Alta y Ultra Alta Resolución

CONTACTO

300 nm con Litografía óptica y 15 nm con Litografía térmica con sonda de escaneado

  • Descripción

  • Resolución puede ser mucho más que la relación de aspecto más pequeña posible. Dependiendo de la aplicación, el factor decisivo para una alta resolución puede ser la densidad de los rasgos, las restricciones en la geometría, la rugosidad de los bordes o la Uniformidad de CD.

    En la litografía de ultra alta resolución, para resoluciones inferiores a 100 nm, el proceso real de elección de la resistencia y el grabado, así como la funcionalidad de la metrología, se convierten en factores críticos.

    Las especificaciones que proporcionamos para nuestros sistemas de litografía son conservadoras y fácilmente alcanzables durante la aceptación in situ, lo que significa que los resultados de exposición de nuestros sistemas podrían ser mejores de lo que se anuncia (como se muestra en algunos ejemplos).

    Nos esforzamos por llevar la tecnología a los límites físicos de la resolución. Nuestros sistemas ópticos pueden alcanzar dimensiones de hasta 300 nm, mientras que nuestro NanoFrazor sistema de Litografía térmica con sonda de escaneado puede alcanzar tamaños de características aisladas de 15 nm utilizando las puntas calentadas ultraafiladas.

Resolución puede ser mucho más que la relación de aspecto más pequeña posible. Dependiendo de la aplicación, el factor decisivo para una alta resolución puede ser la densidad de los rasgos, las restricciones en la geometría, la rugosidad de los bordes o la Uniformidad de CD.

En la litografía de ultra alta resolución, para resoluciones inferiores a 100 nm, el proceso real de elección de la resistencia y el grabado, así como la funcionalidad de la metrología, se convierten en factores críticos.

Las especificaciones que proporcionamos para nuestros sistemas de litografía son conservadoras y fácilmente alcanzables durante la aceptación in situ, lo que significa que los resultados de exposición de nuestros sistemas podrían ser mejores de lo que se anuncia (como se muestra en algunos ejemplos).

Nos esforzamos por llevar la tecnología a los límites físicos de la resolución. Nuestros sistemas ópticos pueden alcanzar dimensiones de hasta 300 nm, mientras que nuestro NanoFrazor sistema de Litografía térmica con sonda de escaneado puede alcanzar tamaños de características aisladas de 15 nm utilizando las puntas calentadas ultraafiladas.

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The 300 nm wide channel waveguide coupled to a ring resonator with a radius of 3 µm was written using the high-resolution write mode HiRes on the DWL 66+. Submicron waveguides, resonators and similar microstructures are used in optoelectronics to guide or study electromagnetic radiation. This design was created with the “Nanolithography Toolbox”, K.C. Balram et al., J. Res. natl. Inst. Stand. 121, pp. 464-475 (2016).
The 300 nm wide channel waveguide coupled to a ring resonator with a radius of 3 µm was written using the high-resolution write mode HiRes on the DWL 66+. Submicron waveguides, resonators and similar microstructures are used in optoelectronics to guide or study electromagnetic radiation. This design was created with the “Nanolithography Toolbox”, K.C. Balram et al., J. Res. natl. Inst. Stand. 121, pp. 464-475 (2016).
Imagen SEM inclinada de estructuras en forma de L anidadas grabadas en silicio.
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Una matriz triangular de puntos de alúmina de aproximadamente 16 nm de diámetro fue fabricada mediante un proceso lift-off de alta resolución.
Una matriz triangular de puntos de alúmina de aproximadamente 16 nm de diámetro fue fabricada mediante un proceso lift-off de alta resolución. (Courtesy of Heidelberg Instruments Nano)
Imagen SEM de un espacio de 20 nm entre dos electrodos metálicos, fabricados con NanoFrazor y transferidos mediante un proceso lift-off de alta resolución.
Imagen SEM de un espacio de 20 nm entre dos electrodos metálicos, fabricados con NanoFrazor y transferidos mediante un proceso lift-off de alta resolución. (Courtesy of Heidelberg Instruments Nano)
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Pilares de oro densamente empaquetados para aplicaciones plasmónicas. La resina PPA alrededor de los pilares fue eliminada con la punta calentada del NanoFrazor. Se utilizó grabado con haz de iones de argón para transferir los pilares a una película de oro de 20 nm.
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Líneas estrechas y anchas conectadas a electrodos fabricados mediante litografía de haz de electrones. El patrón se depositó mediante un proceso de lift-off de alta resolución.
Líneas estrechas y anchas conectadas a electrodos fabricados mediante litografía de haz de electrones. El patrón se depositó mediante un proceso de lift-off de alta resolución. (Courtesy of Bojun Cheng, ETH Zurich & Heidelberg Instruments Nano)
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Se aplicó un proceso de lift-off de ultra alta resolución después de la litografía NanoFrazor en PPA para depositar elipses bien definidas de SiO₂ sobre un material magnético granular.
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Separación entre dos electrodos metálicos realizada mediante litografía NanoFrazor en resina PPA y un proceso de lift-off sencillo.
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Litografía NanoFrazor en sus límites actuales. La imagen AFM muestra estructuras con un paso de 8,7 nm grabadas a una profundidad de 2–4 nm en PPA. (Aún no se ha demostrado la transferencia de patrones a esta densidad de características.)
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High-resolution asymmetrical rings transferred into a gold film via ion beam etching. (Courtesy of Heidelberg Instruments Nano)
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Sistemas adecuados

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  • Sistema de litografía de sonda de barrido térmico

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