Rendimiento a nivel de paso a paso con una flexibilidad inigualable para I+D, creación de prototipos y microfabricación
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Descripción del producto
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Libérate de las limitaciones, costes y retrasos de las fotomáscaras. El VPG 300 DI es un sistema litográfico de escritura directa de alto rendimiento diseñado para acelerar tu ciclo de innovación de semanas a horas. Combinando la precisión de un sistema tradicional i-line stepper con las potentes ventajas de un flujo de trabajo sin máscaras, VPG 300 DI permite a investigadores e ingenieros crear microestructuras de alta resolución directamente sobre obleas de hasta 300 mm con una velocidad y flexibilidad sin precedentes.
El poder de un stepper, la libertad de la escritura directa
La VPG 300 DI cierra la brecha entre I+D y producción. Proporciona la resolución submicrométrica y la precisión de superposición que esperas de un paso a paso basado en máscaras, al tiempo que elimina los importantes gastos y plazos de entrega asociados a la adquisición de máscaras. Esto la convierte en la solución ideal para la creación rápida de prototipos, el desarrollo de procesos y las aplicaciones que requieren frecuentes iteraciones de diseño.
Del DAO a la exposición en minutos, no en semanas
Transfiere instantáneamente tu diseño al sustrato e itera a la velocidad del pensamiento. El avanzado motor óptico de VPG 300 DI te permite probar nuevos diseños a diario, no mensualmente, acelerando drásticamente tus plazos de desarrollo.
- Exposición de alta velocidad: Un modulador espacial de luz (SLM) personalizado y una ruta de datos optimizada te permiten escribir un área de 100×100 mm2 en sólo 9 minutos.
- Grandes áreas sin costuras: Crea dispositivos de gran superficie o troqueles de tamaño prácticamente ilimitado sin los errores de cosido inherentes a los steppers.
- Cambios de diseño instantáneos: Modifica tu archivo CAD y empieza a exponer inmediatamente. No es necesario encargar, esperar, inspeccionar y almacenar una nueva máscara.
Consigue una fidelidad excepcional de las funciones
Tu investigación exige precisión. Construido sobre nuestra plataforma VPG+ de eficacia probada con una platina Zerodur® de alta estabilidad, el VPG 300 DI ofrece una calidad excepcional para tus microestructuras más exigentes.
- Alta resolución: Produce con fiabilidad estructuras críticas de menos de 500 nm.
- Calidad superior de los bordes: Consigue una rugosidad del borde inferior a 40 nm (3σ).
- Excelente uniformidad de CD: Mantén un control estricto del proceso con una uniformidad de CD inferior a 50 nm (3σ).
Herramientas inteligentes para la fabricación de dispositivos complejos
Desde MEMS multicapa hasta envases avanzados, la VPG 300 DI está equipada con sofisticados sistemas para garantizar una alineación y un enfoque perfectos en todo el sustrato.
- Alineación multicapa automatizada: Consigue una precisión de alineación superior de hasta 100 nm. El sistema también admite la alineación trasera VIS e IR automatizada para estructuras enterradas.
- Autoenfoque dinámico: Una selección de sistemas de autoenfoque óptico o neumático compensa dinámicamente el alabeo de la oblea o las variaciones topográficas > 160 µm, garantizando un enfoque nítido en todas partes.
- Metrología integrada: Realiza mediciones sobre la marcha de la posición, la CD y la rugosidad del borde directamente dentro de la herramienta, proporcionando información inmediata del proceso.
- Estabilidad ambiental: Una caja de flujo integrada y sensores de condiciones ambientales con compensación por software garantizan resultados de escritura estables y repetibles día tras día.
¿Preparado para eliminar el cuello de botella de las máscaras?
Descubre cómo VPG 300 DI puede revolucionar tu flujo de trabajo de fabricación. Ponte en contacto con nuestros especialistas para hablar de tu investigación y saber cómo la escritura directa puede acelerar tu éxito.
Libérate de las limitaciones, costes y retrasos de las fotomáscaras. El VPG 300 DI es un sistema litográfico de escritura directa de alto rendimiento diseñado para acelerar tu ciclo de innovación de semanas a horas. Combinando la precisión de un sistema tradicional i-line stepper con las potentes ventajas de un flujo de trabajo sin máscaras, VPG 300 DI permite a investigadores e ingenieros crear microestructuras de alta resolución directamente sobre obleas de hasta 300 mm con una velocidad y flexibilidad sin precedentes.
El poder de un stepper, la libertad de la escritura directa
La VPG 300 DI cierra la brecha entre I+D y producción. Proporciona la resolución submicrométrica y la precisión de superposición que esperas de un paso a paso basado en máscaras, al tiempo que elimina los importantes gastos y plazos de entrega asociados a la adquisición de máscaras. Esto la convierte en la solución ideal para la creación rápida de prototipos, el desarrollo de procesos y las aplicaciones que requieren frecuentes iteraciones de diseño.
Del DAO a la exposición en minutos, no en semanas
Transfiere instantáneamente tu diseño al sustrato e itera a la velocidad del pensamiento. El avanzado motor óptico de VPG 300 DI te permite probar nuevos diseños a diario, no mensualmente, acelerando drásticamente tus plazos de desarrollo.
- Exposición de alta velocidad: Un modulador espacial de luz (SLM) personalizado y una ruta de datos optimizada te permiten escribir un área de 100×100 mm2 en sólo 9 minutos.
- Grandes áreas sin costuras: Crea dispositivos de gran superficie o troqueles de tamaño prácticamente ilimitado sin los errores de cosido inherentes a los steppers.
- Cambios de diseño instantáneos: Modifica tu archivo CAD y empieza a exponer inmediatamente. No es necesario encargar, esperar, inspeccionar y almacenar una nueva máscara.
Consigue una fidelidad excepcional de las funciones
Tu investigación exige precisión. Construido sobre nuestra plataforma VPG+ de eficacia probada con una platina Zerodur® de alta estabilidad, el VPG 300 DI ofrece una calidad excepcional para tus microestructuras más exigentes.
- Alta resolución: Produce con fiabilidad estructuras críticas de menos de 500 nm.
- Calidad superior de los bordes: Consigue una rugosidad del borde inferior a 40 nm (3σ).
- Excelente uniformidad de CD: Mantén un control estricto del proceso con una uniformidad de CD inferior a 50 nm (3σ).
Herramientas inteligentes para la fabricación de dispositivos complejos
Desde MEMS multicapa hasta envases avanzados, la VPG 300 DI está equipada con sofisticados sistemas para garantizar una alineación y un enfoque perfectos en todo el sustrato.
- Alineación multicapa automatizada: Consigue una precisión de alineación superior de hasta 100 nm. El sistema también admite la alineación trasera VIS e IR automatizada para estructuras enterradas.
- Autoenfoque dinámico: Una selección de sistemas de autoenfoque óptico o neumático compensa dinámicamente el alabeo de la oblea o las variaciones topográficas > 160 µm, garantizando un enfoque nítido en todas partes.
- Metrología integrada: Realiza mediciones sobre la marcha de la posición, la CD y la rugosidad del borde directamente dentro de la herramienta, proporcionando información inmediata del proceso.
- Estabilidad ambiental: Una caja de flujo integrada y sensores de condiciones ambientales con compensación por software garantizan resultados de escritura estables y repetibles día tras día.
¿Preparado para eliminar el cuello de botella de las máscaras?
Descubre cómo VPG 300 DI puede revolucionar tu flujo de trabajo de fabricación. Ponte en contacto con nuestros especialistas para hablar de tu investigación y saber cómo la escritura directa puede acelerar tu éxito.
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Productos destacados
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Velocidad de exposición
Modulador de luz espacial de alta velocidad hecho a medida; rendimiento del motor óptico y ruta de datos optimizados. Puede escribir un área de 100 x 100 mm2 en 9 minutosCalidad de la exposición
Rugosidad del borde < 40 nm, uniformidad CD < 50 nm, resolución < 500 nmPrecisión de alineación
Alineación dela 2ª capa (cara superior) hasta 100 nm, cara posterior VIS / IR ±1 µmAlineación automatizada
Alineación global y local automatizada con correcciones de distorsión; alineación trasera VIS; alineación IR para estructuras enterradasAutoenfoque
Autoenfoque óptico o neumático con compensación dinámica > 160 µmFunciones de metrología incluidas
Posición, CD y rugosidad del bordeEstabilidad de escritura
Metrología ambiental integrada, caja de flujo y correcciones de software para compensar los cambios ambientales -
Módulos disponibles
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Opciones de manipulación automática
Manipulación en bastidor abierto con soportes y prealineación según norma SEMI disponibles para obleas estándar de 100 a 200 mm o 200 / 300 mm (otras bajo pedido)Dos modos de escritura a elegir
NA alta para la máxima resolución o NA más baja optimizada para aplicaciones críticas de rendimiento o DOFOpciones de alineación
Alineación trasera VIS e IRContratos de servicios
Acuerdos de nivel de servicio en todo el mundo para una asistencia in situ más rápida y acceso a piezas de repuesto
Libérate de las limitaciones, costes y retrasos de las fotomáscaras. El VPG 300 DI es un sistema litográfico de escritura directa de alto rendimiento diseñado para acelerar tu ciclo de innovación de semanas a horas. Combinando la precisión de un sistema tradicional i-line stepper con las potentes ventajas de un flujo de trabajo sin máscaras, VPG 300 DI permite a investigadores e ingenieros crear microestructuras de alta resolución directamente sobre obleas de hasta 300 mm con una velocidad y flexibilidad sin precedentes.
El poder de un stepper, la libertad de la escritura directa
La VPG 300 DI cierra la brecha entre I+D y producción. Proporciona la resolución submicrométrica y la precisión de superposición que esperas de un paso a paso basado en máscaras, al tiempo que elimina los importantes gastos y plazos de entrega asociados a la adquisición de máscaras. Esto la convierte en la solución ideal para la creación rápida de prototipos, el desarrollo de procesos y las aplicaciones que requieren frecuentes iteraciones de diseño.
Del DAO a la exposición en minutos, no en semanas
Transfiere instantáneamente tu diseño al sustrato e itera a la velocidad del pensamiento. El avanzado motor óptico de VPG 300 DI te permite probar nuevos diseños a diario, no mensualmente, acelerando drásticamente tus plazos de desarrollo.
- Exposición de alta velocidad: Un modulador espacial de luz (SLM) personalizado y una ruta de datos optimizada te permiten escribir un área de 100×100 mm2 en sólo 9 minutos.
- Grandes áreas sin costuras: Crea dispositivos de gran superficie o troqueles de tamaño prácticamente ilimitado sin los errores de cosido inherentes a los steppers.
- Cambios de diseño instantáneos: Modifica tu archivo CAD y empieza a exponer inmediatamente. No es necesario encargar, esperar, inspeccionar y almacenar una nueva máscara.
Consigue una fidelidad excepcional de las funciones
Tu investigación exige precisión. Construido sobre nuestra plataforma VPG+ de eficacia probada con una platina Zerodur® de alta estabilidad, el VPG 300 DI ofrece una calidad excepcional para tus microestructuras más exigentes.
- Alta resolución: Produce con fiabilidad estructuras críticas de menos de 500 nm.
- Calidad superior de los bordes: Consigue una rugosidad del borde inferior a 40 nm (3σ).
- Excelente uniformidad de CD: Mantén un control estricto del proceso con una uniformidad de CD inferior a 50 nm (3σ).
Herramientas inteligentes para la fabricación de dispositivos complejos
Desde MEMS multicapa hasta envases avanzados, la VPG 300 DI está equipada con sofisticados sistemas para garantizar una alineación y un enfoque perfectos en todo el sustrato.
- Alineación multicapa automatizada: Consigue una precisión de alineación superior de hasta 100 nm. El sistema también admite la alineación trasera VIS e IR automatizada para estructuras enterradas.
- Autoenfoque dinámico: Una selección de sistemas de autoenfoque óptico o neumático compensa dinámicamente el alabeo de la oblea o las variaciones topográficas > 160 µm, garantizando un enfoque nítido en todas partes.
- Metrología integrada: Realiza mediciones sobre la marcha de la posición, la CD y la rugosidad del borde directamente dentro de la herramienta, proporcionando información inmediata del proceso.
- Estabilidad ambiental: Una caja de flujo integrada y sensores de condiciones ambientales con compensación por software garantizan resultados de escritura estables y repetibles día tras día.
¿Preparado para eliminar el cuello de botella de las máscaras?
Descubre cómo VPG 300 DI puede revolucionar tu flujo de trabajo de fabricación. Ponte en contacto con nuestros especialistas para hablar de tu investigación y saber cómo la escritura directa puede acelerar tu éxito.
Libérate de las limitaciones, costes y retrasos de las fotomáscaras. El VPG 300 DI es un sistema litográfico de escritura directa de alto rendimiento diseñado para acelerar tu ciclo de innovación de semanas a horas. Combinando la precisión de un sistema tradicional i-line stepper con las potentes ventajas de un flujo de trabajo sin máscaras, VPG 300 DI permite a investigadores e ingenieros crear microestructuras de alta resolución directamente sobre obleas de hasta 300 mm con una velocidad y flexibilidad sin precedentes.
El poder de un stepper, la libertad de la escritura directa
La VPG 300 DI cierra la brecha entre I+D y producción. Proporciona la resolución submicrométrica y la precisión de superposición que esperas de un paso a paso basado en máscaras, al tiempo que elimina los importantes gastos y plazos de entrega asociados a la adquisición de máscaras. Esto la convierte en la solución ideal para la creación rápida de prototipos, el desarrollo de procesos y las aplicaciones que requieren frecuentes iteraciones de diseño.
Del DAO a la exposición en minutos, no en semanas
Transfiere instantáneamente tu diseño al sustrato e itera a la velocidad del pensamiento. El avanzado motor óptico de VPG 300 DI te permite probar nuevos diseños a diario, no mensualmente, acelerando drásticamente tus plazos de desarrollo.
- Exposición de alta velocidad: Un modulador espacial de luz (SLM) personalizado y una ruta de datos optimizada te permiten escribir un área de 100×100 mm2 en sólo 9 minutos.
- Grandes áreas sin costuras: Crea dispositivos de gran superficie o troqueles de tamaño prácticamente ilimitado sin los errores de cosido inherentes a los steppers.
- Cambios de diseño instantáneos: Modifica tu archivo CAD y empieza a exponer inmediatamente. No es necesario encargar, esperar, inspeccionar y almacenar una nueva máscara.
Consigue una fidelidad excepcional de las funciones
Tu investigación exige precisión. Construido sobre nuestra plataforma VPG+ de eficacia probada con una platina Zerodur® de alta estabilidad, el VPG 300 DI ofrece una calidad excepcional para tus microestructuras más exigentes.
- Alta resolución: Produce con fiabilidad estructuras críticas de menos de 500 nm.
- Calidad superior de los bordes: Consigue una rugosidad del borde inferior a 40 nm (3σ).
- Excelente uniformidad de CD: Mantén un control estricto del proceso con una uniformidad de CD inferior a 50 nm (3σ).
Herramientas inteligentes para la fabricación de dispositivos complejos
Desde MEMS multicapa hasta envases avanzados, la VPG 300 DI está equipada con sofisticados sistemas para garantizar una alineación y un enfoque perfectos en todo el sustrato.
- Alineación multicapa automatizada: Consigue una precisión de alineación superior de hasta 100 nm. El sistema también admite la alineación trasera VIS e IR automatizada para estructuras enterradas.
- Autoenfoque dinámico: Una selección de sistemas de autoenfoque óptico o neumático compensa dinámicamente el alabeo de la oblea o las variaciones topográficas > 160 µm, garantizando un enfoque nítido en todas partes.
- Metrología integrada: Realiza mediciones sobre la marcha de la posición, la CD y la rugosidad del borde directamente dentro de la herramienta, proporcionando información inmediata del proceso.
- Estabilidad ambiental: Una caja de flujo integrada y sensores de condiciones ambientales con compensación por software garantizan resultados de escritura estables y repetibles día tras día.
¿Preparado para eliminar el cuello de botella de las máscaras?
Descubre cómo VPG 300 DI puede revolucionar tu flujo de trabajo de fabricación. Ponte en contacto con nuestros especialistas para hablar de tu investigación y saber cómo la escritura directa puede acelerar tu éxito.
Velocidad de exposición
Calidad de la exposición
Precisión de alineación
Alineación automatizada
Autoenfoque
Funciones de metrología incluidas
Estabilidad de escritura
Opciones de manipulación automática
Dos modos de escritura a elegir
Opciones de alineación
Contratos de servicios
Aplicaciones para clientes
Por qué los clientes eligen nuestros sistemas
"La VPG nos permite realizar líneas de cobre e interconexiones chip a chip con un tamaño de hasta 1 µm, que es tres veces menor en tamaño de característica que cuando se utiliza el proceso convencional de alineador de máscaras".
Markus Wöhrmann
Jefe de Grupo de Litografía y Polímeros de Capa Fina para Embalaje a Nivel de Oblea
Instituto Fraunhofer de Microintegración y Fiabilidad
Berlín, Alemania
"En TNO @ Holst Centre, la VPG Heidelberg Instruments es fundamental en nuestro esfuerzo de Investigación y Desarrollo, ya que proporciona la capacidad de realizar ciclos rápidos a través de iteraciones de diseño y desarrollar y optimizar los flujos del proceso de fabricación de estos diseños."
Auke Jisk Kronemeijer, Director de Investigación de Electrónica de Capa Fina
TNO @ Holst Centre
Eindhoven, Países Bajos
Datos técnicos
| Modo escritura | I | II |
|---|---|---|
| Rendimiento de escritura | ||
| Tamaño mínimo del rasgo [µm] | 0.5 | 0.8 |
| Líneas y espacios mínimos [µm] | 0.8 | 1.2 |
| Dirección Cuadrícula [nm] | 4 | 8 |
| Rugosidad del borde [3σ, nm] | 30 | 40 |
| Uniformidad CD [3σ, nm] | 50 | 60 |
| Alineación2ª capa (global) [nm] | 100 | 130 |
| Velocidad de escritura [mm2/min] | 340* | 1020* |
| *Modo rápido: 680 y 2056 mm2/min con rendimiento similar, pero sin especificación | ||
| Tiempo de exposición para un área de 100 x 100 mm2 [min] | 39 | 17 |
| Características del sistema | ||
|---|---|---|
| Fuente de luz | Láser DPSS de alta potencia con 355 nm | |
| Tamaño máximo del sustrato y área de escritura | 300 x 300 mm2 | |
| Grosor del sustrato | De 0 a 12 mm (otros grosores bajo pedido) | |
| Área máxima de exposición | 300 x 300 mm2 | |
| Autoenfoque | Sistema de autoenfoque en tiempo real (óptico y neumático) | |
| Rango de compensación del enfoque automático | > 160 µm | |
| Caja de flujo | Cámara ambiental de temperatura controlada (bucle cerrado) | |
| Alineación y metrología | Sistema de cámara y paquete de software para metrología y alineación | |
| Otras funciones y opciones | Manipulación y prealineación totalmente automáticas de obleas de 100, 150, 200 y 300 mm. Detección óptica de bordes, alineación superior y alineación IR y posterior opcionales. Platina Zerodur® e interferómetro diferencial de alta resolución | |
| Dimensiones del sistema | ||
| Sistema / Bastidor electrónico | ||
| Anchura [mm] | 2605 / 800 | |
| Profundidad [mm] | 1652 / 650 | |
| Altura [mm] | 2102 / 1800 | |
| Peso [kg] | 3550 / 180 | |
| Requisitos de instalación | ||
| Eléctrico | 400 VCA ± 5 %, 50/60 Hz, 16 A, 3 fases | |
| Aire comprimido | 6 - 10 bar |
Ten en cuenta
Las especificaciones dependen de las condiciones individuales del proceso y pueden variar según la configuración del equipo. La velocidad de escritura depende del tamaño del píxel y del modo de escritura. El diseño y las especificaciones están sujetos a cambios sin previo aviso.
