Cartera de productos
El conjunto de sistemas y tecnología de Heidelberg Instruments incluye sistemas de litografía láser sin máscara (MLA) de alta precisión para la escritura directa de microestructuras 2D y 2,5D, la creación de máscaras y aplicaciones avanzadas de litografía láser. Como complemento, nuestro NanoFrazor, basado en la Litografía de Sonda de Barrido Térmico (t-SPL), permite realizar nanopatrones de vanguardia con una precisión sin precedentes. Juntas, estas tecnologías constituyen la base de la experiencia fundamental de Heidelberg Instruments en microfabricación y nanofabricación.
Investigación y desarrollo
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µMLA Alineador sin máscara
Alineador sin máscara de sobremesa configurable y compacto con módulos de escaneado rasterizado y exposición vectorial. -
Alineador sin máscara MLA 150
La herramienta sin máscara más rápida para prototipado rápido, la alternativa a los alineadores de máscara. Perfecto para litografía binaria estándar. -
Sistema de litografía láser DWL 66+
Nuestro sistema más versátil para investigación y creación de prototipos, con resolución variable y una amplia selección de opciones. -
VPG 300 DI Maskless Stepper
Imán directo sin máscara para microestructuras de alta precisión y resolución. -
NanoFrazor
Herramienta versátil y modular que combina la litografía térmica por sonda de barrido, la sublimación láser directa y la automatización avanzada para la I+D de vanguardia.
Industrial
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MLA 300
Optimizada para la producción industrial con el máximo rendimiento y una perfecta integración en las líneas de producción industrial. -
Sistemas de litografía láser DWL 2000 GS / DWL 4000 GS
La herramienta de litografía industrial en escala de grises más avanzada del mercado. -
VPG+ 200 / VPG+ 400 / VPG+ 800 Generadores de patrones de volumen
Potentes herramientas de producción de fotomáscaras y microestructuras estándar en resistivos i-line. -
VPG+ 1400 FPD Volume Pattern Generator
Producción de fotomáscaras en grandes sustratos, perfecta para aplicaciones de visualización. -
VPG 300 DI Maskless Stepper
Imán directo sin máscara para microestructuras de alta precisión y resolución. -
ULTRA Semiconductor Writer
Una herramienta diseñada específicamente para producir fotomáscaras semiconductoras maduras.
