser mejores de lo que se anuncia (como se muestra en algunos ejemplos).

    Nos esforzamos por llevar la tecnología hasta los límites físicos de la resolución. Nuestros sistemas ópticos pueden alcanzar dimensiones de hasta 300 nm, mientras que nuestro sistema NanoFrazor de Litografía Térmica por Sonda de Barrido puede lograr tamaños de características aisladas de 15 nm utilizando las puntas calentadas ultraafiladas.

Resolución puede ser mucho más que la relación de aspecto más pequeña posible. Dependiendo de la aplicación, el factor decisivo para una alta resolución puede ser la densidad de los rasgos, las restricciones en la geometría, la rugosidad de los bordes o la Uniformidad de CD.

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Las especificaciones que proporcionamos para nuestros sistemas de litografía son conservadoras y fácilmente alcanzables durante la aceptación in situ, lo que significa que los resultados de exposición de nuestros sistemas podrían ser mejores de lo que se anuncia (como se muestra en algunos ejemplos).

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