Portafolio de productos
La cartera de sistemas y tecnología de Heidelberg Instruments incluye sistemas de litografía láser sin máscara (MLA) de alta precisión para la escritura directa de microestructuras 2D y 2.5D, la fabricación de máscaras y aplicaciones avanzadas de litografía láser. Como complemento, nuestro NanoFrazor, basado en la litografía térmica con sonda de barrido (t-SPL), permite realizar nanopatrones de vanguardia con una precisión sin igual. En conjunto, estas tecnologías constituyen la base de la experiencia fundamental de Heidelberg Instruments en micro y nanofabricación.
Investigación y desarrollo
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µMLA Alineador sin máscara
Alineador sin máscara de sobremesa, configurable y compacto, con módulos de escaneado de trama y exposición vectorial. -
MLA 150 Alineador sin máscara
La herramienta sin máscara más rápida para la creación rápida de prototipos, la alternativa a los alineadores de máscara. Perfecta para la litografía binaria estándar. -
DWL 66+ Sistema de litografía láser
Nuestro sistema más versátil para investigación y creación de prototipos, con resolución variable y una amplia selección de opciones. -
VPG 300 DI Stepper sin máscara
Imán directo sin máscara para microestructuras de alta precisión y resolución. -
NanoFrazor Herramienta de nanolitografía
Herramienta versátil y modular que combina litografía térmica con sonda de barrido, sublimación láser directa y automatización avanzada para investigación y desarrollo de vanguardia.
Industrial
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MLA 300 Alineador sin máscara
Optimizado para la producción industrial con el mayor rendimiento y una integración perfecta en las líneas de producción industrial. -
DWL 2000 GS / DWL 4000 GS Sistemas de litografía láser
Las herramientas de litografía en escala de grises industriales más avanzadas del mercado. -
VPG+ 200 / VPG+ 400 / VPG+ 800 Generadores de patrones de volumen
Potentes herramientas de producción para fotomáscaras estándar y microestructuras en resinas fotosensibles de línea i. -
VPG+ 1400 FPD / VPG+ 1850 FPD Generadores de patrones de volumen
Producción de fotomáscaras en sustratos grandes, perfectas para aplicaciones de visualización. -
VPG 300 DI Stepper sin máscara
Imán directo sin máscara para microestructuras de alta precisión y resolución. -
ULTRA Escritor de máscaras de semiconductores
Una herramienta diseñada específicamente para producir fotomáscaras semiconductoras maduras.
