Escritura de fotomáscaras de alto rendimiento y precisión para nodos semiconductores maduros
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Descripción del producto
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En el competitivo panorama de la fabricación de semiconductores maduros, te enfrentas a un reto crítico: cómo aumentar el rendimiento y mantener una calidad excepcional sin aumentar los costes. La grabadora de máscaras láser ULTRA está diseñada para resolver exactamente este problema. Proporciona una solución potente y rentable para producir fotomáscaras para microcontroladores, circuitos integrados de gestión de energía, LED, dispositivos IoT, fotónica y MEMS, con la velocidad, precisión y fiabilidad que necesitas para maximizar tu rendimiento y rentabilidad.
¿Por qué elegir la ULTRA?
La ULTRA integra tecnología punta para responder a las principales preocupaciones de los talleres de máscaras modernos: velocidad, precisión y rentabilidad de la inversión.
Acelera tu producción con un alto rendimiento
Minimiza el tiempo de inactividad de la herramienta y cumple los exigentes programas de producción con una productividad que supera a las herramientas heredadas. El avanzado motor de exposición de la ULTRA y los modos de escritura optimizados reducen drásticamente los tiempos de escritura de máscaras, permitiéndote producir una fotomáscara estándar de 6″ en menos de 45 minutos.
- Rápido motor de exposición basado en SLM: Ofrece velocidades de escritura de hasta 580 mm²/minuto sin comprometer la calidad.
- Manejo totalmente automático de máscaras: Reduce la sobrecarga del operario con una interfaz de carga de máscaras sencilla y fácil de usar, y garantiza una carga y descarga uniformes y repetibles para un funcionamiento continuo.
- Modos de escritura optimizados: Proporciona la flexibilidad de priorizar la velocidad o la resolución para adaptarse a los requisitos específicos de tu trabajo.
Consigue el máximo rendimiento con una precisión sin concesiones
Cada nanómetro cuenta. La ULTRA está construida sobre una base de componentes de alta precisión para garantizar una uniformidad superior de superposición, registro y Dimensión Crítica (CD), máscara tras máscara.
- Sistema de platina de alta precisión: Una platina totalmente neumática y un plato ZERODUR® de expansión térmica cero proporcionan la máxima estabilidad y eliminan la desviación térmica.
- Control de posición avanzado: Un sistema de interferómetro diferencial de alta resolución garantiza una colocación de los elementos extremadamente precisa y repetible.
- Funciones de ajuste de herramientas: Las funciones de corrección integradas te permiten igualar con precisión la salida de varias máquinas, garantizando la coherencia en todo tu conjunto de máscaras.
Calidad de imagen superior e integración perfecta
Produce fotomáscaras impecables con una fidelidad de rasgos que cumple las normas más estrictas. La óptica personalizada de la ULTRA proporciona estructuras nítidas y bien definidas hasta 500 nm. Su estudiado diseño garantiza que se adapte sin esfuerzo a tus instalaciones actuales.
- Óptica personalizada de alta AN: Nuestra lente de escritura diseñada a medida y la óptica UV de baja distorsión garantizan una calidad de imagen y una uniformidad de estructura excepcionales.
- Huella compacta: El sistema está diseñado para ocupar un espacio mínimo en la sala blanca, lo que permite integrarlo fácilmente en la infraestructura existente de un taller de máscaras sin costosas renovaciones.
- Fiabilidad probada: La ULTRA es una plataforma cualificada y probada en el sector en la que confían los principales talleres de fotomáscaras de todo el mundo.
Eleva tu producción de fotomáscaras
¿Estás listo para ver cómo la ULTRA puede reducir tus tiempos de ciclo y aumentar tu rendimiento? Ponte en contacto hoy mismo con nuestros expertos para hablar de tu aplicación.
En el competitivo panorama de la fabricación de semiconductores maduros, te enfrentas a un reto crítico: cómo aumentar el rendimiento y mantener una calidad excepcional sin aumentar los costes. La grabadora de máscaras láser ULTRA está diseñada para resolver exactamente este problema. Proporciona una solución potente y rentable para producir fotomáscaras para microcontroladores, circuitos integrados de gestión de energía, LED, dispositivos IoT, fotónica y MEMS, con la velocidad, precisión y fiabilidad que necesitas para maximizar tu rendimiento y rentabilidad.
¿Por qué elegir la ULTRA?
La ULTRA integra tecnología punta para responder a las principales preocupaciones de los talleres de máscaras modernos: velocidad, precisión y rentabilidad de la inversión.
Acelera tu producción con un alto rendimiento
Minimiza el tiempo de inactividad de la herramienta y cumple los exigentes programas de producción con una productividad que supera a las herramientas heredadas. El avanzado motor de exposición de la ULTRA y los modos de escritura optimizados reducen drásticamente los tiempos de escritura de máscaras, permitiéndote producir una fotomáscara estándar de 6″ en menos de 45 minutos.
- Rápido motor de exposición basado en SLM: Ofrece velocidades de escritura de hasta 580 mm²/minuto sin comprometer la calidad.
- Manejo totalmente automático de máscaras: Reduce la sobrecarga del operario con una interfaz de carga de máscaras sencilla y fácil de usar, y garantiza una carga y descarga uniformes y repetibles para un funcionamiento continuo.
- Modos de escritura optimizados: Proporciona la flexibilidad de priorizar la velocidad o la resolución para adaptarse a los requisitos específicos de tu trabajo.
Consigue el máximo rendimiento con una precisión sin concesiones
Cada nanómetro cuenta. La ULTRA está construida sobre una base de componentes de alta precisión para garantizar una uniformidad superior de superposición, registro y Dimensión Crítica (CD), máscara tras máscara.
- Sistema de platina de alta precisión: Una platina totalmente neumática y un plato ZERODUR® de expansión térmica cero proporcionan la máxima estabilidad y eliminan la desviación térmica.
- Control de posición avanzado: Un sistema de interferómetro diferencial de alta resolución garantiza una colocación de los elementos extremadamente precisa y repetible.
- Funciones de ajuste de herramientas: Las funciones de corrección integradas te permiten igualar con precisión la salida de varias máquinas, garantizando la coherencia en todo tu conjunto de máscaras.
Calidad de imagen superior e integración perfecta
Produce fotomáscaras impecables con una fidelidad de rasgos que cumple las normas más estrictas. La óptica personalizada de la ULTRA proporciona estructuras nítidas y bien definidas hasta 500 nm. Su estudiado diseño garantiza que se adapte sin esfuerzo a tus instalaciones actuales.
- Óptica personalizada de alta AN: Nuestra lente de escritura diseñada a medida y la óptica UV de baja distorsión garantizan una calidad de imagen y una uniformidad de estructura excepcionales.
- Huella compacta: El sistema está diseñado para ocupar un espacio mínimo en la sala blanca, lo que permite integrarlo fácilmente en la infraestructura existente de un taller de máscaras sin costosas renovaciones.
- Fiabilidad probada: La ULTRA es una plataforma cualificada y probada en el sector en la que confían los principales talleres de fotomáscaras de todo el mundo.
Eleva tu producción de fotomáscaras
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Productos destacados
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Alta calidad de exposición
Lente de escritura personalizada de alta AN y óptica UV de baja distorsiónAlta precisión
Etapa de soporte neumático completo; plato ZERODUR® de expansión térmica cero; interferómetro diferencial de alta resolución; funciones de corrección de la etapa y de adaptación de la herramientaAlto rendimiento
Motor de exposición rápido basado en SLM; modo rápido; tiempo de escritura de 6″ inferior a 45 minutos -
Módulos disponibles
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En el competitivo panorama de la fabricación de semiconductores maduros, te enfrentas a un reto crítico: cómo aumentar el rendimiento y mantener una calidad excepcional sin aumentar los costes. La grabadora de máscaras láser ULTRA está diseñada para resolver exactamente este problema. Proporciona una solución potente y rentable para producir fotomáscaras para microcontroladores, circuitos integrados de gestión de energía, LED, dispositivos IoT, fotónica y MEMS, con la velocidad, precisión y fiabilidad que necesitas para maximizar tu rendimiento y rentabilidad.
¿Por qué elegir la ULTRA?
La ULTRA integra tecnología punta para responder a las principales preocupaciones de los talleres de máscaras modernos: velocidad, precisión y rentabilidad de la inversión.
Acelera tu producción con un alto rendimiento
Minimiza el tiempo de inactividad de la herramienta y cumple los exigentes programas de producción con una productividad que supera a las herramientas heredadas. El avanzado motor de exposición de la ULTRA y los modos de escritura optimizados reducen drásticamente los tiempos de escritura de máscaras, permitiéndote producir una fotomáscara estándar de 6″ en menos de 45 minutos.
- Rápido motor de exposición basado en SLM: Ofrece velocidades de escritura de hasta 580 mm²/minuto sin comprometer la calidad.
- Manejo totalmente automático de máscaras: Reduce la sobrecarga del operario con una interfaz de carga de máscaras sencilla y fácil de usar, y garantiza una carga y descarga uniformes y repetibles para un funcionamiento continuo.
- Modos de escritura optimizados: Proporciona la flexibilidad de priorizar la velocidad o la resolución para adaptarse a los requisitos específicos de tu trabajo.
Consigue el máximo rendimiento con una precisión sin concesiones
Cada nanómetro cuenta. La ULTRA está construida sobre una base de componentes de alta precisión para garantizar una uniformidad superior de superposición, registro y Dimensión Crítica (CD), máscara tras máscara.
- Sistema de platina de alta precisión: Una platina totalmente neumática y un plato ZERODUR® de expansión térmica cero proporcionan la máxima estabilidad y eliminan la desviación térmica.
- Control de posición avanzado: Un sistema de interferómetro diferencial de alta resolución garantiza una colocación de los elementos extremadamente precisa y repetible.
- Funciones de ajuste de herramientas: Las funciones de corrección integradas te permiten igualar con precisión la salida de varias máquinas, garantizando la coherencia en todo tu conjunto de máscaras.
Calidad de imagen superior e integración perfecta
Produce fotomáscaras impecables con una fidelidad de rasgos que cumple las normas más estrictas. La óptica personalizada de la ULTRA proporciona estructuras nítidas y bien definidas hasta 500 nm. Su estudiado diseño garantiza que se adapte sin esfuerzo a tus instalaciones actuales.
- Óptica personalizada de alta AN: Nuestra lente de escritura diseñada a medida y la óptica UV de baja distorsión garantizan una calidad de imagen y una uniformidad de estructura excepcionales.
- Huella compacta: El sistema está diseñado para ocupar un espacio mínimo en la sala blanca, lo que permite integrarlo fácilmente en la infraestructura existente de un taller de máscaras sin costosas renovaciones.
- Fiabilidad probada: La ULTRA es una plataforma cualificada y probada en el sector en la que confían los principales talleres de fotomáscaras de todo el mundo.
Eleva tu producción de fotomáscaras
¿Estás listo para ver cómo la ULTRA puede reducir tus tiempos de ciclo y aumentar tu rendimiento? Ponte en contacto hoy mismo con nuestros expertos para hablar de tu aplicación.
En el competitivo panorama de la fabricación de semiconductores maduros, te enfrentas a un reto crítico: cómo aumentar el rendimiento y mantener una calidad excepcional sin aumentar los costes. La grabadora de máscaras láser ULTRA está diseñada para resolver exactamente este problema. Proporciona una solución potente y rentable para producir fotomáscaras para microcontroladores, circuitos integrados de gestión de energía, LED, dispositivos IoT, fotónica y MEMS, con la velocidad, precisión y fiabilidad que necesitas para maximizar tu rendimiento y rentabilidad.
¿Por qué elegir la ULTRA?
La ULTRA integra tecnología punta para responder a las principales preocupaciones de los talleres de máscaras modernos: velocidad, precisión y rentabilidad de la inversión.
Acelera tu producción con un alto rendimiento
Minimiza el tiempo de inactividad de la herramienta y cumple los exigentes programas de producción con una productividad que supera a las herramientas heredadas. El avanzado motor de exposición de la ULTRA y los modos de escritura optimizados reducen drásticamente los tiempos de escritura de máscaras, permitiéndote producir una fotomáscara estándar de 6″ en menos de 45 minutos.
- Rápido motor de exposición basado en SLM: Ofrece velocidades de escritura de hasta 580 mm²/minuto sin comprometer la calidad.
- Manejo totalmente automático de máscaras: Reduce la sobrecarga del operario con una interfaz de carga de máscaras sencilla y fácil de usar, y garantiza una carga y descarga uniformes y repetibles para un funcionamiento continuo.
- Modos de escritura optimizados: Proporciona la flexibilidad de priorizar la velocidad o la resolución para adaptarse a los requisitos específicos de tu trabajo.
Consigue el máximo rendimiento con una precisión sin concesiones
Cada nanómetro cuenta. La ULTRA está construida sobre una base de componentes de alta precisión para garantizar una uniformidad superior de superposición, registro y Dimensión Crítica (CD), máscara tras máscara.
- Sistema de platina de alta precisión: Una platina totalmente neumática y un plato ZERODUR® de expansión térmica cero proporcionan la máxima estabilidad y eliminan la desviación térmica.
- Control de posición avanzado: Un sistema de interferómetro diferencial de alta resolución garantiza una colocación de los elementos extremadamente precisa y repetible.
- Funciones de ajuste de herramientas: Las funciones de corrección integradas te permiten igualar con precisión la salida de varias máquinas, garantizando la coherencia en todo tu conjunto de máscaras.
Calidad de imagen superior e integración perfecta
Produce fotomáscaras impecables con una fidelidad de rasgos que cumple las normas más estrictas. La óptica personalizada de la ULTRA proporciona estructuras nítidas y bien definidas hasta 500 nm. Su estudiado diseño garantiza que se adapte sin esfuerzo a tus instalaciones actuales.
- Óptica personalizada de alta AN: Nuestra lente de escritura diseñada a medida y la óptica UV de baja distorsión garantizan una calidad de imagen y una uniformidad de estructura excepcionales.
- Huella compacta: El sistema está diseñado para ocupar un espacio mínimo en la sala blanca, lo que permite integrarlo fácilmente en la infraestructura existente de un taller de máscaras sin costosas renovaciones.
- Fiabilidad probada: La ULTRA es una plataforma cualificada y probada en el sector en la que confían los principales talleres de fotomáscaras de todo el mundo.
Eleva tu producción de fotomáscaras
¿Estás listo para ver cómo la ULTRA puede reducir tus tiempos de ciclo y aumentar tu rendimiento? Ponte en contacto hoy mismo con nuestros expertos para hablar de tu aplicación.
Alta calidad de exposición
Alta precisión
Alto rendimiento
Aplicaciones para clientes
Datos técnicos
Modo QX | Modo FX | |
---|---|---|
Rendimiento de escritura | ||
Cuadrícula de direcciones [nm] | 4 | 10 |
Rugosidad del borde de la línea [3σ, nm] | 20 | 40 |
Precisión de posición [3σ, nm] | 40 | 80 |
Superposición [3σ, nm] | 30 | 60 |
Costura [3σ, nm] | 20 | 60 |
Alineación 2ª capa [error máx / nm] | 100 | 100 |
Uniformidad CD [3σ, nm] | 30 | 60 |
Tamaño mínimo del rasgo [nm] | 500 | 700 |
Velocidad de escritura [mm² / min] | 325 | 580 |
Tiempo de escritura para 6″ x 6″ [min] | 75 | 45 |
Operación | |
---|---|
Interfaz de usuario (software) | GUI conforme a SEMI |
Área máxima de escritura | 228 x 228 mm² (otros bajo pedido) |
Tamaño del sustrato | Máscaras de 4", 5", 6", 7" y 9" (más grandes y otros sustratos bajo pedido) |
Características del sistema | |
Óptica | Lente objetivo de 0,9 NA Óptica UV de baja distorsión Rutinas de calibración automática |
Láser | Láser de estado sólido de alta potencia bombeado por diodos con una longitud de onda de 355 nm |
Sistema de enfoque | Autoenfoque óptico en tiempo real |
Alineación | Sistema de cámara Compensación de la distorsión Alineación global y campo a campo Detector de bordes |
Ruta de datos | Compresión en tiempo real Concepto de hardware escalable Formatos de entrada: Todos los formatos estándar, por ejemplo GDSII y Jobdeck |
Modulador espacial de luz | Frecuencia 350 kHz Velocidad de transmisión de datos 2,4 GB/s |
Automatización | Manipulación totalmente automática de máscaras con dos estaciones portadoras de hasta 9"; protocolos SECS/GEM opcionales |
Dimensiones del sistema | Sistema / Bastidor electrónico |
Anchura [mm] | 2995 / 800 |
Profundidad [mm] | 1652 / 650 |
Altura [mm] | 2102 / 1800 |
Peso [kg] | 3400 / 180 |
Requisitos de instalación | |
Eléctrico | 400 VCA ± 5%, 50/60 Hz, 16 A, 3 fases |
Aire comprimido | 7 - 10 bar (sin aceite ni otros residuos) |
Ten en cuenta
Las especificaciones dependen de las condiciones individuales del proceso y pueden variar según la configuración del equipo. La velocidad de escritura depende del tamaño del píxel y del modo de escritura. El diseño y las especificaciones están sujetos a cambios sin previo aviso.