VPG+ 200 / VPG+ 400 / VPG+ 800

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Potentes herramientas de producción para fotomáscaras y microestructuras estándar en resistivos i-line

  • Product Description

  • Los generadores de patrones por volumen VPG+ 200, VPG+ 400 y VPG+ 800 son sistemas litográficos potentes y versátiles diseñados para la fabricación de máscaras polivalentes para resistivos i-line. Estos sistemas destacan en la creación de patrones de alta resolución en sustratos que van desde formatos pequeños a grandes, con capacidad para manejar sustratos de hasta 800 x 800 mm². Ideales para una amplia gama de aplicaciones en industrias avanzadas, los sistemas VPG+ están diseñados para satisfacer las necesidades cambiantes de la microfabricación moderna.

    Diseñados para exposiciones rápidas y de alta calidad con una alineación extremadamente precisa, todos los modelos VPG+ incorporan un interferómetro con una resolución de hasta 10 nm. La optimización de la Mura garantiza una excelente uniformidad y resolución del CD, mientras que las cámaras ambientales de bucle cerrado cumplen los requisitos más estrictos para la fabricación avanzada de fotomáscaras, garantizando una calidad constante en todos los ámbitos.

    Potencia tu producción de máscaras

    • Embalaje avanzado: Garantiza una precisión y velocidad excepcionales para la producción de máscaras en fan-out, tecnología de interposición y otros procesos de envasado de vanguardia. Los sistemas VPG+ ofrecen la salida de alta resolución necesaria para las máscaras de alto rendimiento.
    • Fabricación electrónica: Integra perfectamente los Generadores de patrones volumétricos en tu flujo de trabajo para crear fotomáscaras utilizadas en la fabricación de placas de circuito impreso, circuitos integrados y otros componentes electrónicos.
    • Microfluidos y MEMS: Da vida a tus conceptos microfluídicos y MEMS. La capacidad de crear patrones intrincados hace que los sistemas VPG+ sean perfectos para la producción de máscaras en estos campos de rápido desarrollo.
    • Pantallas para smartphones: Produce las fotomáscaras para smartphones más avanzadas con una precisión y velocidad excepcionales. Los sistemas VPG+ ofrecen la resolución y precisión necesarias para pantallas LCD, LED y OLED de alta calidad.

    Rendimiento y eficacia inigualables

    • Láser DPSS de alta potencia: Garantiza una formación precisa del patrón, lo que se traduce en una calidad superior de la máscara y un mayor rendimiento del dispositivo.
    • Motor de exposición de alta velocidad: Reduce drásticamente los tiempos de escritura, permitiendo una producción de máscaras más rápida y un mayor rendimiento para cumplir plazos ajustados.
    • Herramienta de calibración automática: Garantiza un excelente registro y posicionamiento de las estructuras escritas, ahorrándote tiempo y minimizando los errores durante la producción.
    • Cámara ambiental de circuito cerrado: Mantiene unas condiciones óptimas para una calidad constante de la máscara en cada ciclo de producción, cumpliendo las normas de fabricación más exigentes.
    • Flexibilidad de gran formato: La VPG+ 800 destaca en sustratos de formato medio a grande, mientras que la VPG+ 200 y la VPG+ 400 están adaptadas a formatos pequeños y medianos.
    • Integración perfecta: Todos los sistemas VPG+ admiten formatos de datos industriales, lo que garantiza la compatibilidad con tus actuales flujos de trabajo de diseño y fabricación.
    • Tamaño compacto: A pesar de sus potentes capacidades, los sistemas VPG+ están diseñados para encajar en instalaciones con espacio limitado, ofreciendo una eficacia inigualable en un formato compacto.

    Invierte en el futuro de la microfabricación

    Los sistemas VPG+ ofrecen una solución preparada para el futuro para tus necesidades de microfabricación. Tanto si te centras en la producción de máscaras de pequeño, mediano o gran formato, proporcionan la flexibilidad, precisión y velocidad necesarias para avanzar en tus procesos.

    Utilizando los sistemas VPG+, puedes conseguir:

    • Calidad y resolución de máscara mejoradas para un rendimiento superior del dispositivo.
    • Mayor rendimiento para una producción de máscaras más rápida y un menor tiempo de comercialización.
    • Reducción de los costes de producción gracias a un funcionamiento eficaz y un rendimiento fiable.
    • Escalabilidad para satisfacer tus necesidades cambiantes de creación de máscaras a medida que crece tu empresa.

    Lleva tu producción de máscaras al siguiente nivel. Ponte en contacto con nosotros hoy mismo para obtener más información sobre cómo nuestra tecnología líder en el sector puede redefinir tu proceso de microfabricación.

    Los generadores de patrones por volumen VPG+ 200, VPG+ 400 y VPG+ 800 son sistemas litográficos potentes y versátiles diseñados para la fabricación de máscaras polivalentes para resistivos i-line. Estos sistemas destacan en la creación de patrones de alta resolución en sustratos que van desde formatos pequeños a grandes, con capacidad para manejar sustratos de hasta 800 x 800 mm². Ideales para una amplia gama de aplicaciones en industrias avanzadas, los sistemas VPG+ están diseñados para satisfacer las necesidades cambiantes de la microfabricación moderna.

    Diseñados para exposiciones rápidas y de alta calidad con una alineación extremadamente precisa, todos los modelos VPG+ incorporan un interferómetro con una resolución de hasta 10 nm. La optimización de la Mura garantiza una excelente uniformidad y resolución del CD, mientras que las cámaras ambientales de bucle cerrado cumplen los requisitos más estrictos para la fabricación avanzada de fotomáscaras, garantizando una calidad constante en todos los ámbitos.

    Potencia tu producción de máscaras

    • Embalaje avanzado: Garantiza una precisión y velocidad excepcionales para la producción de máscaras en fan-out, tecnología de interposición y otros procesos de envasado de vanguardia. Los sistemas VPG+ ofrecen la salida de alta resolución necesaria para las máscaras de alto rendimiento.
    • Fabricación electrónica: Integra perfectamente los Generadores de patrones volumétricos en tu flujo de trabajo para crear fotomáscaras utilizadas en la fabricación de placas de circuito impreso, circuitos integrados y otros componentes electrónicos.
    • Microfluidos y MEMS: Da vida a tus conceptos microfluídicos y MEMS. La capacidad de crear patrones intrincados hace que los sistemas VPG+ sean perfectos para la producción de máscaras en estos campos de rápido desarrollo.
    • Pantallas para smartphones: Produce las fotomáscaras para smartphones más avanzadas con una precisión y velocidad excepcionales. Los sistemas VPG+ ofrecen la resolución y precisión necesarias para pantallas LCD, LED y OLED de alta calidad.

    Rendimiento y eficacia inigualables

    • Láser DPSS de alta potencia: Garantiza una formación precisa del patrón, lo que se traduce en una calidad superior de la máscara y un mayor rendimiento del dispositivo.
    • Motor de exposición de alta velocidad: Reduce drásticamente los tiempos de escritura, permitiendo una producción de máscaras más rápida y un mayor rendimiento para cumplir plazos ajustados.
    • Herramienta de calibración automática: Garantiza un excelente registro y posicionamiento de las estructuras escritas, ahorrándote tiempo y minimizando los errores durante la producción.
    • Cámara ambiental de circuito cerrado: Mantiene unas condiciones óptimas para una calidad constante de la máscara en cada ciclo de producción, cumpliendo las normas de fabricación más exigentes.
    • Flexibilidad de gran formato: La VPG+ 800 destaca en sustratos de formato medio a grande, mientras que la VPG+ 200 y la VPG+ 400 están adaptadas a formatos pequeños y medianos.
    • Integración perfecta: Todos los sistemas VPG+ admiten formatos de datos industriales, lo que garantiza la compatibilidad con tus actuales flujos de trabajo de diseño y fabricación.
    • Tamaño compacto: A pesar de sus potentes capacidades, los sistemas VPG+ están diseñados para encajar en instalaciones con espacio limitado, ofreciendo una eficacia inigualable en un formato compacto.

    Invierte en el futuro de la microfabricación

    Los sistemas VPG+ ofrecen una solución preparada para el futuro para tus necesidades de microfabricación. Tanto si te centras en la producción de máscaras de pequeño, mediano o gran formato, proporcionan la flexibilidad, precisión y velocidad necesarias para avanzar en tus procesos.

    Utilizando los sistemas VPG+, puedes conseguir:

    • Calidad y resolución de máscara mejoradas para un rendimiento superior del dispositivo.
    • Mayor rendimiento para una producción de máscaras más rápida y un menor tiempo de comercialización.
    • Reducción de los costes de producción gracias a un funcionamiento eficaz y un rendimiento fiable.
    • Escalabilidad para satisfacer tus necesidades cambiantes de creación de máscaras a medida que crece tu empresa.

    Lleva tu producción de máscaras al siguiente nivel. Ponte en contacto con nosotros hoy mismo para obtener más información sobre cómo nuestra tecnología líder en el sector puede redefinir tu proceso de microfabricación.

  • Product Highlights

  • Calidad de la exposición

    Resolución submicrométrica, CDs uniformes, modos de escritura flexibles e intercambiables con rejillas de direcciones de alta resolución

    Alta velocidad de exposición

    Modulador de luz espacial de alta velocidad hecho a medida; rendimiento del motor óptico y trayectoria de datos optimizados, lo que la convierte en la herramienta más rápida del mercado en su categoría; 400 mm (14″) en <21 minutos

    Estabilidad de escritura

    Metrología ambiental integrada, caja de flujo y correcciones de software para compensar los cambios ambientales

    Alineación y metrología

    Funciones de metrología incluidas: alineación lateral superior a través de la lente de escritura; alineaciones globales y de campo automatizadas con corrección de la distorsión; sofisticada matriz de corrección 2D sobre el área de escritura

    Preparación de datos

    Rejillas de escritura flexibles y fáciles de usar; conversión en línea y optimización avanzada de datos

    Autoenfoque

    Enfoque automático (neumático u óptico) con compensación dinámica de hasta 150 µm

  • Available Modules

  • Dimensiones variables de la etapa

    Admite sustratos de hasta 205 mm, 410 mm u 800 mm

    Tres modos de escritura intercambiables

    Modos de escritura intercambiables por el usuario para resoluciones de 750 nm a 2 µm (modo de alta calidad opcional)

    Opciones de manejo automático de máscaras

    Manipulación totalmente automática de fotomáscaras de hasta 9 x 9″ (otros tamaños bajo pedido)

    Paquete de alta precisión

    Incluye platina Zerodur®, interferómetro diferencial y controlador de platina avanzado

    Sustratos a medida

    Soporte de sustratos personalizados a petición

    Contratos de servicios

    Acuerdos de Nivel de Servicio en todo el mundo para una asistencia in situ más rápida y acceso a piezas de repuesto

Los generadores de patrones por volumen VPG+ 200, VPG+ 400 y VPG+ 800 son sistemas litográficos potentes y versátiles diseñados para la fabricación de máscaras polivalentes para resistivos i-line. Estos sistemas destacan en la creación de patrones de alta resolución en sustratos que van desde formatos pequeños a grandes, con capacidad para manejar sustratos de hasta 800 x 800 mm². Ideales para una amplia gama de aplicaciones en industrias avanzadas, los sistemas VPG+ están diseñados para satisfacer las necesidades cambiantes de la microfabricación moderna.

Diseñados para exposiciones rápidas y de alta calidad con una alineación extremadamente precisa, todos los modelos VPG+ incorporan un interferómetro con una resolución de hasta 10 nm. La optimización de la Mura garantiza una excelente uniformidad y resolución del CD, mientras que las cámaras ambientales de bucle cerrado cumplen los requisitos más estrictos para la fabricación avanzada de fotomáscaras, garantizando una calidad constante en todos los ámbitos.

Potencia tu producción de máscaras

  • Embalaje avanzado: Garantiza una precisión y velocidad excepcionales para la producción de máscaras en fan-out, tecnología de interposición y otros procesos de envasado de vanguardia. Los sistemas VPG+ ofrecen la salida de alta resolución necesaria para las máscaras de alto rendimiento.
  • Fabricación electrónica: Integra perfectamente los Generadores de patrones volumétricos en tu flujo de trabajo para crear fotomáscaras utilizadas en la fabricación de placas de circuito impreso, circuitos integrados y otros componentes electrónicos.
  • Microfluidos y MEMS: Da vida a tus conceptos microfluídicos y MEMS. La capacidad de crear patrones intrincados hace que los sistemas VPG+ sean perfectos para la producción de máscaras en estos campos de rápido desarrollo.
  • Pantallas para smartphones: Produce las fotomáscaras para smartphones más avanzadas con una precisión y velocidad excepcionales. Los sistemas VPG+ ofrecen la resolución y precisión necesarias para pantallas LCD, LED y OLED de alta calidad.

Rendimiento y eficacia inigualables

  • Láser DPSS de alta potencia: Garantiza una formación precisa del patrón, lo que se traduce en una calidad superior de la máscara y un mayor rendimiento del dispositivo.
  • Motor de exposición de alta velocidad: Reduce drásticamente los tiempos de escritura, permitiendo una producción de máscaras más rápida y un mayor rendimiento para cumplir plazos ajustados.
  • Herramienta de calibración automática: Garantiza un excelente registro y posicionamiento de las estructuras escritas, ahorrándote tiempo y minimizando los errores durante la producción.
  • Cámara ambiental de circuito cerrado: Mantiene unas condiciones óptimas para una calidad constante de la máscara en cada ciclo de producción, cumpliendo las normas de fabricación más exigentes.
  • Flexibilidad de gran formato: La VPG+ 800 destaca en sustratos de formato medio a grande, mientras que la VPG+ 200 y la VPG+ 400 están adaptadas a formatos pequeños y medianos.
  • Integración perfecta: Todos los sistemas VPG+ admiten formatos de datos industriales, lo que garantiza la compatibilidad con tus actuales flujos de trabajo de diseño y fabricación.
  • Tamaño compacto: A pesar de sus potentes capacidades, los sistemas VPG+ están diseñados para encajar en instalaciones con espacio limitado, ofreciendo una eficacia inigualable en un formato compacto.

Invierte en el futuro de la microfabricación

Los sistemas VPG+ ofrecen una solución preparada para el futuro para tus necesidades de microfabricación. Tanto si te centras en la producción de máscaras de pequeño, mediano o gran formato, proporcionan la flexibilidad, precisión y velocidad necesarias para avanzar en tus procesos.

Utilizando los sistemas VPG+, puedes conseguir:

  • Calidad y resolución de máscara mejoradas para un rendimiento superior del dispositivo.
  • Mayor rendimiento para una producción de máscaras más rápida y un menor tiempo de comercialización.
  • Reducción de los costes de producción gracias a un funcionamiento eficaz y un rendimiento fiable.
  • Escalabilidad para satisfacer tus necesidades cambiantes de creación de máscaras a medida que crece tu empresa.

Lleva tu producción de máscaras al siguiente nivel. Ponte en contacto con nosotros hoy mismo para obtener más información sobre cómo nuestra tecnología líder en el sector puede redefinir tu proceso de microfabricación.

Los generadores de patrones por volumen VPG+ 200, VPG+ 400 y VPG+ 800 son sistemas litográficos potentes y versátiles diseñados para la fabricación de máscaras polivalentes para resistivos i-line. Estos sistemas destacan en la creación de patrones de alta resolución en sustratos que van desde formatos pequeños a grandes, con capacidad para manejar sustratos de hasta 800 x 800 mm². Ideales para una amplia gama de aplicaciones en industrias avanzadas, los sistemas VPG+ están diseñados para satisfacer las necesidades cambiantes de la microfabricación moderna.

Diseñados para exposiciones rápidas y de alta calidad con una alineación extremadamente precisa, todos los modelos VPG+ incorporan un interferómetro con una resolución de hasta 10 nm. La optimización de la Mura garantiza una excelente uniformidad y resolución del CD, mientras que las cámaras ambientales de bucle cerrado cumplen los requisitos más estrictos para la fabricación avanzada de fotomáscaras, garantizando una calidad constante en todos los ámbitos.

Potencia tu producción de máscaras

  • Embalaje avanzado: Garantiza una precisión y velocidad excepcionales para la producción de máscaras en fan-out, tecnología de interposición y otros procesos de envasado de vanguardia. Los sistemas VPG+ ofrecen la salida de alta resolución necesaria para las máscaras de alto rendimiento.
  • Fabricación electrónica: Integra perfectamente los Generadores de patrones volumétricos en tu flujo de trabajo para crear fotomáscaras utilizadas en la fabricación de placas de circuito impreso, circuitos integrados y otros componentes electrónicos.
  • Microfluidos y MEMS: Da vida a tus conceptos microfluídicos y MEMS. La capacidad de crear patrones intrincados hace que los sistemas VPG+ sean perfectos para la producción de máscaras en estos campos de rápido desarrollo.
  • Pantallas para smartphones: Produce las fotomáscaras para smartphones más avanzadas con una precisión y velocidad excepcionales. Los sistemas VPG+ ofrecen la resolución y precisión necesarias para pantallas LCD, LED y OLED de alta calidad.

Rendimiento y eficacia inigualables

  • Láser DPSS de alta potencia: Garantiza una formación precisa del patrón, lo que se traduce en una calidad superior de la máscara y un mayor rendimiento del dispositivo.
  • Motor de exposición de alta velocidad: Reduce drásticamente los tiempos de escritura, permitiendo una producción de máscaras más rápida y un mayor rendimiento para cumplir plazos ajustados.
  • Herramienta de calibración automática: Garantiza un excelente registro y posicionamiento de las estructuras escritas, ahorrándote tiempo y minimizando los errores durante la producción.
  • Cámara ambiental de circuito cerrado: Mantiene unas condiciones óptimas para una calidad constante de la máscara en cada ciclo de producción, cumpliendo las normas de fabricación más exigentes.
  • Flexibilidad de gran formato: La VPG+ 800 destaca en sustratos de formato medio a grande, mientras que la VPG+ 200 y la VPG+ 400 están adaptadas a formatos pequeños y medianos.
  • Integración perfecta: Todos los sistemas VPG+ admiten formatos de datos industriales, lo que garantiza la compatibilidad con tus actuales flujos de trabajo de diseño y fabricación.
  • Tamaño compacto: A pesar de sus potentes capacidades, los sistemas VPG+ están diseñados para encajar en instalaciones con espacio limitado, ofreciendo una eficacia inigualable en un formato compacto.

Invierte en el futuro de la microfabricación

Los sistemas VPG+ ofrecen una solución preparada para el futuro para tus necesidades de microfabricación. Tanto si te centras en la producción de máscaras de pequeño, mediano o gran formato, proporcionan la flexibilidad, precisión y velocidad necesarias para avanzar en tus procesos.

Utilizando los sistemas VPG+, puedes conseguir:

  • Calidad y resolución de máscara mejoradas para un rendimiento superior del dispositivo.
  • Mayor rendimiento para una producción de máscaras más rápida y un menor tiempo de comercialización.
  • Reducción de los costes de producción gracias a un funcionamiento eficaz y un rendimiento fiable.
  • Escalabilidad para satisfacer tus necesidades cambiantes de creación de máscaras a medida que crece tu empresa.

Lleva tu producción de máscaras al siguiente nivel. Ponte en contacto con nosotros hoy mismo para obtener más información sobre cómo nuestra tecnología líder en el sector puede redefinir tu proceso de microfabricación.

Calidad de la exposición

Resolución submicrométrica, CDs uniformes, modos de escritura flexibles e intercambiables con rejillas de direcciones de alta resolución

Alta velocidad de exposición

Modulador de luz espacial de alta velocidad hecho a medida; rendimiento del motor óptico y trayectoria de datos optimizados, lo que la convierte en la herramienta más rápida del mercado en su categoría; 400 mm (14″) en <21 minutos

Estabilidad de escritura

Metrología ambiental integrada, caja de flujo y correcciones de software para compensar los cambios ambientales

Alineación y metrología

Funciones de metrología incluidas: alineación lateral superior a través de la lente de escritura; alineaciones globales y de campo automatizadas con corrección de la distorsión; sofisticada matriz de corrección 2D sobre el área de escritura

Preparación de datos

Rejillas de escritura flexibles y fáciles de usar; conversión en línea y optimización avanzada de datos

Autoenfoque

Enfoque automático (neumático u óptico) con compensación dinámica de hasta 150 µm

Dimensiones variables de la etapa

Admite sustratos de hasta 205 mm, 410 mm u 800 mm

Tres modos de escritura intercambiables

Modos de escritura intercambiables por el usuario para resoluciones de 750 nm a 2 µm (modo de alta calidad opcional)

Opciones de manejo automático de máscaras

Manipulación totalmente automática de fotomáscaras de hasta 9 x 9″ (otros tamaños bajo pedido)

Paquete de alta precisión

Incluye platina Zerodur®, interferómetro diferencial y controlador de platina avanzado

Sustratos a medida

Soporte de sustratos personalizados a petición

Contratos de servicios

Acuerdos de Nivel de Servicio en todo el mundo para una asistencia in situ más rápida y acceso a piezas de repuesto

Customer applications

A full 150-mm-wafer filled with a hexagonal pillar array. In such 2D replication master, no visible stitching errors are allowed. The resulting circular structures have a diameter of around 1.7 μm at the top and around 3 μm at the pitch. (Courtesy of IMS Chips)
A full 150-mm-wafer filled with a hexagonal pillar array. In such 2D replication master, no visible stitching errors are allowed. The resulting circular structures have a diameter of around 1.7 μm at the top and around 3 μm at the pitch. (Courtesy of IMS Chips)
8-level quartz Diffractive Optical Element (DOE) exposed using VPG+ system. The pixels are about 2 μm in size, the array of devices covers an area of about 20 mm. (Courtesy of IMS Chips)
8-level quartz Diffractive Optical Element (DOE) exposed using VPG+ system. The pixels are about 2 μm in size, the array of devices covers an area of about 20 mm. (Courtesy of IMS Chips)
The IMS Gate Forest® technology is a “sea-of-gates” mixed-signal gate array integrating analog and digital functionality on a single chip. The microelectronic elements on the master can be individually configured by adding the respective contacts. In a Mix & Match-approach, stepper lithography patterned the CMOS masters, and personalized contacts and metallization layers were added using VPG+ 400 laser lithography. (Courtesy of IMS Chips)
The IMS Gate Forest® technology is a “sea-of-gates” mixed-signal gate array integrating analog and digital functionality on a single chip. The microelectronic elements on the master can be individually configured by adding the respective contacts. In a Mix & Match-approach, stepper lithography patterned the CMOS masters, and personalized contacts and metallization layers were added using VPG+ 400 laser lithography. (Courtesy of IMS Chips)
The VPG+ 200 and VPG+ 400 present the solution to fabricate high-quality photomasks required for advanced packaging applications. For some applications, e.g., Through-Silicon Via (TSV) for 3D-integrated circuits, direct write lithography is currently the only available advanced packaging solution. The VPG+ 200 and the VPG+ 400 maskless lithography systems offer high speed, automatic distortion compensation and excellent resolution in order to master these applications.
The VPG+ 200 and VPG+ 400 present the solution to fabricate high-quality photomasks required for advanced packaging applications. For some applications, e.g., Through-Silicon Via (TSV) for 3D-integrated circuits, direct write lithography is currently the only available advanced packaging solution. The VPG+ 200 and the VPG+ 400 maskless lithography systems offer high speed, automatic distortion compensation and excellent resolution in order to master these applications.
Waveguides for Photonics applications created using Mix-and-Match-approach with both e-beam and laser lithography. (Courtesy of IMS Chips)
Waveguides for Photonics applications created using Mix-and-Match-approach with both e-beam and laser lithography. (Courtesy of IMS Chips)
Display application pattern on chrome mask after etching and resist stripping.
Display application pattern on chrome mask after etching and resist stripping.
Display application pattern on chrome mask after etching and resist stripping.
Display application pattern on chrome mask after etching and resist stripping.

Why customers choose our systems

"La VPG nos permite realizar líneas de cobre e interconexiones chip a chip con un tamaño de hasta 1 µm, que es un tamaño de característica tres veces menor que utilizando el proceso convencional de alineador de máscaras".

Markus Wöhrmann
Jefe de Grupo de Litografía y Polímeros de Capa Fina para Embalaje a Nivel de Oblea
Instituto Fraunhofer de Microintegración y Fiabilidad
Berlín, Alemania

"En TNO @ Holst Centre, la VPG de Heidelberg Instruments es fundamental en nuestro esfuerzo de Investigación y Desarrollo, ya que nos proporciona la capacidad de realizar ciclos rápidos a través de iteraciones de diseño y de desarrollar y optimizar los flujos del proceso de fabricación de estos diseños."

Auke Jisk Kronemeijer, Director de Investigación de Electrónica de Capa Fina
TNO @ Holst Centre
Eindhoven, Países Bajos

Technical Data

Modo escrituraI-QXIIIIII
Rendimiento de escritura
Tamaño mínimo de la estructura [μm]0.750.7512
Líneas y espacios mínimos [µm]1.51.524
Cuadrícula de direcciones [nm]12.512.52550
Rugosidad del borde [3σ, nm]30405070
Uniformidad CD [3σ, nm]556575110
Estabilidad de la costura [3σ, nm]306070100
Velocidad de escritura (hasta) [mm²/min]. 550110039257825
Tiempo de exposición para un área de 100 x 100 mm2 [min]28145.63.5
Características del sistema
Fuente de luzLáser DPSS de alta potencia con 355 nm
Tamaños máximos de sustrato9″ x 9″ / 17″ x 17″ / 800 x 800 mm².
Grosor del sustratoDe 0 a 12 mm (otros grosores bajo pedido)
Área máxima de exposición205 x 205 mm² / 410 x 410 mm² / 800 x 800 mm²
AutoenfoqueSistema de autoenfoque en tiempo real (óptico y neumático)
Rango de compensación del enfoque automáticoHasta 150 µm
Caja de flujoCámara ambiental de temperatura controlada (bucle cerrado)
Alineación Sistema de cámara y paquete de software para metrología y alineación
Otras funciones y opcionesMapa y datos del escenario 2D, corrección de Mura, detector de bordes, múltiples formatos de entrada de datos (DXF, CIF, GDSII, Gerber y otros), manejo automático opcional de máscaras, escenario Zerodur® opcional y platos especiales
Dimensiones del sistema VPG+ 200/400
Sistema / Bastidor electrónico
Anchura [mm]2605 / 800
Profundidad [mm]1652 / 650
Altura [mm]2102 / 1800
Peso [kg]3550 / 180
Requisitos de instalación VPG+ 200/400
Eléctrico400 VCA ± 5 %, 50/60 Hz, 16 A, 3 fases
Aire comprimido6 - 10 bar
Dimensiones del sistema VPG+ 800
Anchura [mm]3100
Profundidad [mm]4250
Altura [mm]2700
Peso [kg]10000
Requisitos de instalación VPG+ 800
Eléctrico400 VCA ± 5 %, 50/60 Hz, 32 A, 3 fases
Aire comprimido8 - 10 bar

Ten en cuenta
Las especificaciones dependen de las condiciones individuales del proceso y pueden variar según la configuración del equipo. La velocidad de escritura depende del tamaño del píxel y del modo de escritura. El diseño y las especificaciones están sujetos a cambios sin previo aviso.

De momento, puedes encontrar el folleto del producto VPG+ 800 en la página web de la FPD VPG+ 1400 .

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