ULTRA Escritor de máscaras de semiconductores

Escritura de fotomáscaras de alto rendimiento y precisión para nodos semiconductores maduros

  • Descripción del producto

  • En el competitivo panorama de la fabricación de semiconductores maduros, te enfrentas a un reto crítico: cómo aumentar el rendimiento y mantener una calidad excepcional sin aumentar los costes. La grabadora de máscaras láser ULTRA está diseñada para resolver exactamente este problema. Proporciona una solución potente y rentable para producir fotomáscaras para microcontroladores, circuitos integrados de gestión de energía, LED, dispositivos IoT, fotónica y MEMS, con la velocidad, precisión y fiabilidad que necesitas para maximizar tu rendimiento y rentabilidad.

    ¿Por qué elegir la ULTRA?

    La ULTRA integra tecnología punta para responder a las principales preocupaciones de los talleres de máscaras modernos: velocidad, precisión y rentabilidad de la inversión.

    Acelera tu producción con un alto rendimiento

    Minimiza el tiempo de inactividad de la herramienta y cumple los exigentes programas de producción con una productividad que supera a las herramientas heredadas. El avanzado motor de exposición de la ULTRA y los modos de escritura optimizados reducen drásticamente los tiempos de escritura de máscaras, permitiéndote producir una fotomáscara estándar de 6″ en menos de 45 minutos.

    • Rápido motor de exposición basado en SLM: Ofrece velocidades de escritura de hasta 580 mm²/minuto sin comprometer la calidad.
    • Manejo totalmente automático de máscaras: Reduce la sobrecarga del operario con una interfaz de carga de máscaras sencilla y fácil de usar, y garantiza una carga y descarga uniformes y repetibles para un funcionamiento continuo.
    • Modos de escritura optimizados: Proporciona la flexibilidad de priorizar la velocidad o la resolución para adaptarse a los requisitos específicos de tu trabajo.

    Consigue el máximo rendimiento con una precisión sin concesiones

    Cada nanómetro cuenta. La ULTRA está construida sobre una base de componentes de alta precisión para garantizar una uniformidad superior de superposición, registro y Dimensión Crítica (CD), máscara tras máscara.

    • Sistema de platina de alta precisión: Una platina totalmente neumática y un plato ZERODUR® de expansión térmica cero proporcionan la máxima estabilidad y eliminan la desviación térmica.
    • Control de posición avanzado: Un sistema de interferómetro diferencial de alta resolución garantiza una colocación de los elementos extremadamente precisa y repetible.
    • Funciones de ajuste de herramientas: Las funciones de corrección integradas te permiten igualar con precisión la salida de varias máquinas, garantizando la coherencia en todo tu conjunto de máscaras.

    Calidad de imagen superior e integración perfecta

    Produce fotomáscaras impecables con una fidelidad de rasgos que cumple las normas más estrictas. La óptica personalizada de la ULTRA proporciona estructuras nítidas y bien definidas hasta 500 nm. Su estudiado diseño garantiza que se adapte sin esfuerzo a tus instalaciones actuales.

    • Óptica personalizada de alta AN: Nuestra lente de escritura diseñada a medida y la óptica UV de baja distorsión garantizan una calidad de imagen y una uniformidad de estructura excepcionales.
    • Huella compacta: El sistema está diseñado para ocupar un espacio mínimo en la sala blanca, lo que permite integrarlo fácilmente en la infraestructura existente de un taller de máscaras sin costosas renovaciones.
    • Fiabilidad probada: La ULTRA es una plataforma cualificada y probada en el sector en la que confían los principales talleres de fotomáscaras de todo el mundo.

    Eleva tu producción de fotomáscaras

    ¿Estás listo para ver cómo la ULTRA puede reducir tus tiempos de ciclo y aumentar tu rendimiento? Ponte en contacto hoy mismo con nuestros expertos para hablar de tu aplicación.

     

    En el competitivo panorama de la fabricación de semiconductores maduros, te enfrentas a un reto crítico: cómo aumentar el rendimiento y mantener una calidad excepcional sin aumentar los costes. La grabadora de máscaras láser ULTRA está diseñada para resolver exactamente este problema. Proporciona una solución potente y rentable para producir fotomáscaras para microcontroladores, circuitos integrados de gestión de energía, LED, dispositivos IoT, fotónica y MEMS, con la velocidad, precisión y fiabilidad que necesitas para maximizar tu rendimiento y rentabilidad.

    ¿Por qué elegir la ULTRA?

    La ULTRA integra tecnología punta para responder a las principales preocupaciones de los talleres de máscaras modernos: velocidad, precisión y rentabilidad de la inversión.

    Acelera tu producción con un alto rendimiento

    Minimiza el tiempo de inactividad de la herramienta y cumple los exigentes programas de producción con una productividad que supera a las herramientas heredadas. El avanzado motor de exposición de la ULTRA y los modos de escritura optimizados reducen drásticamente los tiempos de escritura de máscaras, permitiéndote producir una fotomáscara estándar de 6″ en menos de 45 minutos.

    • Rápido motor de exposición basado en SLM: Ofrece velocidades de escritura de hasta 580 mm²/minuto sin comprometer la calidad.
    • Manejo totalmente automático de máscaras: Reduce la sobrecarga del operario con una interfaz de carga de máscaras sencilla y fácil de usar, y garantiza una carga y descarga uniformes y repetibles para un funcionamiento continuo.
    • Modos de escritura optimizados: Proporciona la flexibilidad de priorizar la velocidad o la resolución para adaptarse a los requisitos específicos de tu trabajo.

    Consigue el máximo rendimiento con una precisión sin concesiones

    Cada nanómetro cuenta. La ULTRA está construida sobre una base de componentes de alta precisión para garantizar una uniformidad superior de superposición, registro y Dimensión Crítica (CD), máscara tras máscara.

    • Sistema de platina de alta precisión: Una platina totalmente neumática y un plato ZERODUR® de expansión térmica cero proporcionan la máxima estabilidad y eliminan la desviación térmica.
    • Control de posición avanzado: Un sistema de interferómetro diferencial de alta resolución garantiza una colocación de los elementos extremadamente precisa y repetible.
    • Funciones de ajuste de herramientas: Las funciones de corrección integradas te permiten igualar con precisión la salida de varias máquinas, garantizando la coherencia en todo tu conjunto de máscaras.

    Calidad de imagen superior e integración perfecta

    Produce fotomáscaras impecables con una fidelidad de rasgos que cumple las normas más estrictas. La óptica personalizada de la ULTRA proporciona estructuras nítidas y bien definidas hasta 500 nm. Su estudiado diseño garantiza que se adapte sin esfuerzo a tus instalaciones actuales.

    • Óptica personalizada de alta AN: Nuestra lente de escritura diseñada a medida y la óptica UV de baja distorsión garantizan una calidad de imagen y una uniformidad de estructura excepcionales.
    • Huella compacta: El sistema está diseñado para ocupar un espacio mínimo en la sala blanca, lo que permite integrarlo fácilmente en la infraestructura existente de un taller de máscaras sin costosas renovaciones.
    • Fiabilidad probada: La ULTRA es una plataforma cualificada y probada en el sector en la que confían los principales talleres de fotomáscaras de todo el mundo.

    Eleva tu producción de fotomáscaras

    ¿Estás listo para ver cómo la ULTRA puede reducir tus tiempos de ciclo y aumentar tu rendimiento? Ponte en contacto hoy mismo con nuestros expertos para hablar de tu aplicación.

     

  • Productos destacados

  • Alta calidad de exposición

    Lente de escritura personalizada de alta AN y óptica UV de baja distorsión

    Alta precisión

    Etapa de soporte neumático completo; plato ZERODUR® de expansión térmica cero; interferómetro diferencial de alta resolución; funciones de corrección de la etapa y de adaptación de la herramienta

    Alto rendimiento

    Motor de exposición rápido basado en SLM; modo rápido; tiempo de escritura de 6″ inferior a 45 minutos
  • Módulos disponibles

En el competitivo panorama de la fabricación de semiconductores maduros, te enfrentas a un reto crítico: cómo aumentar el rendimiento y mantener una calidad excepcional sin aumentar los costes. La grabadora de máscaras láser ULTRA está diseñada para resolver exactamente este problema. Proporciona una solución potente y rentable para producir fotomáscaras para microcontroladores, circuitos integrados de gestión de energía, LED, dispositivos IoT, fotónica y MEMS, con la velocidad, precisión y fiabilidad que necesitas para maximizar tu rendimiento y rentabilidad.

¿Por qué elegir la ULTRA?

La ULTRA integra tecnología punta para responder a las principales preocupaciones de los talleres de máscaras modernos: velocidad, precisión y rentabilidad de la inversión.

Acelera tu producción con un alto rendimiento

Minimiza el tiempo de inactividad de la herramienta y cumple los exigentes programas de producción con una productividad que supera a las herramientas heredadas. El avanzado motor de exposición de la ULTRA y los modos de escritura optimizados reducen drásticamente los tiempos de escritura de máscaras, permitiéndote producir una fotomáscara estándar de 6″ en menos de 45 minutos.

  • Rápido motor de exposición basado en SLM: Ofrece velocidades de escritura de hasta 580 mm²/minuto sin comprometer la calidad.
  • Manejo totalmente automático de máscaras: Reduce la sobrecarga del operario con una interfaz de carga de máscaras sencilla y fácil de usar, y garantiza una carga y descarga uniformes y repetibles para un funcionamiento continuo.
  • Modos de escritura optimizados: Proporciona la flexibilidad de priorizar la velocidad o la resolución para adaptarse a los requisitos específicos de tu trabajo.

Consigue el máximo rendimiento con una precisión sin concesiones

Cada nanómetro cuenta. La ULTRA está construida sobre una base de componentes de alta precisión para garantizar una uniformidad superior de superposición, registro y Dimensión Crítica (CD), máscara tras máscara.

  • Sistema de platina de alta precisión: Una platina totalmente neumática y un plato ZERODUR® de expansión térmica cero proporcionan la máxima estabilidad y eliminan la desviación térmica.
  • Control de posición avanzado: Un sistema de interferómetro diferencial de alta resolución garantiza una colocación de los elementos extremadamente precisa y repetible.
  • Funciones de ajuste de herramientas: Las funciones de corrección integradas te permiten igualar con precisión la salida de varias máquinas, garantizando la coherencia en todo tu conjunto de máscaras.

Calidad de imagen superior e integración perfecta

Produce fotomáscaras impecables con una fidelidad de rasgos que cumple las normas más estrictas. La óptica personalizada de la ULTRA proporciona estructuras nítidas y bien definidas hasta 500 nm. Su estudiado diseño garantiza que se adapte sin esfuerzo a tus instalaciones actuales.

  • Óptica personalizada de alta AN: Nuestra lente de escritura diseñada a medida y la óptica UV de baja distorsión garantizan una calidad de imagen y una uniformidad de estructura excepcionales.
  • Huella compacta: El sistema está diseñado para ocupar un espacio mínimo en la sala blanca, lo que permite integrarlo fácilmente en la infraestructura existente de un taller de máscaras sin costosas renovaciones.
  • Fiabilidad probada: La ULTRA es una plataforma cualificada y probada en el sector en la que confían los principales talleres de fotomáscaras de todo el mundo.

Eleva tu producción de fotomáscaras

¿Estás listo para ver cómo la ULTRA puede reducir tus tiempos de ciclo y aumentar tu rendimiento? Ponte en contacto hoy mismo con nuestros expertos para hablar de tu aplicación.

 

En el competitivo panorama de la fabricación de semiconductores maduros, te enfrentas a un reto crítico: cómo aumentar el rendimiento y mantener una calidad excepcional sin aumentar los costes. La grabadora de máscaras láser ULTRA está diseñada para resolver exactamente este problema. Proporciona una solución potente y rentable para producir fotomáscaras para microcontroladores, circuitos integrados de gestión de energía, LED, dispositivos IoT, fotónica y MEMS, con la velocidad, precisión y fiabilidad que necesitas para maximizar tu rendimiento y rentabilidad.

¿Por qué elegir la ULTRA?

La ULTRA integra tecnología punta para responder a las principales preocupaciones de los talleres de máscaras modernos: velocidad, precisión y rentabilidad de la inversión.

Acelera tu producción con un alto rendimiento

Minimiza el tiempo de inactividad de la herramienta y cumple los exigentes programas de producción con una productividad que supera a las herramientas heredadas. El avanzado motor de exposición de la ULTRA y los modos de escritura optimizados reducen drásticamente los tiempos de escritura de máscaras, permitiéndote producir una fotomáscara estándar de 6″ en menos de 45 minutos.

  • Rápido motor de exposición basado en SLM: Ofrece velocidades de escritura de hasta 580 mm²/minuto sin comprometer la calidad.
  • Manejo totalmente automático de máscaras: Reduce la sobrecarga del operario con una interfaz de carga de máscaras sencilla y fácil de usar, y garantiza una carga y descarga uniformes y repetibles para un funcionamiento continuo.
  • Modos de escritura optimizados: Proporciona la flexibilidad de priorizar la velocidad o la resolución para adaptarse a los requisitos específicos de tu trabajo.

Consigue el máximo rendimiento con una precisión sin concesiones

Cada nanómetro cuenta. La ULTRA está construida sobre una base de componentes de alta precisión para garantizar una uniformidad superior de superposición, registro y Dimensión Crítica (CD), máscara tras máscara.

  • Sistema de platina de alta precisión: Una platina totalmente neumática y un plato ZERODUR® de expansión térmica cero proporcionan la máxima estabilidad y eliminan la desviación térmica.
  • Control de posición avanzado: Un sistema de interferómetro diferencial de alta resolución garantiza una colocación de los elementos extremadamente precisa y repetible.
  • Funciones de ajuste de herramientas: Las funciones de corrección integradas te permiten igualar con precisión la salida de varias máquinas, garantizando la coherencia en todo tu conjunto de máscaras.

Calidad de imagen superior e integración perfecta

Produce fotomáscaras impecables con una fidelidad de rasgos que cumple las normas más estrictas. La óptica personalizada de la ULTRA proporciona estructuras nítidas y bien definidas hasta 500 nm. Su estudiado diseño garantiza que se adapte sin esfuerzo a tus instalaciones actuales.

  • Óptica personalizada de alta AN: Nuestra lente de escritura diseñada a medida y la óptica UV de baja distorsión garantizan una calidad de imagen y una uniformidad de estructura excepcionales.
  • Huella compacta: El sistema está diseñado para ocupar un espacio mínimo en la sala blanca, lo que permite integrarlo fácilmente en la infraestructura existente de un taller de máscaras sin costosas renovaciones.
  • Fiabilidad probada: La ULTRA es una plataforma cualificada y probada en el sector en la que confían los principales talleres de fotomáscaras de todo el mundo.

Eleva tu producción de fotomáscaras

¿Estás listo para ver cómo la ULTRA puede reducir tus tiempos de ciclo y aumentar tu rendimiento? Ponte en contacto hoy mismo con nuestros expertos para hablar de tu aplicación.

 

Alta calidad de exposición

Lente de escritura personalizada de alta AN y óptica UV de baja distorsión

Alta precisión

Etapa de soporte neumático completo; plato ZERODUR® de expansión térmica cero; interferómetro diferencial de alta resolución; funciones de corrección de la etapa y de adaptación de la herramienta

Alto rendimiento

Motor de exposición rápido basado en SLM; modo rápido; tiempo de escritura de 6″ inferior a 45 minutos

Aplicaciones para clientes

Datos técnicos

Modo QXModo FX
Rendimiento de escritura
Cuadrícula de direcciones [nm]410
Rugosidad del borde de la línea [3σ, nm]2040
Precisión de posición [3σ, nm]4080
Superposición [3σ, nm]3060
Costura [3σ, nm]2060
Alineación 2ª capa [error máx / nm]100100
Uniformidad CD [3σ, nm]3060
Tamaño mínimo del rasgo [nm]500700
Velocidad de escritura [mm² / min]325580
Tiempo de escritura para 6″ x 6″ [min]7545
Operación
Interfaz de usuario (software)GUI conforme a SEMI
Área máxima de escritura228 x 228 mm² (otros bajo pedido)
Tamaño del sustratoMáscaras de 4", 5", 6", 7" y 9" (más grandes y otros sustratos bajo pedido)
Características del sistema
ÓpticaLente objetivo de 0,9 NA
Óptica UV de baja distorsión
Rutinas de calibración automática
LáserLáser de estado sólido de alta potencia bombeado por diodos con una longitud de onda de 355 nm
Sistema de enfoqueAutoenfoque óptico en tiempo real
AlineaciónSistema de cámara
Compensación de la distorsión
Alineación global y campo a campo
Detector de bordes
Ruta de datosCompresión en tiempo real
Concepto de hardware escalable
Formatos de entrada: Todos los formatos estándar, por ejemplo GDSII y Jobdeck
Modulador espacial de luzFrecuencia 350 kHz
Velocidad de transmisión de datos 2,4 GB/s
AutomatizaciónManipulación totalmente automática de máscaras con dos estaciones portadoras de hasta 9"; protocolos SECS/GEM opcionales
Dimensiones del sistemaSistema / Bastidor electrónico
Anchura [mm]2995 / 800
Profundidad [mm]1652 / 650
Altura [mm]2102 / 1800
Peso [kg]3400 / 180
Requisitos de instalación
Eléctrico400 VCA ± 5%, 50/60 Hz, 16 A, 3 fases
Aire comprimido7 - 10 bar (sin aceite ni otros residuos)

Ten en cuenta
Las especificaciones dependen de las condiciones individuales del proceso y pueden variar según la configuración del equipo. La velocidad de escritura depende del tamaño del píxel y del modo de escritura. El diseño y las especificaciones están sujetos a cambios sin previo aviso.

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